专利名称：曝光机的平台装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种曝光机的平台装置。
背景技术：
请参见图1，此为现有的曝光机平台装置1，其包含下框台11、枢接于下框台11且 可相对于下框台11掀合的上框台12、多个设置于下框台11且具有定位凹槽131的定位体 13以及多个对应定位凹槽131的定位销14，定位销14设置于上框台12上，当预备曝光的 电路板放置于下框台11，并驱动上框台12往下框台11盖合，此时，定位销14会伸入定位凹 槽131内，用以使上框台12与下框台11相互对位，使得电路板的曝光作业能顺利且精确的 进行。然而，此种定位结构的问题在于，定位销14是必须能在定位凹槽131内上下位移， 所以定位销14与定位凹槽131之间必须是间隙配合，而此举却会影响到上框台12与下框 台11相互对位的精确性，以致于对位的误差超过12. 5微米以上，将造成电路板因两面曝光 的误差而报销。此外，现有曝光机的上框台12具有玻璃板体121以及框设于玻璃板体121周围的 固定框架122，由于平台装置1进行曝光作业时，上框台12与下框台11必须紧密的与预备 曝光的电路板相结合，也就是说，上框台12的玻璃板体121必须能承受相当程度的压力，然 而，现有的玻璃板体121受固定框架122所固定，以致于玻璃板体121无法具有些微的形变 空间，当压力较大时，会造成玻璃板体121破裂损坏。再者，由于长期的曝光作业下，平台装置1的上框台12经历多次掀合动作，将成造 成上框台12与下框台11枢接处因摩擦而损坏，以致于影响到上框台12与下框台11相互 对位的准确性。发明内容本实用新型的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种曝光机的平台装置，本实 用新型的定位精度更高。其技术方案如下一种曝光机的平台装置，包括平台、平台盖，平台盖与平台的连接边相枢接，且平 台盖能相对于平台掀合，在平台上设有至少两个能相对于平台弹性凸出的定位凸部，在平 台盖上设有至少两个凹穴，定位凸部与凹穴相对应。在前述方案中，将定位凸部及凹穴的位置进行对调后，可以得到另一技术方案一种曝光机的平台装置，包括平台、平台盖，平台盖枢接于平台上并能相对于平台 掀合，在平台盖上设有至少两个能相对于平台弹性凸出的定位凸部，在平台上设有至少两 个凹穴，定位凸部与凹穴相对应。前述技术方案进一步细化的技术方案可以是所述凹穴的断面呈锥状，所述定位凸部的断面呈圆头状。[0013]在所述平台上设有能相对于平台上下移动的内套管，内套管内形成容置空间，在 容置空间内设有弹性件，所述定位凸部设于所述内套管的顶端，弹性件抵在所述定位凸部 的后端。在所述平台上设有外套管，所述内套管设于外套管内，在内套管与外套管之间设 有滚珠。在所述内套管与外套管之间还设有滚珠套，在滚珠套上设有滚珠孔，所述滚珠置 于该滚珠孔内并通过滚珠孔限位。所述平台包括框座及透明的第一板体，框座位于第一板体的周边并与第一板体连 接；所述平台盖包括第二板体及多个边框，边框设于第二板体的周边并互相隔断。所述边框包括两个L形边框及一个直条边框，两个L形边框相对并靠近所述连接 边，直条边框远离所述连接边。在所述平台与平台盖之间设有枢接组件，所述平台与平台盖通过该枢接组件枢 接；该枢接组件包括枢接座、活动板及枢轴，枢接座与所述平台连接，在枢接座上设有横向 贯通的穿孔，活动板与所述平台盖连接，枢轴穿过前述穿孔及活动板。所述枢接组件还包括有滚针轴承，该滚针轴承位于所述枢轴与穿孔之间，以及所 述枢轴与活动板之间；在所述穿孔的内表面或所述枢轴的外表面设有耐磨层。该耐磨层通 过镀一层硬络的方式形成。在所述平台与平台盖的侧边之间设有驱动装置。如液压缸或气压缸驱动平台盖掀I=I O综上所述，本实用新型的优点是1、在平台盖掀合时，通过凹穴与定位凸部进行定位，定位更精确；2、由于平台盖的边框不是整体结构，使得第二板体具有可变形空间，所以能承受 较高的压力；3、平台与平台盖之间通过枢接组件连接，并在在其中设有滚针轴承，减少了平台 与平台盖之间的摩擦及损坏；4、枢接组件上设有的耐磨层更提高了枢接组件的耐磨性。
图1是现有的曝光机平台装置的结构图；图2是本实用新型实施例所述曝光装置的结构图；图3是枢接组件的结构图；图4是平台与平台盖定位结构的剖视图；附图标记说明1、平台装置，11、下框台，12，上框台，121、玻璃板体，122、固定框架，13、定位体， 131、定位凹槽，14、定位销，21、平台，22、平台盖，23、定位凸部，24、凹穴，25、内套管，26、容 置空间，27、弹性件，观、外套管，四、滚珠，30、滚珠套，31、框座，32、第一板体，33、第二板体， 34、L形边框，35、直条边框，36、枢接组件，37、枢接座，38、活动板，39、枢轴，40、穿孔，41、滚 针轴承，42、耐磨层，43、驱动装置，44、充气式压紧垫。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的实施例进行详细说明如图2至图4所示，一种曝光机的平台装置，包括平台21、平台盖22，平台盖22与 平台21的连接边相枢接，且平台盖22能相对于平台21掀合，在平台21上设有至少两个能 相对于平台21弹性凸出的定位凸部23，在平台盖22上设有至少两个凹穴24，定位凸部23 与凹穴M相对应。其中，在21平台与平台盖22的侧边之间设有驱动装置43 (即液压缸)，在平台21 上还设有充气式压紧垫44，该充气式压紧垫44远离平台21的连接边。所述凹穴M的断面 呈锥状，所述定位凸部23的断面呈圆头状；在平台21上设有能相对于平台21上下移动的 内套管25，内套管25内形成容置空间沈，在容置空间沈内设有弹性件27，定位凸部23设 于内套管25的顶端，弹性件27抵在定位凸部23的后端；在平台21上设有外套管28，内套 管25设于外套管观内，在内套管25与外套管观之间设有滚珠四；在内套管25与外套管 28之间还设有滚珠套30，在滚珠套30上设有滚珠孔，滚珠四置于该滚珠孔内并通过滚珠 孔限位。所述平台21包括框座31及透明的第一板体32，框座31位于第一板体32的周边 并与第一板体32连接；所述平台盖22包括第二板体33及多个边框，边框设于第二板体33 的周边并互相隔断；所述边框包括两个L形边框34及一个直条边框35，两个L形边框34相 对并靠近连接边，直条边框35远离连接边。在平台21与平台盖22之间设有枢接组件36，平台21与平台盖22通过该枢接组 件36枢接；该枢接组件36包括枢接座37、活动板38及枢轴39，枢接座37与平台21连接， 在枢接座37上设有横向贯通的穿孔40，活动板38与平台盖22连接，枢轴39穿过前述穿 孔40及活动板38 ；所述枢接组件36还包括有滚针轴承41，该滚针轴承41位于枢轴39与 穿孔40之间，以及枢轴39与活动板38之间；在穿孔40的内表面或枢轴39的外表面设有 耐磨层42。本实施例的优点是1、在平台盖22掀合时，通过凹穴M与定位凸部23进行定位，定位更精确；2、由于平台盖22的边框不是整体结构，使得第二板体33具有可变形空间，所以能 承受较高的压力；3、平台21与平台盖22之间通过枢接组件36连接，并在在其中设有滚针轴承41， 减少了平台21与平台盖22之间的摩擦及损坏；4、枢接组件36上设有的耐磨层42更提高了枢接组件36的耐磨性。以上仅为本实用新型的具体实施例，并不以此限定本实用新型的保护范围；在不 违反本实用新型构思的基础上所作的任何替换与改进，均属本实用新型的保护范围。
权利要求1.一种曝光机的平台装置，包括平台、平台盖，平台盖与平台的连接边相枢接，且平台 盖能相对于平台掀合，其特征在于，在平台上设有至少两个能相对于平台弹性凸出的定位 凸部，在平台盖上设有至少两个凹穴，定位凸部与凹穴相对应。
2.如权利要求1所述曝光机的平台装置，其特征在于，所述凹穴的断面呈锥状，所述定 位凸部的断面呈圆头状。
3.如权利要求1所述曝光机的平台装置，其特征在于，在所述平台上设有能相对于平 台上下移动的内套管，内套管内形成容置空间，在容置空间内设有弹性件，所述定位凸部设 于所述内套管的顶端，弹性件抵在所述定位凸部的后端。
4.如权利要求3所述曝光机的平台装置，其特征在于，在所述平台上设有外套管，所述 内套管设于外套管内，在内套管与外套管之间设有滚珠。
5.如权利要求4所述曝光机的平台装置，其特征在于，在所述内套管与外套管之间还 设有滚珠套，在滚珠套上设有滚珠孔，所述滚珠置于该滚珠孔内并通过滚珠孔限位。
6.如权利要求1至5中任一项所述曝光机的平台装置，其特征在于，所述平台包括框座 及透明的第一板体，框座位于第一板体的周边并与第一板体连接；所述平台盖包括第二板 体及多个边框，边框设于第二板体的周边并互相隔断。
7.如权利要求6所述曝光机的平台装置，其特征在于，所述边框包括两个L形边框及一 个直条边框，两个L形边框相对并靠近所述连接边，直条边框远离所述连接边。
8.如权利要求1至5中任一项所述曝光机的平台装置，其特征在于，在所述平台与平台 盖之间设有枢接组件，所述平台与平台盖通过该枢接组件枢接；该枢接组件包括枢接座、活动板及枢轴，枢接座与所述平台连接，在枢接座上设有横向贯通的穿孔，活动板与所 述平台盖连接，枢轴穿过前述穿孔及活动板。
9.如权利要求1至5中任一项所述曝光机的平台装置，其特征在于，在所述平台与平台 盖的侧边之间设有驱动装置。
10.一种曝光机的平台装置，包括平台、平台盖，平台盖枢接于平台上并能相对于平台 掀合，其特征在于，在平台盖上设有至少两个能相对于平台弹性凸出的定位凸部，在平台 上设有至少两个凹穴，定位凸部与凹穴相对应。
专利摘要本实用新型公开了一种曝光机的平台装置，包括平台、平台盖，平台盖与平台的连接边相枢接，且平台盖能相对于平台掀合，在平台上设有至少两个能相对于平台弹性凸出的定位凸部，在平台盖上设有至少两个凹穴，定位凸部与凹穴相对应。本实用新型的定位精度更高。
文档编号G03F7/20GK201828768SQ201020219620
公开日2011年5月11日 申请日期2010年6月4日 优先权日2010年6月4日
发明者王俊元 申请人:志圣科技(广州)有限公司