专利名称：液晶面板及其制造方法和液晶显示器的制作方法
技术领域：
本发明涉及液晶显示技术，尤其涉及一种液晶面板及其制造方法和液晶显示器。
背景技术：
液晶显示器是目前常用的平板显示器，其中薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display，简称TFT-LCD)是液晶显示器中的主流产品。液晶面板是液晶显示器中的重要部件，主要包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，其间填充有液晶层。图1为现有阵列基板的俯视结构示意图，阵列基板的第一衬底基板101上形成有横纵交叉的多条数据线103和栅线102，围设形成矩阵形式排列的多个像素单元。数据线 103所在层与栅线102所在层之间以栅绝缘层相互间隔。像素单元所在区域可称为像素区域110，阵列基板上除了像素区域110以外的周边区域可称为外围区域120。数据线103和栅线102延伸至外围区域120中，以便与驱动电路相连。阵列基板上还形成有多条公共电极线105，公共电极线105 —般与栅线102同层形成且相互平行，公共电极线105延伸至外围区域120，以便与彩膜基板上的公共电极相连。公共电极线105 —般通过汇聚线106连通至阵列基板的四角，汇聚线106可以形成在数据线103所在层，通过栅绝缘层中的汇聚线过孔107与各公共电极线105相连。彩膜基板的第二衬底基板上形成间隔设置的彩膜树脂和黑矩阵，并形成有覆盖整个第二衬底基板的公共电极。阵列基板和彩膜基板对盒后，公共电极线和公共电极之间通过封框胶内的导电球相导通。由于在对盒操作之后可能发现数据线和栅线存在断线的缺陷，所以现有技术采用维修线来进行修复，从维修线的角度，可将数据线和栅线区分为目标修复线以及非目标修复线。下面以修复数据线的数据维修线为例进行说明，修复栅线的栅维修线设计原理与此相似。如图1所示，此时栅线102和汇聚线106作为非目标修复线，数据线103作为目标修复线。数据维修线108形成在外围区域120围成一圈，在数据线103的延伸处，即图1中的上边和下边，数据维修线108与栅线102同层形成；在栅线102的延伸处，即图1中的左边和右边，数据维修线108与数据线103同层形成；四边的数据维修线108在四角处通过栅绝缘层104中的维修线过孔109相连通。若数据线103没有断线情况，则数据维修线108不影响液晶面板其他结构的工作，若数据线103出现断线情况，则将断线的数据线103与数据维修线108在相交处用化学汽相沉积(Chemical Vapor D印osition，简称CVD)方法连接， 并将该数据维修线108断开。则该数据线103能够通过周边的数据维修线108连通。若断线或断点太多而无法修复，则此液晶面板将报废。上述数据维修线108方案存在的缺陷在于数据维修线108与栅线102和公共电极线105的汇聚线106存在交叠的区域，如图1中的第一交叠区域A和第二交叠区域B。当数据维修线108与数据线103连通传输图像电压信号时，与栅线102和汇聚线106之间会产生耦合电容。
对于栅维修线，类似的在左边和右边与数据线同层设置，在上边和下边与栅线同层设置，在四角通过过孔相连，栅维修线会与数据线之间有交叠区域产生耦合电容。电容的耦合导致信号衰减，从而影响维修线正常应用。尤其限制了大尺寸液晶显示器中维修线方案的实施，在大尺寸液晶显示器中，维修线的长度增加，线电阻增加，对信号的衰减作用更强。
发明内容
本发明提供一种液晶面板及其制造方法和液晶显示器，以优化维修线的布设方案，减小耦合电容的影响。本发明提供一种液晶面板，包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，其间填充有液晶层，所述阵列基板的第一衬底基板上至少形成有目标修复线，其中，还包括第一维修线，形成在所述第一衬底基板上，且位于所述阵列基板的外围区域，所述第一维修线与所述目标修复线异层设置且相互交叉；第二维修线，形成在所述彩膜基板的第二衬底基板上；导电体，形成在所述阵列基板和彩膜基板之间，连通所述第一维修线和第二维修线。本发明还提供了一种液晶显示器，其中包括本发明所提供的液晶面板。本发明又提供了一种液晶面板的制造方法，包括分别制作阵列基板和彩膜基板， 且将所述阵列基板和彩膜基板对盒并填充液晶层的流程，制作阵列基板的流程至少包括在第一衬底基板上形成目标修复线图案的步骤，其中还包括在第一衬底基板上形成第一维修线的图案，所述第一维修线位于所述阵列基板的外围区域，所述第一维修线与所述目标修复线异层设置且相互交叉；在所述彩膜基板的第二衬底基板上形成第二维修线的图案；在将所述阵列基板和彩膜基板对盒时，在所述阵列基板和彩膜基板之间形成导电体，所述导电体连通所述第一维修线和第二维修线。本发明提供的液晶面板及其制造方法和液晶显示器，通过将部分维修线设置在彩膜基板上，增加了维修线与阵列基板上各线路重叠区域之间的距离，能够减小耦合电容值， 减小耦合电容对维修线中所传输信号的衰减作用。
图1为现有阵列基板的俯视结构示意图；图2为本发明实施例一提供的液晶面板的侧视剖面结构示意图；图3为图2中液晶面板的阵列基板的俯视结构示意图；图4为图2中液晶面板的彩膜基板的俯视结构示意图；图5为本发明实施例二提供的液晶面板的侧视剖面结构示意图；图6为图5中液晶面板的阵列基板的俯视结构示意图；图7为图5中液晶面板的彩膜基板的俯视结构示意图；图8为本发明实施例三提供的液晶面板中阵列基板的局部俯视结构示意图；图9为本发明实施例四提供的液晶面板的制造方法中制造阵列基板的流程5
图10为本发明实施例四提供的液晶面板的制造方法中制造彩膜基板的流程图。附图标记101-第一衬底基板；102-栅线；103-数据线；
104-栅绝缘层；105-公共电极线；106-汇聚线；
107-汇聚线过孔；108-数据维修线；109-维修线过孔
110-像素区域；111-第一维修线；112-连接过孔；
113-连接电极；114-钝化层；120-外围区域；
201-第二衬底基板；202-彩膜树脂；203-黑矩阵；
204-公共电极；205-第二维修线；301-导电球；1-焊接点；2-切断点。
具体实施例方式为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。实施例一图2为本发明实施例一提供的液晶面板的侧视剖面结构示意图。该液晶面板包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，其间填充有液晶层。图3为图2中液晶面板的阵列基板的俯视结构示意图，且图2的阵列基板沿图3 中的C-C线进行剖切。如图3所示，阵列基板包括第一衬底基板101，第一衬底基板101上形成各种导电结构和绝缘层，以构成有源矩阵的像素单元。在阵列基板的第一衬底基板101 上主要分为像素单元所在的像素区域Iio和像素区域110周边的外围区域120。第一衬底基板101上的导电结构至少包括目标修复线，其他的非目标修复线可以是与目标修复线异层设置且横纵交叉的。本实施例具体以数据线103作为目标修复线、以栅线102作为非目标修复线为例进行说明。数据线103和栅线102横纵交叉且异层设置，以栅绝缘层104相互间隔，数据线 103和栅线102均延伸至外围区域120。阵列基板上的公共电极线105与栅线102同层设置，在外围区域120以汇聚线106连接至四角，其目的是简化栅线102侧的线路布设。本实施例中，汇聚线106也相当于是非目标修复线。该阵列基板上还设置有两条第一维修线 111，形成在第一衬底基板101上，且位于阵列基板的外围区域120，第一维修线111与数据线103异层设置且分别与数据线103的两端相互交叉。在第一维修线111上覆盖的栅绝缘层104中形成有四个连接过孔112，连接过孔112位于第一维修线111的上方，对应于每条第一维修线111的两端。在连接过孔112中填充有连接电极113，连接电极113与数据线 103相连接且露出在阵列基板的表面。该连接电极113优选是与阵列基板上的像素电极同层形成，且连接电极113的图案与像素电极的图案相互间隔，可以利用已有形成像素电极的工艺去形成连接电极113，不增加工艺复杂度。像素电极一般与数据线103异层设置，可以通过钝化层114相互间隔。则连接电极113可以通过钝化层114与数据线103等保持绝缘。
图4为图2中液晶面板的彩膜基板的俯视结构示意图，且图2中的彩膜基板沿图 4中的D-D线进行剖切。彩膜基板包括第二衬底基板201，其上间隔设置彩膜树脂202和黑矩阵203，还包括覆盖在彩膜树脂202和黑矩阵203上的公共电极204。在第二衬底基板 201上，还形成有两条第二维修线205，第二维修线205位于彩膜基板的表面，且对应地分别位于第一维修线111的两端。在对盒后，第二维修线205分别与栅线102的两端相互交叉。 第二维修线205优选与公共电极204同层形成，可以利用公共电极204的材料，通过构图工艺分别形成第二维修线205和公共电极204的图案，第二维修线205的图案与公共电极204 的图案相互间隔。在彩膜基板和阵列基板之间还包括导电体，形成在阵列基板和彩膜基板之间，导电体通过接触连接电极113来连通第二维修线205和第一维修线111，从而使得第二维修线 205和第一维修线111首尾连接成环。优选的是连接电极113的面积大于连接过孔112的面积，能够增加导电体与连接电极113接触的可靠性。导电体优选是掺杂在封框胶中的导电球301，封框胶涂覆在设定位置。以包括导电球301的封框胶连通公共电极204和公共电极线105是已有技术，本实施例可以利用这一已有工艺，不增加工艺难度，公共电极204和公共电极线105相应调整一下位置即仍然可以保持以导电球301相互连通。第一维修线的作用在于当数据线断线时，通过数据线两端的第一维修线来连通， 第二维修线的作用在于连通两根第一维修线。液晶面板在使用过程中，为避免对显示的影响，维修线需要制备在外围区域，难以避免与已有的导电线路的交叠。采用本实施例的技术方案，第二维修线形成在彩膜基板上，即使存在交叠部分，由于交叠部分的两导电图案之间的距离从原有的一个绝缘层的距离增加到两基板之间的距离，因此可以显著降低交叠部分耦合电容的电容值。所以，耦合电容对维修线中所传输信号的影响减小，优化了显示品质。 尤其在大尺寸液晶面板中也可以采用维修线的技术，避免了大尺寸液晶面板因为无维修线而无法修复的缺陷。实施例二图5为本发明实施例二提供的液晶面板的侧视剖面结构示意图，图6为图5中液晶面板的阵列基板的俯视结构示意图，且图5的阵列基板沿图6中的E-E线进行剖切，图7 为图5中液晶面板的彩膜基板的俯视结构示意图，且图5的彩膜基板沿图7中的F-F线进行剖切。本实施例与实施例一的区别在于本实施例中以栅线102作为维修线的目标修复线，以数据线103作为非目标修复线。当存在公共电极线105，或者公共电极线105以汇聚线106连通时，公共电极线105或汇聚线106等也相当于是非目标修复线。在本实施例中，两根第一维修线111分别位于栅线102的两端，与栅线102的两端相互交叉，第一维修线111优选与作为非目标修复线的数据线103同层形成。两条第二维修线205形成在彩膜基板上，与数据线103对应地相互交叉。第一维修线111与第二维修线205通过导电球301和连接电极113相互连通。本实施例与实施例一类似，能够实现对栅线的修复，且减小了维修线与其他金属线之间交叠区域的耦合电容，能够减少维修线中传输信号的衰减，提高了显示品质。实施例一和实施例二的技术方案可以独立采用，也可以结合采用。外围区域可以设置一圈或多圈数据线的维修线，也可以设置一圈或多圈栅线的维修线。各圈维修线相互错开一定距离即可，互相没有影响。
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第一维修线、第二维修线和连接过孔的数量均不限于实施例一和实施例二所示， 第二维修线只要能够按照要求连通第一维修线即可，第一维修线的数量和位置按照目标修复线的维修需求设计，连接过孔的数量和位置根据第一维修线和第二维修线的连通位置需要而设定。一根第二维修线可以连接两根第一维修线，两根第二维修线可以将两根第一维修线首尾相连成环。实施例三图8为本发明实施例三提供的液晶面板中阵列基板的局部俯视结构示意图。在本实施例中，以数据线103为目标修复线为例进行说明，栅线102作为目标修复线的情况与此类似。在本实施例中，第二维修线205(图8中点划线所示区域为相应的彩膜基板上第二维修线的位置)与作为目标修复线的数据线103相互交叉，且与第一维修线111相互错开一定的距离；连接过孔112形成在至少两条数据线103的侧边，本实施例中具体是形成在每条数据线103的侧边；连接电极113的图案延伸至第二维修线205的下方。第二维修线205与第一维修线111错开的目的在于液晶面板在对盒后实施修复时，应避免第二维修线205对第一维修线111的遮挡。当需要修复某条数据线103时，将该数据线103与第一维修线111的交叉位置相互焊接以形成焊接点1，并在该数据线103两侧连接电极113外侧的位置将第一维修线111切断以形成切断点2。该条数据线103的对端作同样的修复操作。通过这样的修复方案，该条断开的数据线103能够通过连接电极113、 导电球301和第二维修线205连接至第一维修线111，再连接至对端，完成修复。第一维修线111断开后不会与各条数据线103形成耦合电容，第二维修线205与各条数据线103相互交叉来导通图像电压信号，但是由于距离增大可以显著减小耦合电容的影响。对于只有两条数据线的侧边形成连接电极的情况，若这两条数据线之间的某条数据线断开，可以进行焊接，并将两条连接电极两侧切断，则图像电压信号在这两条连接电极两端的区域中会经过第二维修线，在一定程度上可以起到减小耦合电容的作用。连接电极的设置密度可以根据需要设定，例如间隔几条数据线即设置一个连接电极，从而兼顾减小耦合电容和工艺实施难度两方面问题。在本实施例中，第一维修线111可以如图8所示这样在阵列基板上形成环状，或者也可以为独立的图案，结合前述实施例所示的由第二维修线205连接成环。本发明所提供的液晶面板，第一维修线和第二维修线并不限于通过连接过孔和连接电极相连通。例如，第一维修线和第二维修线都可以形成在基板的表面层，直接通过导电体相连。或者，第二维修线也可以通过设置在彩膜基板上的类似连接过孔和连接电极导引至基板表面，从而实现连通。本发明实施例还提供了一种液晶显示器，包括本发明任意实施例所提供的液晶面板。通过将部分维修线设置在彩膜基板上，增加了维修线与阵列基板上其他线路重叠区域之间的距离，能够减小耦合电容，减小耦合电容对维修线中所传输信号的衰减作用。本发明实施例还提供了一种液晶面板的制造方法，包括分别制作阵列基板和彩膜基板，且将阵列基板和彩膜基板对盒并填充液晶层的流程，制作阵列基板的流程至少包括在第一衬底基板上形成目标修复线图案的步骤，且还包括在第一衬底基板上形成第一维修线的图案，该第一维修线位于阵列基板的外围区域，第一维修线与目标修复线异层设置且相互交叉；
在彩膜基板的第二衬底基板上形成第二维修线的图案；在将阵列基板和彩膜基板对盒时，在阵列基板和彩膜基板之间形成导电体，该导电体连通第一维修线和第二维修线。其中，在阵列基板和彩膜基板之间形成导电体具体可以为在阵列基板和彩膜基板之间涂覆封框胶，该封框胶中掺杂有导电球，导电球作为导电体。可以将第一维修线和第二维修线均形成在基板的表面，以便直接与导电体接触。 实际应用中，目标修复线一般是数据线或栅线等。目标修复线为数据线时，则第一维修线与栅线采用构图工艺同步形成。目标修复线为栅线时，则第一维修线与数据线采用构图工艺同步形成。第一维修线一般形成在栅线层或数据线层，所以，还可以进一步包括制备连接过孔和连接电极的步骤，即在第一维修线上覆盖的绝缘层中形成至少两个连接过孔，连接过孔位于第一维修线的上方；在连接过孔中填充连接电极，该连接电极连接第一维修线且露出在阵列基板的表面。第二维修线的图案一般位于彩膜基板的表面，导电体可通过接触连接电极连通第一维修线和第二维修线。为减少对已有工艺的改变，优选是第二维修线与彩膜基板上的公共电极采用构图工艺同步形成，且第二维修线的图案与公共电极的图案相互间隔；连接电极与阵列基板上的像素电极采用构图工艺同步形成，且连接电极的图案与像素电极的图案相互间隔。由于液晶面板的具体制备工艺取决于液晶面板中的结构，本申请的技术方案可以对应的有多种具体实施方式
，下面以典型的四次掩膜构图工艺为例进行说明。实施例四图9和图10分别为本发明实施例四提供的液晶面板的制造方法中制造阵列基板和彩膜基板的流程图，本实施例具体以形成实施例一中液晶面板结构为例进行说明。制造阵列基板的方法如图9所示，包括步骤11、在第一衬底基板上采用磁控溅射工艺沉积栅金属薄膜，通过构图工艺形成包括栅线、栅电极、公共电极线、汇聚线和第一维修线的图案；栅金属薄膜的厚度为1000人至7000A，可以采用钼、铝、铝镍合金、钼钨合金、铬、 或铜等金属，也可以使用上述几种材料薄膜的组合结构。构图工艺具体包括采用掩膜版进行曝光、显影和化学刻蚀等一系列操作。步骤12、采用化学汽相沉积法在形成上述图案的第一衬底基板上连续沉积栅绝缘层薄膜、非晶硅薄膜和数据线金属薄膜，采用双色调掩膜版进行构图工艺形成包括数据线、 源电极、漏电极和有源层的图案；栅绝缘层薄膜材料通常是氮化硅，也可以使用氧化硅和氮氧化硅等，其厚度为 1000A到6000A，非晶硅薄膜的厚度约为1000人到6000A,数据线金属薄膜的材料与栅线的材料相同，其厚度约为10 O O人到7 O O O人。步骤13、在形成上述图案的第一衬底基板上沉积钝化层薄膜，通过构图工艺形成
9包括钝化层过孔和连接过孔的图案；钝化层过孔对应于漏电极的位置，形成在钝化层中。连接过孔对应于第一维修线的位置，且形成在钝化层和栅绝缘层中。钝化层的材料可以为氮化硅或二氧化硅，其厚度约
为 ioooA 到6000A。步骤14、在形成上述图案的第一衬底基板上沉积透明导电薄膜，通过构图工艺形成包括像素电极和连接电极的图案。透明导电薄膜的材料可以为铟锡氧化物(Indium Tin Oxides,简称ITO)或铟锌氧化物andium Zinc Oxides，简称IZO)或氧化铝锌，其厚度在1 00人至1 OOO人之间。制造彩膜基板的方法如图10所示，包括步骤21、在第二衬底基板上利用化学汽相沉积法沉积红色树脂层，通过构图工艺形成红色的彩膜树脂；步骤22、在形成上述图案的第二衬底基板上利用化学汽相沉积法沉积绿色树脂层，通过构图工艺形成绿色的彩膜树脂；步骤23、在形成上述图案的第二衬底基板上利用化学汽相沉积法沉积蓝色树脂层，通过构图工艺形成蓝色的彩膜树脂；步骤2I-23的顺序不限，彩膜树脂的厚度约为1000人到3000人。步骤M、在形成上述图案的第二衬底基板上沉积黑色树脂层，通过构图工艺形成黑矩阵，还可以进一步在黑矩阵上形成隔垫物以便在对盒后保持盒厚；步骤25、在形成上述图案的第二衬底基板上沉积透明导电薄膜，通过构图工艺形成包括公共电极层和第二维修线的图案。在完成上述步骤的阵列基板和彩膜基板上涂敷液晶取向膜，并形成取向槽。然后在其中一个基板上滴入液晶，并涂敷封框胶对盒。封框胶中包含有导电球，其直径为3-5微米，约为对盒后的阵列基板与彩膜基板之间的盒厚，第二维修线和连接可以通过导电球连通。为保证可靠相连，需要保证对盒后有一定的压强，约为0. 1-0. 4MPa。本发明提供的液晶面板的制造方法并不限于上述实施例，可以制造本发明任意实施例所提供的液晶面板，根据液晶面板中具体结构的不同有相应的流程。采用本发明的技术方案，对已有制造液晶面板的流程改变较少，因此改进成本低，易于实现。最后应说明的是以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。
权利要求
1.一种液晶面板，包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，其间填充有液晶层，所述阵列基板的第一衬底基板上至少形成有目标修复线，其特征在于，还包括第一维修线，形成在所述第一衬底基板上，且位于所述阵列基板的外围区域，所述第一维修线与所述目标修复线异层设置且相互交叉；第二维修线，形成在所述彩膜基板的第二衬底基板上；导电体，形成在所述阵列基板和彩膜基板之间，连通所述第一维修线和第二维修线。
2.根据权利要求1所述的液晶面板，其特征在于还包括至少两个连接过孔，形成在所述第一维修线上覆盖的绝缘层中，且位于所述第一维修线的上方；在所述连接过孔中填充有连接电极，所述连接电极连接所述第一维修线且露出在所述阵列基板的表面；所述第二维修线位于所述彩膜基板的表面，所述导电体通过接触所述连接电极来连通所述第一维修线和第二维修线。
3.根据权利要求2所述的液晶面板，其特征在于所述目标修复线为数据线或栅线。
4.根据权利要求3所述的液晶面板，其特征在于所述第一维修线的数量为两条，分别与所述目标修复线的两端相互交叉，所述第二维修线的数量为两条，分别位于所述第一维修线的两端，所述连接过孔的数量为四个，分别形成在所述第一维修线的两端，所述第一维修线和第二维修线首尾连接成环。
5.根据权利要求3所述的液晶面板，其特征在于所述第二维修线与所述目标修复线相互交叉，且与所述第一维修线相互错开；所述连接过孔形成在至少两条目标修复线的侧边；所述连接电极的图案延伸至所述第二维修线的下方。
6.根据权利要求2-5任一所述的液晶面板，其特征在于所述第二维修线与彩膜基板上的公共电极同层形成，且所述第二维修线的图案与所述公共电极的图案相互间隔；所述连接电极与阵列基板上的像素电极同层形成，且所述连接电极的图案与所述像素电极的图案相互间隔。
7.根据权利要求2-5任一所述的液晶面板，其特征在于所述连接电极的面积大于所述连接过孔的面积。
8.根据权利要求1-5任一所述的液晶面板，其特征在于所述导电体为掺杂在封框胶中的导电球。
9.一种液晶显示器，其特征在于包括权利要求1-8任一所述的液晶面板。
10.一种液晶面板的制造方法，包括分别制作阵列基板和彩膜基板，且将所述阵列基板和彩膜基板对盒并填充液晶层的流程，制作阵列基板的流程至少包括在第一衬底基板上形成目标修复线图案的步骤，其特征在于，还包括在第一衬底基板上形成第一维修线的图案，所述第一维修线位于所述阵列基板的外围区域，所述第一维修线与所述目标修复线异层设置且相互交叉；在所述彩膜基板的第二衬底基板上形成第二维修线的图案；在将所述阵列基板和彩膜基板对盒时，在所述阵列基板和彩膜基板之间形成导电体， 所述导电体连通所述第一维修线和第二维修线。
11.根据权利要求10所述的液晶面板的制造方法，其特征在于，还包括在所述第一维修线上覆盖的绝缘层中形成至少两个连接过孔，所述连接过孔位于所述第一维修线的上方；在所述连接过孔中填充连接电极，所述连接电极连接所述第一维修线且露出在所述阵列基板的表面；且所述第二维修线的图案位于所述彩膜基板的表面，所述导电体通过接触所述连接电极连通所述第一维修线和第二维修线。
12.根据权利要求11所述的液晶面板的制造方法，其特征在于所述目标修复线为数据线，则所述第一维修线与所述栅线采用构图工艺同步形成；或所述目标修复线为栅线，则所述第一维修线与所述数据线采用构图工艺同步形成。
13.根据权利要求11或12所述的液晶面板的制造方法，其特征在于所述第二维修线与彩膜基板上的公共电极采用构图工艺同步形成，且所述第二维修线的图案与所述公共电极的图案相互间隔；所述连接电极与阵列基板上的像素电极采用构图工艺同步形成，且所述连接电极的图案与所述像素电极的图案相互间隔。
14.根据权利要求10或11或12所述的液晶面板的制造方法，其特征在于，在所述阵列基板和彩膜基板之间形成导电体包括在所述阵列基板和彩膜基板之间涂覆封框胶，所述封框胶中掺杂有导电球，所述导电球作为所述导电体。
全文摘要
本发明公开了一种液晶面板及其制造方法和液晶显示器。该液晶面板包括阵列基板和彩膜基板，阵列基板上至少形成有目标修复线，还包括第一维修线，位于阵列基板的外围区域，与目标修复线异层设置且相互交叉；第二维修线，形成在彩膜基板的第二衬底基板上；导电体，形成在阵列基板和彩膜基板之间，连通第二维修线和连接电极。本发明通过将部分维修线设置在彩膜基板上，增加了维修线与非目标修复线重叠区域之间的距离，能够减小耦合电容，减小耦合电容对维修线中所传输信号的衰减作用。
文档编号G02F1/13GK102213846SQ20101013851
公开日2011年10月12日 申请日期2010年4月1日 优先权日2010年4月1日
发明者秦纬 申请人:北京京东方光电科技有限公司