专利名称：充电构件、处理盒和电子照相设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种充电构件、处理盒和电子照相设备。
背景技术：
在电子照相设备中，通常将以下结构用于接触型充电构件。充电构件具有用于确保辊隙宽度的弹性层。这类充电构件的问题在于当将充电构件在与电子照相感光构件抵接的状态下长期放置时发生压缩永久变形(以下称作“C变形”)。当放置充电构件的环境的温度和湿度变得更高时，C变形变得更加明显。在采用已经发生C变形的充电构件使电子照相感光构件充电的情况下，当发生C变形的部分(以下称作“C变形部”)通过放电区域时，不能保持均匀的微放电间隙。由此，充电构件的充电能力在C变形部与非C变形部之间产生差异。从而，在与充电构件的C变形部相对应的电子照相图像位置处产生条纹状不均匀。特别地，当仅使用DC电压作为施加至充电构件的电压时，在这类图像中容易发生不均匀。专利文献I和专利文献2分别公开了涉及减轻这类C变形的发明。引用文献列表专利文献PTLl:日本专利申请特开H09-244348PTL2:日本专利申请特开H08-69148PTL3:日本专利申请特开2003-316112PTL4:日本专利申请特开2007-127777PTL5:日本专利申请特开H09-305024PTL6:日本专利申请特开2002-207362PTL7:日本专利申请特开2003-20799
发明内容
发明要解决的问题然而，基于近年来对电子照相设备的速度、图像质量和耐久性进一步改进的需要，已经要求很少发生C变形的充电构件。考虑到上述，本发明涉及提供一种电子照相设备的充电构件，当将充电构件与感光构件相互抵接地长期放置时，所述充电构件能够抑制由可能发生的C变形引起的电子照相图像不均匀的发生。进一步地，本发明涉及提供一种能够稳定地形成高品质图像的处理盒和电子照相设备。用于解决问题的方案根据本发明的一个方面，提供一种充电构件，其包括导电性基体和在其上设置的表面层，其中所述表面层包含具有下式(I)表示的单元的化合物:
权利要求
1.一种充电构件，其包括:导电性基体，和在其上设置的表面层， 其中:所述表面层包含具有下式(I)所示单元的化合物:
2.根据权利要求1所述的充电构件，其中式(3)中的h表示0，所述式中X表示式(19)所示基团，式(19)所示基团的重复数为1-3，和式(19)中的r表示O。
3.根据权利要求1或2所述的充电构件，其中所述化合物进一步具有下式(4)所示的单元:
4.根据权利要求1-3任意一项所述的充电构件,其中在式(3)中，h和k各自表不Ο,Χ表示式(19)所示结构中由式(5)所示结构重复1-3次的基团，
5.根据权利要求1-4任意一项所述的充电构件,其中式(3)中的Zl表不具有2-6个碳原子的亚烧基。
6.根据权利要求1-5任意一项所述的充电构件，其中所述表面层包含石墨颗粒，和表面层具有源自所述石墨颗粒的凸部。
7.根据权利要求6所述的充电构件，其中所述石墨颗粒具有0.5 μ m-15 μ m的平均粒径。
8.根据权利要求6或7所述的充电构件，其中所述石墨颗粒的长径与短径之比为2以下。
9.根据权利要求6-8任意一项所述的充电构件，其中由Aym表示所述石墨颗粒的平均粒径时，80%以上的所述石墨颗粒各自具有在0.5A-5A范围内的粒径。
10.根据权利要求6-9任意一项所述的充电构件，其中所述石墨颗粒具有0.336lnm-0.3450nm的石墨(002)面的晶面间距。
11.根据权利要求1-5任意一项所述的充电构件，其中所述表面层包含粘结剂树脂，和所述表面层的表面具有由所述粘结剂树脂形成的连续相和由所述具有式(I)所示单元的化合物形成的不连续相。
12.根据权利要求1-5任意一项所述的充电构件，其中所述表面层包含粘结剂树脂和所述具有式(I)所示单元的化合物形成的树脂颗粒，和所述表面层的表面具有源自所述树脂颗粒的凸部。
13.—种处理盒，包括至少与待充电体一体化的根据权利要求1-12任意一项所述的充电构件，其中所述处理盒可拆卸地安装在电子照相设备主体上。
14.一种电子照相设备，包括至少:根据权利要求13所述的处理盒；曝光设备；和显影设备。
15.根据权利要求14所述的电子照相设备，其中通过向所述充电构件仅施加DC电压使所述待充电 体充电。
全文摘要
提供以下电子照相设备的充电构件。所述充电构件抑制了长期实施图像形成时发生的条纹状图像、斑点状图像和粗糙图像的发生。还提供各具有所述充电构件的处理盒和电子照相设备。将在乙烯基聚合物的乙烯基或侧链上具有硅氧烷树状聚合物结构的化合物物引入至包含导电性基体和表面层的充电构件的表面层中。
文档编号G03G15/02GK103154828SQ201180048708
公开日2013年6月12日 申请日期2011年10月4日 优先权日2010年10月4日
发明者黛博志, 谷口智士, 松田秀和, 高畑望, 八木泽勇介, 小出聪, 儿玉真隆 申请人:佳能株式会社