专利名称：基板处理装置和基板处理方法
技术领域：
本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。特别是，涉及如液晶面板用的玻璃母板这样的基板的洗净装置。此外，本申请主张基于2009年12月21日申请的日本专利申请2009-289241号的优先权，该申请的全部内容作为参照被编入本说明书中。
背景技术：
作为液晶显示装置(LCD)的构成部件的液晶面板具有使一对玻璃基板以确保规定间隔的状态相对的结构。伴随液晶面板的大型化、量产化，液晶面板用的玻璃基板(玻璃母板)在逐年大型化，在液晶面板的生产线中，用于搬运这样大型化的玻璃基板的基板搬运装置设置于工厂内。 近年来，在对液晶面板用的玻璃基板进行处理的处理装置中，从效率化的观点出发往往边搬运基板边施行各种处理(例如，专利文献I)。另外，边搬运玻璃基板边洗净的装置例如也已公开在专利文献2中。图I是示出在专利文献I中公开的基板处理装置1000的构成的图。图I所示的基板处理装置1000串联地具备基板导入部120、基板处理部130和基板导出部140。首先，在基板导入部120中配置有上游侧交接装置110和上游侧破损检测装置111。上游侧交接装置110将基板200载至基板导入部120，其后，基板200通过辊式输送机150搬运。接着，基板处理部130包括药洗部130A、水洗部130B以及干燥部130C。在药洗部130A中设置有药液供给喷嘴121和刷洗处理用的刷子122。水洗部130B被划分为低压水供给部124、高压水供给部125、超声波洗净水供给部126和纯水供给部127。在各供给部124 127中分别在输送机150的上下两侧配置有洗净水供给用的喷嘴124a 127a等。干燥部130C对从水洗部130B导出的基板200施行干燥处理。在干燥部130C的内部以夹着输送机150的方式配置有上下一对气刀128。另外，在基板导出部140中配置有下游侧交接装置114和下游侧破损检测装置115。下游侧交接装置114将基板200导出至下游。在此，将基板200导入至搬运开始位置Pl，然后通过输送机150搬运，接着移动至基板停止位置P2。并且，用基板处理装置1000的基板处理部130能够边搬运基板200边进行洗净、干燥。现有技术文献专利文献专利文献I :特开2007-225324号公报专利文献2 :特开平3-29919号公报
发明内容
发明要解决的问题本申请的发明人发现，在实际使用基板处理装置(例如，图I所示的基板处理装置1000)的情况下，有如下的问题。图2是示出本申请的发明人验证的基板处理装置2000的一部分的截面示意图。在图2所示的基板处理装置2000中设置有包括第I处理槽230A、第2处理槽230B、第3处理槽230C的基板处理部230。在第I处理槽230A、第2处理槽230B、第3处理槽230C中配置有搬运基板200的输送机250。另外，第I处理槽230A、第2处理槽230B、第3处理槽230C分别为箱形的结构，在各处理槽之间设置有用于移动基板200的开口部290(290A、290B)。在图2所示的例子中，第2处理槽230B是湿型的洗净处理槽(例如，水洗净槽)，第3处理槽230C是干型的洗净处理槽(例如，干燥槽)。在第2处理槽230B中配置有洗净水用的喷嘴210。另外，在第3处理槽230C中配置有风淋器(air shower) 212 此外，在该 例子中第I处理槽230A是湿型的洗净处理槽(例如，药液洗净槽)。另外，在从第I处理槽230A到230C中设置有排气用的管道240。在该基板处理装置2000的构成中，湿型的处理槽230B中的液体的飞沫不会去向干型的处理槽230C —方。具体地说，处理槽230B和处理槽230C分别设置有管道，为湿型的处理槽230B中的液体的飞沫(浮游雾)被吸引的结构。另外，在处理槽230B和处理槽230C中配置有喷出空气来产生空气壁的气刀215，使得湿型的处理槽230B中的液体的飞沫不移动。该气刀215是排液幕装置，通过从气刀215喷出的空气的墙壁，基板200能够在开口部290B中移动，且该液体的飞沫会被隔断。然而，根据本申请的发明人的观测发现，实际上尽管有气刀215还是会发生从湿型的处理槽230B向干型的处理槽230C —方流动的气流300。液体的飞沫310有时会乘着该气流300从处理槽230B移动至处理槽230C，附着在位于处理槽230C的基板200上。异物(在此为飞沫)在洗净后的基板200的上面的附着可能成为下一工序的制造工艺中的不良的原因，因此无法令人满意。本申请的发明人推测了该气流300发生的原因，得出如下的结论。图3是示出气刀215周边的立体图。另外，图4和图5是示出气刀215周边的上面图。如图3所示，气刀215的宽度W2延展为覆盖基板200的宽度Wl。但是，从图4可知，在气刀215的端部215e与处理槽230B(或者处理槽230C)的壁面230e之间有间隙S。这样，如图5所示，即使在与气刀215的宽度W2相比开口部290B的宽度W与之相同或者更窄的情况下，也可能产生避开气刀215并通过间隙S和开口部290B的气流300。当液体的飞沫乘着这样的气流300时，就会发生向处理槽230C中的基板200附着的情况。本发明是鉴于上述问题而完成的，其主要目的在于提供抑制了处理槽之间的液体的飞沫(浮游雾)的移动的基板处理装置。用于解决问题的方案本发明的基板处理装置是进行基板的处理的基板处理装置，具备第I处理槽，其包含能搬运基板的搬运辊；和第2处理槽，其与上述第I处理槽连结，来自上述第I处理槽的上述搬运辊延长存在于上述第2处理槽，在上述第I处理槽和第2处理槽的边界区域配置有一对排液幕装置，配置于上述一对排液幕装置之间的搬运辊中的至少一个是在构成上述搬运辊的中心部的搬运轴的两个端部形成有吹气孔的搬运辊。
在某优选实施方式中，上述第I处理槽是湿型的处理槽，并且上述第2处理槽是干型的处理槽。在某优选实施方式中，上述搬运轴的宽度比上述排液幕装置的宽度大，在上述搬运轴的两个端部中位于上述排液幕装置的外侧的部分形成有上述吹气孔。在某优选实施方式中，上述搬运轴具有中空结构，对上述搬运轴的内部导入使之从上述吹气孔喷出的气体。在某优选实施方式中，上述一对排液幕装置分别包括上侧幕部位和下侧幕部位。在某优选实施方式中，上述基板是液晶面板用的玻璃母板。本发明的基板处理方法是处理基板的基板处理方法，包含利用搬运辊将基板搬入第I处理槽的工序(a)边利用上述搬运辊使上述基板移动，一边在上述第I处理槽中处理上述基板的第I处理工序(b);利用上述搬运辊将上述基板从上述第I处理槽搬入与 上述第I处理槽连接的第2处理槽的工序(C);以及一边利用上述搬运辊使上述基板移动，一边在上述第2处理槽中处理上述基板的第2处理工序(d)，在上述第I处理槽和上述第2处理槽的边界区域，一对排液幕装置送出气体，由此隔断在上述第I处理槽和上述第2处理槽之间的浮游雾的移动，在配置于上述一对排液幕装置之间的上述搬运辊中的至少一个中，从构成上述搬运辊的中心部的搬运轴的两个端部送出气体，由此隔断在上述一对排液幕装置的外侧迂回的浮游雾的移动。在某优选实施方式中，在上述第I处理工序(b)中执行湿型的基板洗净处理，并且在上述第2处理工序(d)中执行干型的基板洗净处理。在某优选实施方式中，上述基板是液晶面板用的玻璃母板。本发明的搬运辊是用于搬运基板的搬运辊，具备搬运轴；和基板接触部，其设置于上述搬运轴的外面，与基板接触，上述搬运轴具有中空结构，在上述搬运轴的两个端部形成有用于喷出气体的吹气孔。发明效果在本发明的基板处理装置中，在第I处理槽和第2处理槽的边界区域中配置有一对排液幕装置，配置于一对排液幕装置之间的搬运辊中的至少I个是在搬运轴的两个端部形成有吹气孔的搬运辊。从而，从在搬运轴的两个端部形成的吹气孔喷出空气，由此能够抑制在搬运轴的两个端部迂回的液体的飞沫(浮游雾)的移动。
图I是示出现有的基板处理装置1000的构成的图。图2是示出基板处理装置2000的构成的截面图。图3是示出气刀215的周边的构成的立体图。图4是示出气刀215的周边的构成的上面图。图5是示出气刀215的周边的构成的上面图。图6是示出本发明的实施方式的基板处理装置100的构成的截面图。图7是示出本发明的实施方式的搬运辊30和气刀15的构成的上面图。图8是示出本发明的实施方式的搬运辊30的构成的立体图。图9是示出本发明的实施方式的基板处理装置100的改变例的截面图。
具体实施例方式下面参照
本发明的实施方式。在下面的附图中，为了说明的简洁化，用相同的附图标记来示出实质上具有相同功能的构成要素。此外，本发明不限于下面的实施方式。图6示意性地示出本发明的实施方式的基板处理装置100的构成。本实施方式的基板处理装置100是进行基板20的处理的装置，具备包含可以搬运基板20的搬运辊32 (32a)的第I处理槽IOA和与第I处理槽IOA连结的第2处理槽10B。本实施方式的基板20是例如液晶面板用的基板、TOP(等离子体显示面板)用的基板等。图6所示的例子的基板20是液晶面板用的玻璃 母板(例如，第8代 第10代的玻璃母板)。在第2处理槽IOB中设置有搬运辊32 (32b)，该搬运辊32 (32b)是第I处理槽IOA的搬运辊32(32a)的延长。本实施方式中的第I处理槽IOA和第2处理槽IOB分别为箱型形状。在第I处理槽IOA中，在第2处理槽IOB侧形成有开口部11A，另一方面，在第2处理槽IOB中，在第I处理槽IOA侧形成有开口部11B。开口部IlA和IlB具有能使基板20通过的形状，并且通过第I处理槽IOA和第2处理槽IOB设置有包括搬运辊的基板输送机33。搬运辊32能如箭头55那样旋转，基板20沿着该旋转在搬运辊32上从第I处理槽IOA移动至第2处理槽IOB (箭头50)。此外，在第I处理槽IOA的上游侧设置有开口部13A，在第2处理槽IOB的下游侧设置有开口部13B。并且，包括搬运辊32的基板输送机33延伸到第I处理槽IOA的上游侧和第2处理槽IOB的下游侧。本实施方式的第I处理槽IOA是湿型的处理槽，并且第2处理槽IOB是干型的处理槽。在图6所示的例子中，在第I处理槽IOA中能够执行湿型的基板洗净处理，另一方面，在第2处理槽IOB中能够执行干型的基板洗净处理。在第I处理槽IOA中，在搬运辊32的上下两方配置有洗净液用的喷嘴12。虽然未图示，但也可以在第I处理槽IOA中配置洗净用的刷子。此外，在第I处理槽IOA是药液洗净槽的情况下，从洗净液用的喷嘴12喷射药液，在第I处理槽IOA是水洗净槽的情况下，从洗净液用的喷嘴12喷射水(例如，低压水、高压水、超声波洗净水、纯水等)。另外，在第2处理槽IOB配置有风淋器14。从风淋器14喷射例如干燥空气。另外，在第I处理槽IOA和第2处理槽IOB中配置有管道40，能够吸出各处理槽中的空气。另外，在第I处理槽IOA和第2处理槽IOB的边界区域60配置有一对排液幕装置15A、15B。排液幕装置15(15A、15B)是喷出空气来产生空气壁的气刀。并且，从排液幕(气刀)15送出气体(空气)，由此能够隔断浮游雾的移动。具体地说，有时在第I处理槽IOA内产生的液体的飞沫(浮游雾)会通过存在于边界区域60的开口部IlAUlB进入第2处理槽10B，但排液幕15(15A、15B)会防止该浮游雾的进入。在图6所示的构成例中，第I处理槽IOA的排液幕装置15A夹着搬运辊32包括上侧幕部位和下侧幕部位。同样，第2处理槽IOB的排液幕装置15B也夹着搬运辊32包括上侧幕部位和下侧幕部位。在本实施方式的构成中，是能从构成基板输送机33的搬运辊32中的配置于一对排液幕装置15A、15B之间的搬运辊30的两个端部喷射空气19的结构。即，配置于一对排液幕装置15A、15B之间的搬运辊30(30a、30b)中的至少一个是在构成搬运辊的中心部的搬运轴的两个端部形成有吹气孔的搬运辊30，从该吹气孔喷射空气19。在图6所示的例子中，在第I处理槽IOA中配置设置有吹气孔的搬运辊30a，并且在第2处理槽IOB中也配置设置有吹气孔的搬运辊30b。图7是示出第2处理槽IOB的搬运辊30 (30b)的周边的上面图。本实施方式的搬运辊30b包括与基板20接触的基板接触部(圆盘部)31和通过基板接触部31的中心延伸的搬运轴34。基板接触部31设置于搬运轴34的外面，但基板接触部31和搬运轴34也可以是一体型的构成。另外，搬运轴34具有中空形状(圆筒形状)，在搬运轴34的两个端部36形成有吹气孔35。在本实施方式的构成中，搬运轴34的宽度W3比排液幕装置15(15B)的宽度W2大。并且，在搬运轴34的两个端部36中位于排液幕装置15 (15B)的外侧的部分(位于区域65的部分)形成有吹气孔35。图8是放大地示出搬运辊30的两个端部36周边的立体图。搬运辊30的搬运轴34具有中空结构，因此当将空气导入搬运轴34的内部时，就能够从吹气孔35喷出空气19。要将空气导入至搬运轴34的内部，可以在搬运轴34的端部连接有空气导入用管38，从该管38导入空气。从管38导入的空气例如是干燥空气，但也可以使用其它气体(例如，氮、 氩等)。从生产线的观点出发，从管38导入与用于第2处理槽IOB的排液幕装置15B(和/或者风淋器14)所使用的气体(例如，干燥空气)相同的气体是高效的。在本实施方式的基板处理装置100中，如图7所示，在第I处理槽IOA和第2处理槽IOB的边界区域60配置有一对排液幕装置15A、15B。并且，配置于一对排液幕装置15A、15B之间的搬运辊中的至少I个是形成有吹气孔35的搬运辊30 (30a和/或者30b)。从而，即使产生于第I处理槽IOA的浮游雾92乘着气流90在排液幕装置15A的外侧迂回并通过后，穿过开口部11A、11B，然后将要在排液幕装置15B的外侧迂回时，也能够通过来自吹气孔35的空气19来抑制该浮游雾92的移动。即，通过从吹气孔35喷出的空气19，能够抑制在搬运轴34的两个端部36迂回的浮游雾92的移动(箭头90)。根据本实施方式的构成，通过来自排液幕装置15A、15B的空气壁17和来自吹气孔35的吹气19，能够抑制浮游雾92从第I处理槽IOA向第2处理槽IOB移动。其结果是，能够抑制浮游雾92 (即异物)附着到存在于第2处理槽的基板20上，因此能够减少下一工序中的制造工艺的不良的原因。如下例示地说明本实施方式的构成的尺寸。排液幕装置15(15A、15B)的宽度W2例如是250 3230mm，搬运轴34的宽度W3例如是300 3500mm。搬运轴34的直径例如是25 50mm。形成于搬运轴34的吹气孔35的直径(在圆型的情况下)例如是0. I
2.0mm。此外，吹气孔35除全面地形成于搬运轴34的外周的情况以外，也可以仅形成于搬运轴34的上部区域和下部区域。此外，在图7所示的例子中，说明了在第2处理槽IOB的一侧设置有附带吹气孔35的搬运辊30b的构成，而如果是在第I处理槽IOA的一侧也设置有附带吹气孔35的搬运辊30a的构成，能够提高抑制浮游雾92的移动的效果。另外，在本实施方式中，在一对排液幕装置15A、15B之间配置有附带吹气孔35的搬运辊30(30a、30b)，但也可以在一对排液幕装置15A、15B之间以外的区域(即，幕装置15A的上游或者幕装置15B的下游)配置附带吹气孔35的搬运辊30。除此以外，在本实施方式的搬运辊30中的搬运轴34的两个端部36形成有吹气孔35，但也可以在两个端部36以外的部位(例如，中央部)形成吹气孔35来使吹气19产生。
另外，在本实施方式的基板处理方法中，首先利用搬运辊32将基板20搬入第I处理槽10A，然后一边利用搬运辊32使基板20移动，一边在第I处理槽IOA中处理基板20。接着，利用搬运辊32将基板20搬入第2处理槽10B，然后一边利用搬运辊32使基板20移动，一边在第2处理槽IOB中处理基板20。在上述实施方式中，在第I处理槽IOA中执行基于湿处理的洗净处理，在第2处理槽IOB中执行基于干处理的干燥处理，但不限于此，也可以执行其它处理。具体地说，能够在第I处理槽IOA中执行干处理，然后在第2处理槽中进行湿处理，在这种情况下，能够利用本实施方式的机构(15A、15B、30)来抑制从第2处理槽IOB向第I处理槽IOA流入的浮游雾92的移动。除此以外，本实施方式的基板处理不限于基板20的洗净、干燥工序，也能够应用于其它处理。例如，也可以应用于基板20的涂敷工序和干燥工序等。而且，即使是第I处理槽IOA是湿处理，第2处理槽IOB是湿处理的情况，在使用于第I处理槽的液体(例如，药液)的浮游雾92 —流入第2处理槽就会在制造工艺中出现故障的情况下，也能够应用本实施方式的机构。并且，即使是第I处理槽IOA是干处理，第2处理槽IOB是干处理的情况，在想要抑制使用于第I处理槽IOA的浮游物(例如，浮游粒子)等流入第2处理槽IOB的 情况下，也可以使用本实施方式的机构。图9是示出本实施方式的基板处理装置100的改变例的截面图。在图9所示的基板处理装置100中，在第I处理槽IOA中执行干处理，在第2处理槽IOB中执行湿处理。具体地说,在第I处理槽IOA中配置有加热基板20的加热器45，在第2处理槽IOB中执行湿处理(例如，洗净处理)前，在第I处理槽IOA中执行基板20的加热工序(用于下一工序的预备处理)。在图9所示的构成中，当浮游雾从第2处理槽IOB流入第I处理槽IOA而附着于第I处理槽IOA中的基板20时，就有该浮游雾干燥后在基板20上变成污溃的可能性。在该污溃无法通过第2处理槽IOB中的洗净处理除掉的情况下，就有在以后的制造工艺中发展成不良的原因的可能性。在此，设置有一对排液幕装置15A、15B和附带吹气孔35的搬运辊30(30a、30b)，因此可以得到能够抑制上述浮游雾的移动的效果。上面说明了本发明的优选实施方式，但上述记载不是限定事项，当然可以有各种改变。工业上的可利用件根据本发明，能够提供抑制了处理槽之间的浮游雾的移动的基板处理装置。附图标记说明IOA第I处理槽IOB第2处理槽IlA 开口部IlB 开口部12 喷嘴13A 开口部13B 开口部14风淋器15排液幕装置(气刀)
17空气(空气壁)19空气(吹气)20 基板30搬运辊31基板接触部32搬运辊33基板输送机34搬运轴35吹气孔36搬运轴的两个端部38空气导入用管40 管道45加热器90 气流92浮游雾100基板处理装置121药液供给喷嘴122 刷子124低压水供给部124a 127a 喷嘴125高压水供给部126超声波洗净水供给部127纯水供给部128 气刀130基板处理部130A 药洗部 130B 水洗部130C 干燥部200 基板1000基板处理装置2000基板处理装置
权利要求
1.一种基板处理装置， 是进行基板的处理的基板处理装置， 具备 第I处理槽，其包含能搬运基板的搬运辊；和 第2处理槽，其与上述第I处理槽连结， 来自上述第I处理槽的上述搬运辊延长存在于上述第2处理槽， 在上述第I处理槽和第2处理槽的边界区域配置有一对排液幕装置， 配置于上述一对排液幕装置之间的搬运辊中的至少一个是在构成上述搬运辊的中心部的搬运轴的两个端部形成有吹气孔的搬运辊。
2.根据权利要求I所述的基板处理装置， 上述第I处理槽是湿型的处理槽，并且， 上述第2处理槽是干型的处理槽。
3.根据权利要求I或者2所述的基板处理装置， 上述搬运轴的宽度比上述排液幕装置的宽度大， 在上述搬运轴的两个端部中位于上述排液幕装置的外侧的部分形成有上述吹气孔。
4.根据权利要求I至3中的任一项所述的基板处理装置， 上述搬运轴具有中空结构， 对上述搬运轴的内部导入用于从上述吹气孔喷出的气体。
5.根据权利要求I至4中的任一项所述的基板处理装置， 上述一对排液幕装置分别包括上侧幕部位和下侧幕部位。
6.根据权利要求I至5中的任一项所述的基板处理装置， 上述基板是液晶面板用的玻璃母板。
7.一种基板处理方法， 是处理基板的基板处理方法， 包含利用搬运辊将基板搬入第I处理槽的工序(a)； 一边利用上述搬运辊使上述基板移动，一边在上述第I处理槽中处理上述基板的第I处理工序(b)； 利用上述搬运辊将上述基板从上述第I处理槽搬入与上述第I处理槽连接的第2处理槽的工序(C);以及 一边利用上述搬运辊使上述基板移动，一边在上述第2处理槽中处理上述基板的第2处理工序⑷， 在上述第I处理槽和上述第2处理槽的边界区域，一对排液幕装置送出气体，由此隔断在上述第I处理槽和上述第2处理槽之间的浮游雾的移动， 在配置于上述一对排液幕装置之间的上述搬运辊中的至少一个中，从构成上述搬运辊的中心部的搬运轴的两个端部送出气体，由此隔断在上述一对排液幕装置的外侧迂回的浮游雾的移动。
8.根据权利要求7所述的基板处理方法， 在上述第I处理工序(b)中执行湿型的基板洗净处理，并且， 在上述第2处理工序(d)中执行干型的基板洗净处理。
9.根据权利要求7或者8所述的基板处理方法，上述基板是液晶面板用的玻璃母板。
10.一种搬运辊，是用于搬运基板的搬运辊，具备搬运轴；和基板接触部，其设置于上述搬运轴的外面，与基板接触，上述搬运轴具有中空结构，在上述搬运轴的两个端部形成有用于喷出气体的吹气孔。
全文摘要
提供抑制了处理槽之间的浮游雾的移动的基板处理装置。进行基板(20)的处理的基板处理装置(100)具备包含可以搬运基板(20)的搬运辊(32)的第1处理槽(10A)和与第1处理槽(10A)连结的第2处理槽(10B)。搬运辊(32)延长存在于第2处理槽(10B)，在第1处理槽(10A)和第2处理槽(10B)的边界区域(60)中配置有一对排液幕装置(15A、15B)，配置于一对排液幕装置(15A、15B)之间的搬运辊(30)中的至少一个是在搬运轴(34)的两个端部(36)形成有吹气孔(35)的搬运辊(30)。
文档编号G02F1/1333GK102656509SQ20108005701
公开日2012年9月5日 申请日期2010年12月10日 优先权日2009年12月21日
发明者冲昌彦 申请人:夏普株式会社