专利名称：彩膜基板的制造方法
技术领域：
本发明涉及液晶显示器的制造方法，尤其涉及一种彩膜基板的制造方法。
背景技术：
液晶显示器是目前常用的平板显示器，液晶面板是液晶显示器中的重要部件，液晶面板包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，其间填充液晶。现有的彩膜基板的制造方法，如图1所示，首先在衬底基板1上形成黑矩阵2，然后再在形成黑矩阵2的衬底基板1上涂覆一种颜色的彩色树脂层3，采用掩膜版4从彩色树脂层3的正上方对彩色树脂层3进行曝光，其中，掩膜版4的透光区域或者不透光区域与衬底基板1上需形成彩色树脂图案5的区域对应，形成该颜色的彩色树脂图案5。其他颜色的彩色树脂图案5也采用这种方法形成。参见图2和图3，现有的彩膜基板的制造方法，由于曝光设备的误差，以及掩膜版存在变形的问题，使得掩膜版表面的图案与衬底基板上需形成彩色树脂图案的区域出现对位误差，从而导致彩色树脂图案与两相邻黑矩阵之间的重叠部分高度不对称，甚至出现漏光，彩膜基板表面不平整，进而影响了配向液的印刷以及阵列基板和彩膜基板的对盒效果。
发明内容
本发明提供一种彩膜基板的制造方法，以解决彩膜基板表面不平，甚至出现漏光的问题，改善配向液的印刷效果以及阵列基板和彩膜基板的对盒效果。本发明提供一种彩膜基板的制造方法，包括在衬底基板上形成黑矩阵和至少两种颜色的彩色树脂图案的流程，形成每种颜色的彩色树脂图案的流程包括在形成黑矩阵的衬底基板上形成对应颜色的彩色树脂层；采用掩膜版，从所述衬底基板背离黑矩阵的一侧对所述彩色树脂层进行曝光，形成所述彩色树脂图案，所述掩膜版中透光区域的边缘对应于所述黑矩阵图案的范围内。如上所述的彩膜基板的制造方法，所述采用掩膜版，从所述衬底基板背离黑矩阵的一侧对所述彩色树脂层进行曝光，形成所述彩色树脂图案之前，还包括在所述彩色树脂层表面涂覆负性光刻胶。如上所述的彩膜基板的制造方法，所述采用掩膜版，从所述衬底基板背离黑矩阵的一侧对所述彩色树脂层进行曝光，形成所述彩色树脂图案具体为采用掩膜版，从所述衬底基板背离黑矩阵一侧对所述彩色树脂层进行曝光，并通过显影在所述彩色树脂层表面形成与彩色树脂图案对应的光刻胶图案；对所述彩色树脂层进行刻蚀，形成所述彩色树脂图案；剥离所述彩色树脂图案表面的负性光刻胶。如上所述的彩膜基板的制造方法，所述采用掩膜版，从所述衬底基板背离黑矩阵的一侧对所述彩色树脂层进行曝光，形成所述彩色树脂图案具体为采用掩膜版，从所述衬底基板背离黑矩阵的一侧对所述彩色树脂层进行曝光，并通过显影形成所述彩色树脂图案，所述彩色树脂为负性感光材料。如上所述的彩膜基板的制造方法，所述在衬底基板上形成黑矩阵的流程包括在衬底基板上涂覆一层黑色光刻胶；采用掩膜版，从所述衬底基板靠近所述黑色光刻胶的一侧对所述黑色光刻胶进行曝光，并通过显影形成所述黑矩阵。如上所述的彩膜基板的制造方法，所述在衬底基板上形成黑矩阵的流程包括在衬底基板上沉积一层黑矩阵材料；在所述黑矩阵材料表面涂覆一层正性光刻胶；采用掩膜版，从所述衬底基板面向所述黑矩阵材料一侧对所述黑矩阵材料进行曝光，并通过显影形成与黑矩阵图案对应的光刻胶图案，所述掩膜版中不透光区域与所述黑矩阵图案相对应；对所述黑矩阵材料进行刻蚀，形成所述黑矩阵图案；剥离所述黑矩阵图案表面的正性光刻胶。如上所述的彩膜基板的制造方法，所述在衬底基板上形成黑矩阵的流程包括在衬底基板上沉积一层黑矩阵材料；在所述黑矩阵材料表面涂覆一层负性光刻胶；采用掩膜版，从所述衬底基板面向所述黑矩阵材料一侧对所述黑矩阵材料进行曝光，并通过显影形成与黑矩阵图案对应的光刻胶图案，所述掩膜版中透光区域与所述黑矩阵图案相对应；对所述黑矩阵材料进行刻蚀，形成所述黑矩阵图案；剥离所述黑矩阵图案表面的负性光刻胶。本发明提供的彩膜基板的制造方法，采用掩膜版，从衬底基板上背离黑矩阵的一侧对彩色树脂层进行曝光，形成彩色树脂图案，解决了掩膜版和衬底基板对位误差出现的彩色树脂图案与两相邻黑矩阵之间的重叠部分高度不对称的问题，避免出现漏光的现象。 实现彩色树脂图案与黑矩阵无重叠区域，使彩膜基板表面平整，无漏光现象，提高了配向液的印刷效果，以及阵列基板和彩膜基板的对盒效果。
图1为现有的彩膜基板的制造方法的操作示意图；图2为采用图1所示彩膜基板的制造方法对位不良时得到的彩膜基板的局部侧视图；图3为采用图1所示的彩膜基板的制造方法制造得到彩膜基板局部侧视图；图4为本发明提供的彩膜基板的制造方法的第一实施例的操作示意图；图5为采用图4所示的彩膜基板的制造方法对位不良时得到的彩膜基板的局部侧视6为采用图4所示的彩膜基板的制造方法制造得到彩膜基板局部侧视图。附图标记1-衬底基板；2-黑矩阵； 3-彩色树脂层；4-掩膜版；5-彩色树脂图案。
具体实施例方式为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。实施例一图4为本发明提供的彩膜基板的制造方法的第一实施例的操作示意图，如图4所示，该彩膜基板的制造方法包括在衬底基板1上形成黑矩阵2和至少两种颜色的彩色树脂图案5的流程；其中，形成每种颜色的彩色树脂图案5的流程包括在形成黑矩阵2的衬底基板1上形成对应颜色的彩色树脂层3 ；采用掩膜版4，从衬底基板1背离黑矩阵2的一侧对彩色树脂层3进行曝光，形成彩色树脂图案5，掩膜版4中透光区域的边缘对应于黑矩阵2图案的范围内。本实施例提供的彩膜基板的制造方法，采用掩膜版，从衬底基板上背离黑矩阵的一侧对彩色树脂层进行曝光，形成彩色树脂图案，解决了掩膜版和衬底基板对位误差出现的彩色树脂图案与两相邻黑矩阵之间的重叠部分高度不对称的问题，避免出现漏光的现象。实现彩色树脂图案与黑矩阵无重叠区域，使彩膜基板表面平整，无漏光现象，提高了配向液的印刷效果，以及阵列基板和彩膜基板的对盒效果。其中，在衬底基板1上形成黑矩阵2的工艺可以采用现有技术，形成黑矩阵2后， 在形成黑矩阵2的衬底基板1上形成一种颜色的彩色树脂层3，然后采用掩膜版4从衬底基板1背离黑矩阵2的一侧对彩色树脂层3进行曝光。形成第一种颜色的彩色树脂图案5的过程具体是在形成黑矩阵2的衬底基板1上形成第一种颜色的彩色树脂层3，将掩膜版4直接面向衬底基板1放置，使彩色树脂层3与掩膜版4之间依次为黑矩阵2和衬底基板1。在曝光过程中，彩色树脂层3受到掩膜版4中不透光区域的遮挡，除此之外，由于黑矩阵2位于掩膜版4和彩色树脂层3之间，且黑矩阵2也是不透光的，可以看出，彩色树脂层3还受到黑矩阵2的遮挡。由于现有的形成彩色树脂图案5的工艺中，彩色树脂层3中可能是受到光照射的区域被保留下来，而没有受到光照射的区域被去除掉；或者，彩色树脂层3中还可能是受到光照射的区域被去除掉，而没有受到光照射的区域被保留下来。本发明提供的实施例中，由于从衬底基板1上背离黑矩阵2的一侧对彩色树脂层3进行曝光，因此，彩色树脂层3受到黑矩阵2的阻挡，由于相邻的黑矩阵2之间的彩色树脂为需要保留的彩色树脂图案5，黑矩阵2上方的彩色树脂为需要去除的彩色树脂，而黑矩阵2上方的彩色树脂已经受到黑矩阵 2的遮挡，如果相邻的黑矩阵2之间的彩色树脂上方的掩膜版4区域也为不透光区域，那么黑矩阵2上方的彩色树脂和相邻黑矩阵2之间的彩色树脂将都受到遮挡，即整个彩色树脂层3都受到遮挡，则无法在彩色树脂层3表面形成彩色树脂图案5。因此，需要注意的是，相邻的黑矩阵2之间的彩色树脂上方的掩膜版4区域应为透光区域。由于相邻的黑矩阵2之间的彩色树脂上方的掩膜版4区域应为透光区域，而相邻的黑矩阵2之间的彩色树脂又为需要保留的彩色树脂图案5，因此，彩色树脂层3可以采用彩色负性光刻胶材料，或者，在彩色树脂层3表面涂覆一层负性光刻胶，以使光穿过掩膜版 4中的透光区域照射到相邻黑矩阵2之间的彩色树脂后，受到光照射的彩色树脂层被保留下来，而位于黑矩阵2上方的彩色树脂由于受到黑矩阵2的遮挡而被去除掉。在形成一种颜色的彩色树脂图案5的过程中，在放置掩膜版4时，应使掩膜版4中的透光区域与需要形成的彩色树脂图案5相对应。而由于彩色树脂图案5位于两个相邻黑矩阵2之间，为了保证两个相邻黑矩阵2之间充满彩色树脂图案5，保证黑矩阵2与形成彩色树脂图案5之间不存在缝隙，防止出现漏光的情况，因此，掩膜版4中的透光区域要略微大于相对应的需要形成的彩色树脂图案5。可以看出，掩膜版4中透光区域的边缘应对应于黑矩阵2图案的范围内。采用上述方法进行曝光，黑矩阵2正上方对应的彩色树脂，由于被黑矩阵2遮挡而没有受到光照射，因此，被完全去除掉；而两相邻黑矩阵2之间的彩色树脂由于受到光照射而得以保留。因此，形成的彩色树脂图案5在两相邻的黑矩阵2之间，而由于黑矩阵2正上方的彩色树脂被完全去掉，使得形成的彩色树脂图案5与黑矩阵2不存在重叠区域，这样使得最终形成的彩膜基板表面，仅在黑矩阵2正上方是凹陷的，其余的彩色树脂图案5部分的高度是一致的，而并不存在黑矩阵2和彩色树脂图案5重叠区域凸起的现象。在曝光工艺过程中，掩膜版4与衬底基板1的对位精度通常是较高的，但由于曝光设备本身有一定的误差范围，另外掩膜版4存在变形的问题，这样会导致掩膜版4和衬底基板1的对位出现一定的偏差。参见图5和图6，而采用掩膜版4，从衬底基板1背离黑矩阵2 的一侧对彩色树脂层3进行曝光，由于不透光的黑矩阵2位于彩色树脂层3和掩膜版4之间，因此，黑矩阵2起到辅助掩膜的作用。即便由于对位偏差导致掩膜版4中的透光区域边缘超出需要形成的彩色树脂图案5边缘较多，由于有不透光的黑矩阵2遮挡，也会使该黑矩阵2上方的彩色树脂被完全去除，从而不会出现黑矩阵2与彩色树脂图案5重叠的问题，因此更不会出现两个相邻黑矩阵2与彩色树脂图案5的重叠部分高度不一致的情况，从而不会出现重叠部分高度不一致而导致的图形偏移问题。不影响配向液印刷和对盒效果。形成一种彩色树脂图案5之后，采用与上述相同的方法，首先在衬底基板1上形成另一种颜色的彩色树脂层3，然后采用掩膜版4，从衬底基板1背离黑矩阵2的一侧对彩色树脂层3进行曝光。其中，掩膜基板4中的不透光区域遮挡住衬底基板1上已形成的彩色树脂图案5，而透光区域位于待形成的彩色树脂图案5上方，且掩膜版4中透光区域的边缘对应于黑矩阵2图案的范围内。需要说明的是，形成一种颜色的彩色树脂图案5之后，要对其进行烘烤(post bake)，而经过烘烤后的彩色树脂图案5，只有采用浓度极高的化学药品经过长时间的作用才能去除掉。从而保证了在形成另一种颜色的彩色树脂图案5的过程中，位于另一种颜色的彩色树脂层3下方的，已经形成的彩色树脂图案5，不会连同另一种颜色的彩色树脂一起被去除掉。实施例二在前一实施例的基础上，进一步的，在衬底基板1上形成黑矩阵2的具体过程可以是在衬底基板1上沉积一层黑矩阵材料；在所述黑矩阵材料表面涂覆一层正性光刻胶；
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采用掩膜版4，从所述衬底基板1面向所述黑矩阵材料一侧对所述黑矩阵材料进行曝光，并通过显影形成与黑矩阵图案对应的光刻胶图案，所述掩膜版4中不透光区域与所述黑矩阵图案相对应；对所述黑矩阵材料进行刻蚀，形成所述黑矩阵图案；剥离所述黑矩阵图案表面的正性光刻胶。或者是，在衬底基板1上沉积一层黑矩阵材料；在所述黑矩阵材料表面涂覆一层负性光刻胶；采用掩膜版4，从所述衬底基板1面向所述黑矩阵材料一侧对所述黑矩阵材料进行曝光，并通过显影形成与黑矩阵图案对应的光刻胶图案，所述掩膜版4中透光区域与所述黑矩阵图案相对应；对所述黑矩阵材料进行刻蚀，形成所述黑矩阵图案；剥离所述黑矩阵图案表面的负性光刻胶。以上两种方法均是在黑矩阵材料表面涂覆光刻胶，再进行曝光、显影和刻蚀形成黑矩阵2的方法。而另一种更为常用的形成黑矩阵2工艺为在衬底基板1上涂覆一层黑色光刻胶，然后采用掩膜版4，从衬底基板1靠近黑色光刻胶一侧对黑色光刻胶进行曝光， 通过显影形成黑矩阵2。这种方法步骤少、工艺简单，能够节约生产成本和提高生产效率。由于相邻黑矩阵2之间的彩色树脂为需要保留的彩色树脂图案5，而从上一实施例的描述中可以得出相邻的黑矩阵2之间的彩色树脂上方的掩膜版4区域应为透光区域。 因此，作为一种较佳的实施方式，采用掩膜版4，从衬底基板1上背离黑矩阵2的一侧对彩色树脂层3进行曝光，形成彩色树脂图案5的过程可以具体包括在彩色树脂层3表面涂覆负性光刻胶；采用掩膜版4，从衬底基板1上背离黑矩阵2 —侧对彩色树脂层3进行曝光，并通过显影在彩色树脂层3表面形成与彩色树脂图案5对应的光刻胶图案；对彩色树脂层3进行刻蚀，形成彩色树脂图案5 ；剥离彩色树脂图案5表面的负性光刻胶。具体的，由于掩膜版4放置在衬底基板1上背离黑矩阵2 —侧，因此，彩色树脂层 3与掩膜版4之间依次为黑矩阵2和衬底基板1。则在曝光过程中，彩色树脂层3表面的负性光刻胶受到掩膜版4中不透光区域的遮挡，除此之外，由于黑矩阵2也是不透光的，受到遮挡的负性光刻胶在显影后被去除掉，而受到光照射的负性光刻胶在显影后保留下来。由于相邻的黑矩阵2之间的彩色树脂上方的掩膜版4区域应为透光区域，该区域的彩色树脂层3表面的负性光刻胶由于受到光照射而被保留下来，而位于黑矩阵2上方的彩色树脂层 3表面的负性光刻胶，由于受到黑矩阵2的遮挡而被去除掉。因此，在显影之后，在彩色树脂层3表面形成了与所需彩色树脂图案5相对应的光刻胶图案。在刻蚀过程中，表面具有负性光刻胶的彩色树脂层，在负性光刻胶的保护作用下得以保留，而表面没有负性光刻胶的彩色树脂则被刻蚀掉。在刻蚀工艺后，在衬底基板1表面形成了一种颜色的彩色树脂图案5在放置掩膜版4时，应使掩膜版4中的透光区域与需要形成的彩色树脂图案5相对应。而由于彩色树脂图案5位于两个相邻黑矩阵2之间，为了保证两个相邻黑矩阵2之间充满彩色树脂图案5，保证黑矩阵2与形成彩色树脂图案5之间不存在缝隙，防止出现漏光的情况，因此，掩膜版4中的透光区域要略微大于相对应的需要形成的彩色树脂图案5， 即掩膜版4中透光区域的边缘对应于黑矩阵2图案的范围内。采用上述方法进行曝光，在显影后，黑矩阵2正上方的彩色树脂表面的负性光刻胶，由于被黑矩阵2遮挡而没有受到光照射，因此，被完全去除掉；而两相邻黑矩阵2之间的彩色树脂表面的负性光刻胶由于受到光照射而得以保留。因此，显影后，形成的光刻胶图案在两相邻的黑矩阵2之间，而由于黑矩阵2正上方彩色树脂表面的负性光刻胶被完全去掉， 使得刻蚀后形成的彩色树脂图案5与黑矩阵2不存在重叠区域，这样使得最终形成的彩膜基板表面，仅在黑矩阵2正上方是凹陷的，其余的彩色树脂图案5部分的高度是一致的，而并不存在黑矩阵2和彩色树脂图案5重叠区域凸起的现象。而作为另一种较佳的实施方式，采用掩膜版4，从衬底基板1上背离黑矩阵2的一侧对彩色树脂层3进行曝光，形成彩色树脂图案5的过程还可以包括采用掩膜版4，从衬底基板1背离黑矩阵2的一侧对彩色树脂层3进行曝光，并通过显影形成彩色树脂图案5，彩色树脂为负性感光材料。由于彩色树脂本身即为负性感光材料，这种材料受到光照射后，在显影中得以保留，而没有受到光照射则在显影过程后被去除。采用这种方式会减少工艺步骤，提高生产效率。采用这种进行曝光，在显影后，黑矩阵2正上方的彩色树脂，由于被黑矩阵2遮挡而没有受到光照射，因此，被完全去除掉；而两相邻黑矩阵2之间的彩色树脂由于受到光照射而得以保留。因此，显影后，形成的彩色树脂图案5在两相邻的黑矩阵2之间，而由于黑矩阵2正上方彩色树脂被完全去掉，使得显影后形成的彩色树脂图案5与黑矩阵2不存在重叠区域，这样使得最终形成的彩膜基板表面，仅在黑矩阵2正上方是凹陷的，其余的彩色树脂图案5部分的高度是一致的，而并不存在黑矩阵2和彩色树脂图案5重叠区域凸起的现象。形成一种彩色树脂图案5之后，可以采用上述的方法，在衬底基板1上形成另一种颜色的彩色树脂层3，然后采用掩膜版4，从衬底基板1背离黑矩阵2的一侧对彩色树脂层3 进行曝光。其中，掩膜板4中的不透光区域遮挡住衬底基板1上已形成的彩色树脂图案5， 而透光区域位于待形成的彩色树脂图案5上方，且掩膜版4中透光区域的边缘对应于黑矩阵2图案的范围内。显影后，形成相应的彩色树脂图案5。在曝光工艺过程中，由于曝光设备本身有一定的误差范围，而掩膜版4本身存在变形的问题，会导致掩膜版4和衬底基板1的对位出现一定的偏差。参见图5和图6，而采用掩膜版4，从衬底基板1背离黑矩阵2的一侧对彩色树脂层3进行曝光，由于不透光的黑矩阵2位于彩色树脂层3和掩膜版4之间，因此，黑矩阵2起到辅助掩膜的作用。即便由于对位偏差导致掩膜版4中的透光区域边缘超出需要形成的彩色树脂图案5边缘较多，由于有不透光的黑矩阵2遮挡，也会使该黑矩阵2上方的彩色树脂或彩色树脂表面的负性光刻胶被完全去除，从而不会出现黑矩阵2与彩色树脂图案5重叠的问题，因此更不会出现两个相邻黑矩阵2与彩色树脂图案5的重叠部分高度不一致的情况，从而不会出现重叠部分高度不一致而导致的图形偏移问题。不影响配向液印刷和对盒效果。实施例三在前一实施例的基础上，优选的，本实施例给出彩膜基板的制造方法的具体操作过程，可以包括将衬底基板放置在操作台上；在此步骤之前，通常需要对衬底基板进行清洗和干燥，以保证衬底基板表面无杂质。在衬底基板上涂覆一层黑色光刻胶；采用掩膜版，从衬底基板靠近黑色光刻胶的一侧对黑色光刻胶进行曝光，并通过显影形成黑矩阵。以上步骤仅为形成黑矩阵的一种较佳的方法，而实际上，还可以通过其他方式在衬底基板上形成黑矩阵。在衬底基板上形成黑矩阵之后，形成一种颜色的彩色树脂图案的流程包括对形成黑矩阵的衬底基板表面进行清洗；在形成黑矩阵的衬底基板上形成一种颜色的彩色树脂层；对衬底基板进行真空干燥；对彩色树脂层进行预烘焙；对彩色树脂层进行冷却；将衬底基板沿水平方向翻转180度，使彩色树脂层与操作台接触；采用掩膜版，从衬底基板背离黑矩阵的一侧对彩色树脂层进行曝光，并通过显影形成彩色树脂图案，掩膜版中透光区域的边缘对应于黑矩阵图案的范围内；对形成的彩色树脂图案进行后烘焙；对形成的彩色树脂图案进行检验，合格后则进入形成另一种颜色彩色树脂图案的流程中。可以看出，形成每一种颜色的彩色树脂图案的基本流程是基板投入一基板表面清洗一涂光刻胶一真空干燥一预烘焙一冷却一曝光一显影一后烘焙一检查等步骤。其中， 经过翻转步骤后，彩色树脂层与操作台接触，黑矩阵和衬底基板依次位于彩色树脂层的上方。将掩膜版放置于衬底基板的正上方，使掩膜版中的透光区域与需要形成的彩色树脂图案相对应，对彩色树脂层进行曝光。由于彩色树脂层受到衬底基板上方的掩膜版中不透光区域的遮挡，还受到上方不透光的黑矩阵遮挡。显影后，黑矩阵正上方对应的彩色树脂，由于被黑矩阵遮挡而没有受到光照射，被完全去除掉；而两相邻黑矩阵之间的彩色树脂由于受到光照射而得以保留。因此，显影后， 形成的彩色树脂图案在两相邻的黑矩阵之间，而由于黑矩阵正上方的彩色树脂被完全去掉，使得形成的彩色树脂层图案与黑矩阵不存在重叠区域，这样使得最终形成的彩膜基板表面，仅在黑矩阵正上方是凹陷的，其余的彩色树脂图案部分的高度是一致的，而并不存在黑矩阵和彩色树脂图案重叠区域凸起的现象。即便由于对位偏差导致掩膜版中的透光区域边缘超出需要形成的彩色树脂图案边缘较多，由于有不透光的黑矩阵遮挡，也会使该黑矩阵上方的彩色树脂被完全去除，从而不会出现黑矩阵与彩色树脂图案重叠的问题，因此更不会出现两个相邻黑矩阵与彩色树脂图案的重叠部分高度不一致的情况，从而不会出现重叠部分高度不一致而导致的图形偏移问题。不影响配向液印刷和对盒效果。在形成一种颜色的彩色树脂图案之后，形成另一种颜色的彩色树脂图案可以包括将形成一种颜色的彩色树脂图案的衬底基板沿水平方向翻转180度，使另一种彩色树脂层与操作台接触；采用掩膜版，从衬底基板背离黑矩阵的一侧对彩色树脂层进行曝光，并通过显影形成彩色树脂图案，掩膜版中透光区域的边缘对应于黑矩阵图案的范围内。以上只给出了形成另一种颜色彩色树脂图案中较为重要的步骤，而该流程中所涉及的完整流程可以参考前面的描述，在此不再赘述。在形成一种彩色树脂图案之后，采用相同的方法，首先在衬底基板上形成另一种颜色的彩色树脂层，翻转衬底基板，使该彩色的树脂层与操作台接触。然后将掩膜版放置在衬底基板的正上方，对彩色树脂层进行曝光。其中，掩膜基板中的不透光区域遮挡住衬底基板上已形成的彩色树脂图案，而透光区域位于待形成的彩色树脂图案上方，且掩膜版中透光区域的边缘对应于黑矩阵图案的范围内。显影后，形成相应的彩色树脂图案。本实施例提供了在衬底基板上形成黑矩阵和至少两种颜色的彩色树脂图案的具体流程，在形成一种颜色的彩色树脂图案后，由于彩色树脂层与操作台直接接触，为了保证后续其他彩膜基板的制作环境整洁，以免出现误差，可以在形成一种颜色的彩色树脂图案后，进行清洗操作台的步骤将形成彩色树脂图案的衬底基板沿水平方向翻转180度，使衬底基板与操作台接触；将形成彩色树脂图案的衬底基板从操作台上移除；对操作台进行清洗。另外，本发明提供的彩膜基板制造方法中，其曝光过程具体是由曝光设备，例如曝光机来完成。以下给出曝光机在曝光工艺中所执行的具体过程在曝光机中放置衬底基板(Glass Input)—翻转衬底基板(Glass TurnOver)— 将衬底基板加载到操作台上(Glass Loading)—基板预对位(PreAlignment)—基板真空吸附(Glass Chuck)—基板与掩膜版间距控制(Gapcontrol)—基板精对位(Alignment)— 基板曝光(Exposure)—真空吸附解除(Chuck Release)—翻转衬底基板(Glass Tum Over)—衬底基板从操作台上卸载(Glass Unloading)—自动清洗操作台或人工清洗操作台(Stage AutoCleaning/Stage manual Cleaning)其中，曝光机内具有精密的控温装置，以保持曝光机内部处于恒温环境，可以最大限度地避免出现衬底基板和掩膜版变形的情况。曝光机中设有承载衬底基板的操作台(stage)，该操作台为不反光材质，以防止出现曝光用到的光出现反射的情况。进一步的，曝光机中设有翻转机构，可实现将衬底基板在曝光机空间内翻转180度。另外，曝光机内还设有清洁机构，能够定期对操作台表面进行清洁，以去除由于彩色树脂层与操作台直接接触而残留的彩色树脂。最后应说明的是以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。
权利要求
1.一种彩膜基板的制造方法，包括在衬底基板上形成黑矩阵和至少两种颜色的彩色树脂图案的流程，其特征在于，形成每种颜色的彩色树脂图案的流程包括在形成黑矩阵的衬底基板上形成对应颜色的彩色树脂层；采用掩膜版，从所述衬底基板背离黑矩阵的一侧对所述彩色树脂层进行曝光，形成所述彩色树脂图案，所述掩膜版中透光区域的边缘对应于所述黑矩阵图案的范围内。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述采用掩膜版，从所述衬底基板背离黑矩阵的一侧对所述彩色树脂层进行曝光，形成所述彩色树脂图案之前，还包括在所述彩色树脂层表面涂覆负性光刻胶。
3.根据权利要求2所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述采用掩膜版，从所述衬底基板背离黑矩阵的一侧对所述彩色树脂层进行曝光，形成所述彩色树脂图案具体为采用掩膜版，从所述衬底基板背离黑矩阵一侧对所述彩色树脂层进行曝光，并通过显影在所述彩色树脂层表面形成与彩色树脂图案对应的光刻胶图案；对所述彩色树脂层进行刻蚀，形成所述彩色树脂图案；剥离所述彩色树脂图案表面的负性光刻胶。
4.根据权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述采用掩膜版，从所述衬底基板背离黑矩阵的一侧对所述彩色树脂层进行曝光，形成所述彩色树脂图案具体为采用掩膜版，从所述衬底基板背离黑矩阵的一侧对所述彩色树脂层进行曝光，并通过显影形成所述彩色树脂图案，所述彩色树脂为负性感光材料。
5.根据权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成黑矩阵的流程包括在衬底基板上涂覆一层黑色光刻胶；采用掩膜版，从所述衬底基板靠近所述黑色光刻胶的一侧对所述黑色光刻胶进行曝光，并通过显影形成所述黑矩阵。
6.根据权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成黑矩阵具体包括在衬底基板上沉积一层黑矩阵材料；在所述黑矩阵材料表面涂覆一层正性光刻胶；采用掩膜版，从所述衬底基板面向所述黑矩阵材料一侧对所述黑矩阵材料进行曝光， 并通过显影形成与黑矩阵图案对应的光刻胶图案，所述掩膜版中不透光区域与所述黑矩阵图案相对应；对所述黑矩阵材料进行刻蚀，形成所述黑矩阵图案；剥离所述黑矩阵图案表面的正性光刻胶。
7.根据权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成黑矩阵具体包括在衬底基板上沉积一层黑矩阵材料；在所述黑矩阵材料表面涂覆一层负性光刻胶；采用掩膜版，从所述衬底基板面向所述黑矩阵材料一侧对所述黑矩阵材料进行曝光， 并通过显影形成与黑矩阵图案对应的光刻胶图案，所述掩膜版中透光区域与所述黑矩阵图案相对应；对所述黑矩阵材料进行刻蚀，形成所述黑矩阵图案； 剥离所述黑矩阵图案表面的负性光刻胶。
全文摘要
本发明公开了一种彩膜基板的制造方法，包括在衬底基板上形成黑矩阵和至少两种颜色的彩色树脂图案的流程，形成每种颜色的彩色树脂图案的流程包括在形成黑矩阵的衬底基板上形成对应颜色的彩色树脂层；采用掩膜版，从衬底基板背离黑矩阵的一侧对彩色树脂层进行曝光，形成彩色树脂图案，掩膜版中透光区域的边缘对应于黑矩阵图案的范围内。本发明提供的彩膜基板的制造方法，解决了掩膜版和衬底基板对位误差出现的彩色树脂图案与两相邻黑矩阵之间的重叠部分高度不对称的问题，避免出现漏光的现象。实现彩色树脂图案与黑矩阵无重叠区域，使彩膜基板表面平整，无漏光现象，提高了配向液的印刷效果，以及阵列基板和彩膜基板的对盒效果。
文档编号G02F1/1335GK102455542SQ20101052081
公开日2012年5月16日 申请日期2010年10月21日 优先权日2010年10月21日
发明者林鸿涛 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 成都京东方光电科技有限公司