专利名称：干版显影槽清洗液及清洗方法
技术领域：
本发明涉及干版显影槽清洗技术，更具体地说，涉及一种干版显影槽清洗液及清 洗方法。
背景技术：
显影槽是指干版或其它银盐产品显影装载显影液的专用容器。干版是掩膜版行业 中常用的用于记载图形、文字信息的超微粒银盐玻璃板。使用装载显影液的显影槽显影的 过程是一个化学反应过程，显影后易在显影槽的槽底和槽壁残留一些黑色银离子和强氧化 性残留物，如果清洗不干净，再次使用显影槽时，残留在槽内的黑色银离子和强氧化性残留 物就会混合在显影液中，在显影过程中聚合在干版的表面从而产生黑点类或霉点类缺陷， 从而影响干版的品质。传统采用高锰酸钾、浓硫酸及去离子水配制而成的混合型强氧化性 溶液清洗显影槽，该种清洗液利用高锰酸钾在酸性条件下，所体现得强氧化性能来去除所 需物质，但是这种清洗液存在配置风险高、稳定性能差、去除Ag不强、清洗液配制时间较长 等缺点。
发明内容
本发明要解决的技术问题在于，提供一种干版显影槽清洗液及清洗方法，以快速 有效地去除显影槽内的黑色银离子和强氧化性残留物。本发明解决其技术问题所采用的技术方案是构造一种干版显影槽清洗液，其 成分包括硝酸铈铵、高氯酸和去离子水，且硝酸铈铵高氯酸去离子水=l_13g :l-20ml 25-2000mlo进一步地，硝酸铈铵高氯酸去离子水=l_10g :l-15ml :25-500ml。进一步地，硝酸铈铵高氯酸去离子水=l_8g :10-15ml :25_75ml。构造一种干版显影槽清洗方法，包括如下步骤
(1)将显影槽中的废显影液排出后，用去离子水清洗显影槽，清洗完毕后将废液排出；
(2)将上述的干版显影槽清洗液注入显影槽中清洗，清洗完毕后将废清洗液回收；
(3)在显影槽内加入无磷清洗剂，用去离子水冲洗显影槽，直到无泡沫为止。进一步地，所述步骤(1)中，清洗时间为1分钟。进一步地，所述步骤(2)中，清洗时间为不超过2分钟。进一步地，所述步骤(3)中，采用长柄毛刷进行清洗。实施本发明的干版显影槽清洗液及清洗方法，具有以下有益效果本发明所提供 的清洗液采用硝酸铈铵(Ce(NH4)2(N03)6)、高氯酸(HC104)和去离子水按一定比例配置而成， Ce(IV)在酸性条件下的氧化性很强，能氧化很多金属性物质及具有还原性的有机物质。采 用本发明的清洗液可以有效的、快速的去除残留在显影槽中的黑色银离子和强氧化性残留 物，防止在显影过程中干版表面产生黑点类或霉点类缺陷，从而提高干版的品质。
具体实施例方式为了使本发明的技术方案更加清楚明白，以下结合实施例，对本发明进行进一步 详细说明。实施例1
穿戴好防酸衣、防护面具以及乳胶手套后，将显影槽中的废显影液倒入固定的容器中， 用适量的去离子水清洗显影槽1分钟；取硝酸铈铵lg、高氯酸10ml、去离子水25ml配置成 干版显影槽清洗液；提取上述清洗液注入显影槽中使用长柄毛刷进行清洗，清洗时间2分 钟之内，将废清洗液回收到20升的大桶容器中；加入10g无磷清洗剂，用适量的去离子水冲 洗显影槽，直到无泡沫为止。实施例2:
穿戴好防酸衣、防护面具以及乳胶手套后，将显影槽中的废显影液倒入固定的容器中， 用适量的去离子水清洗显影槽1分钟；取硝酸铈铵5g、高氯酸12ml、去离子水40ml配置成 干版显影槽清洗液；提取上述清洗液注入显影槽中使用长柄毛刷进行清洗，清洗时间2分 钟之内，将废清洗液回收到20升的大桶容器中；加入10g无磷清洗剂，用适量的去离子水冲 洗显影槽，直到无泡沫为止。实施例3:
穿戴好防酸衣、防护面具以及乳胶手套后，将显影槽中的废显影液倒入固定的容器中， 用适量的去离子水清洗显影槽1分钟；取硝酸铈铵8g、高氯酸15ml、去离子水75ml配置成 干版显影槽清洗液；提取上述清洗液注入显影槽中使用长柄毛刷进行清洗，清洗时间2分 钟之内，将废清洗液回收到20升的大桶容器中；加入10g无磷清洗剂，用适量的去离子水冲 洗显影槽，直到无泡沫为止。采用上述实施例中的清洗液清洗干版显影槽上的黑色银离子和强氧化性残留物， 均可以多次的进行，也可以安装本领域常用的循环系统，让清洗液自动循环进行清洗，直到 残留物清洗干净。在本发明中硝酸铈铵高氯酸去离子水=l_13g :l-20ml :25-2000ml，如 采用此范围之外配置的清洗液进行清洗，则会因浓度过大而腐蚀显影槽或因浓度过小而不 能彻底清除显影槽壁上的黑色银离子和强氧化性残留物。上述显影槽清洗液硝酸铈铵、高 氯酸、与去离子水的最佳配比范围是酸铈铵高氯酸去离子水=l_8g :10-15ml :25-75ml。以上所述仅为本发明的实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则 内所作的任何修改、等同替换或改进等，均应包含在本发明的保护范围内。
权利要求
一种干版显影槽清洗液，其特征在于，其成分包括硝酸铈铵、高氯酸和去离子水，且硝酸铈铵高氯酸去离子水=1-13g1-20ml25-2000ml。
2.根据权利要求1所述的干版显影槽清洗液，其特征在于，硝酸铈铵高氯酸去离子 水=l-10g :l-15ml :25-500mlo
3.根据权利要求2所述的干版显影槽清洗液，其特征在于，硝酸铈铵高氯酸去离子 水=l-8g :10-15ml :25-75ml0
4.一种干版显影槽清洗方法，其特征在于，包括如下步骤(1)将显影槽中的废显影液排出后，用去离子水清洗显影槽，清洗完毕后将废液排出；(2)将如权利要求1至3中任一项所述的干版显影槽清洗液注入显影槽中清洗，清洗完 毕后将废清洗液回收；(3)在显影槽内加入无磷清洗剂，用去离子水冲洗显影槽，直到无泡沫为止。
5.根据权利要求4所述的干版显影槽清洗方法，其特征在于，所述步骤(1)中，清洗时 间为1分钟。
6.根据权利要求4所述的干版显影槽清洗方法，其特征在于，所述步骤(2)中，清洗时 间为不超过2分钟。
7.根据权利要求4所述的干版显影槽清洗方法，其特征在于，所述步骤(3)中，采用长 柄毛刷进行清洗。
全文摘要
本发明涉及一种干版显影槽清洗液及清洗方法，清洗液成分包括硝酸铈铵、高氯酸和去离子水，且硝酸铈铵高氯酸去离子水=1-13g1-20ml25-2000ml。显影槽清洗方法包括如下步骤(1)将显影槽中的废显影液排出后，用去离子水清洗显影槽，清洗完毕后将废液排出(2)将上述的干版显影槽清洗液注入显影槽中清洗，清洗完毕后将废清洗液回收；(3)在显影槽内加入无磷清洗剂，用去离子水冲洗显影槽，直到无泡沫为止。采用本发明提供的干版显影槽清洗液，可以快速有效地去除黑色银离子和强氧化性残留物，从而防止在显影过程中干版表面产生黑点类或霉点类缺陷。
文档编号G03F7/30GK101859074SQ20101022733
公开日2010年10月13日 申请日期2010年7月15日 优先权日2010年7月15日
发明者杜武兵, 杨建平 申请人:深圳市路维电子有限公司