专利名称：光刻胶涂覆设备的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及半导体工艺技术领域，尤其涉及一种光刻胶涂覆设备。
背景技术：
薄膜晶体管液晶显不器(TFT-LCD,Thin Film Transistor-LiquidCrystalDisplay)是目前显示领域的主流显示器件，TFT-1XD制造工艺中的光刻胶涂覆是光刻工艺的关键步骤，其涂覆质量的好坏直接影响到薄膜晶体管阵列图形的性能优劣。目前，光刻胶涂覆主要采用“涂胶-甩胶”工艺。如图1所示，该工艺首先将待涂覆的基板11放在操作平台上，然后通过调整喷嘴平动装置13将固定在喷嘴平动装置13下方的涂覆喷嘴12调整到待涂覆的基板11上方的合适位置；随后光刻胶供给装置以一定的速度将光刻胶从涂覆喷嘴12中喷出，同时喷嘴平动装置13带动涂覆喷嘴12在该基板11上方平动，从而在该基板11上涂覆一层所需厚度的光刻胶14。在涂覆光刻胶前，待涂覆的基板11在搬运及运输过程中，极易沾染各种异物，如微小颗粒和有机污染物。由于这些异物的存在，会造成待涂覆的基板11在涂覆光刻胶后的表面不平整，从而导致各种不良情况的发生，例如，薄膜晶体管阵列图形尺寸不满足要求，互连线的断路或短路等。其中，一些不良情况在后续工艺中不可修复，即使可修复也会增加成本。
实用新型内容本实用新型的实施例提供一种光刻胶涂覆设备，解决了现有技术对待涂覆的基板涂覆光刻胶时，其上沾染的异物会导致各种不良情况发生的问题。为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案—种光刻胶涂覆设备，包括固定在喷嘴平动装置下方的涂覆喷嘴，还包括除异物装置，位于待涂覆基板上方，用于在使用所述涂覆喷嘴向所述待涂覆基板上表面涂胶的同时，向所述待涂覆基板上表面的未涂胶部分喷射气体，以使异物沿所述喷嘴平动装置的运动方向脱离所述待涂覆基板。优选地，所述除异物装置沿所述喷嘴平动装置的运动方向与所述喷嘴平动装置同步运动。其中，所述除异物装置设置在所述喷嘴平动装置上。优选地，所述的光刻胶涂覆设备，还包括高度调节机构；所述高度调节机构一端与所述喷嘴平动装置连接，另一端与所述除异物装置连接，用于调整所述除异物装置与所述待涂覆基板之间的距尚。其中，所述高度调节机构由第一连杆和第一螺杆组成，所述喷嘴平动装置具有与第一连杆相匹配的孔，所述第一连杆一端与所述除异物装置固定连接，另一端穿入所述孔;所述第一螺杆一端部分穿入所述喷嘴平动装置与其螺纹连接，并且紧顶在所述第一连杆上。[0012]优选地，所述除异物装置包括进气管、气室；所述进气管的一端与用于供给所述气体的气源连通，另一端与所述气室连通；所述气室朝向所述待涂覆基板的表面具有狭缝，所述气体经由所述进气管和所述气室从所述狭缝中喷出；所述狭缝的长度不小于所述涂覆喷嘴的涂胶宽度。其中，所述气室的进气口截面积大于该气室的出气口截面积。优选地，所述进气管上设有气体流量控制阀或者压力调节器。优选地，所述的光刻胶涂覆设备，还包括角度调节机构；所述角度调节机构一端与所述喷嘴平动装置连接，另一端与所述除异物装置连接，用于调整气体喷射方向与所述待涂覆基板之间的角度。其中，所述角度调节机构由第二连杆、套筒、转轴，第三连杆和第二螺杆构成；所述第二连杆的一端固定在所述喷嘴平动装置上，另一端与所述套筒的外表面固定连接；所述转轴一端与所述第三连杆一端固定连接，另一端穿入所述套筒内部与所述套筒活动连接；所述第二螺杆一端部分穿入所述套筒与其螺纹连接，并且紧顶在所述转轴上；所述第三连杆另一端与所述除异物装置固定连接。本实用新型实施例提供的一种光刻胶涂覆设备中，由于除异物装置可位于待涂覆基板上方，在使用涂覆喷嘴向待涂覆基板上表面涂胶时，除异物装置能够向待涂覆基板上表面的未涂胶部分喷射气体，该气体能使异物沿喷嘴平动装置的运动方向脱离待涂覆基板。这样使得除异物装置能够在涂覆喷嘴未进行涂胶操作之前，将待涂覆基板上的异物清除。从而避免了其上因沾染的异物存在导致的涂覆光刻胶后的表面不平整问题，进而避免了各种不良情况的发生。
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。图1为现有技术中光刻胶涂覆设备的示意图；图2为本实用新型实施例提供的一种光刻胶涂覆设备示意图；图3为本实用新型实施例提供的另一种光刻胶涂覆设备示意图；图4为本实用新型实施例提供的又一种光刻胶涂覆设备示意图；图5为本实用新型实施例提供的再一种光刻胶涂覆设备示意图；图6为本实用新型实施例提供的再一种光刻胶涂覆设备示意图。
具体实施方式
本实用新型提供了一种光刻胶涂覆设备，如图2所示，包括固定在喷嘴平动装置21下方的涂覆喷嘴211，还包括除异物装置212，位于待涂覆基板22上方，用于在使用涂覆喷嘴211向待涂覆基板22上表面涂覆光刻胶24的同时，向待涂覆基板22上表面的未涂胶部分23喷射气体，以使异物沿喷嘴平动装置21的运动方向脱离待涂覆基板22。本实用新型实施例提供的光刻胶涂覆设备中，由于除异物装置212位于待涂覆基板22上方，在使用涂覆喷嘴211向待涂覆基板22上表面涂覆光刻胶24时，除异物装置212能够向待涂覆基板22上表面的未涂胶部分23喷射气体，该气体能使异物沿喷嘴平动装置21的运动方向脱离待涂覆基板22。这样使得除异物装置212能够将待涂覆基板22上表面的未涂胶部分23上的异物清除。从而避免了其上因沾染的异物存在导致的涂覆光刻胶后的表面不平整问题，进而避免了各种不良情况发生。上述实施例提供的光刻胶涂覆设备中，参见图2，除异物装置212沿喷嘴平动装置21的运动方向与喷嘴平动装置21可以同步运动。即除异物装置212和喷嘴平动装置21的方向和速度大小均相同，使得待涂覆基板22上表面未涂胶部分23上的已清除异物面积恒定不变，避免清除异物的速度过快，未涂胶部分23上的一清除异物面积再落有异物。当然，除异物装置212沿喷嘴平动装置21的运动方向也可以不与喷嘴平动装置21同步运动，除异物装置212运动速度可以大于喷嘴平动装置21的运动速度，使得待涂覆基板22上表面未涂胶部分23上的已清除异物面积逐渐增大，缩短了清除异物所需时间。上述实施例提供的光刻胶涂覆设备中，参见图3，除异物装置212可以设置在喷嘴平动装置21上，这样设置使得除异物装置212与喷嘴平动装置21保持同步运动，且运动方向和速度均相同。通过调整除异物装置212距离涂覆喷嘴211的距离大小，可以避免二者距离太远导致被清除的灰尘再落回到待涂覆基板上。上述实施例提供的光刻胶涂覆设备中，如图4所示，还可以包括高度调节机构41 ；所述高度调节机构41 一端与喷嘴平动装置21连接，另一端与除异物装置212连接，用于调整除异物装置212与待涂覆基板22之间的距离。当待涂覆基板22上表面未涂胶部分23上的异物比较多时，可以缩小除异物装置212与待涂覆基板22之间的距离，使得从除异物装置212喷射出来的气体与待涂覆基板22之间的距离减小而具有较强喷射能力，从而使除异物装置212更好地清除异物。上述实施例提供的光刻胶涂覆设备中，所述高度调节机构41可由第一连杆412和第一螺杆411组成，喷嘴平动装置21具有孔，第一连杆412 —端与除异物装置212固定连接，另一端穿入该孔；第一螺杆411 一端部分穿入喷嘴平动装置21与其螺纹连接，并且紧顶在连杆411上。当需要增大或减小除异物装置212与待涂覆基板22之间的距离时，可以使第一连杆412穿入孔的长度减小或增大，再将第一螺杆411旋紧使其紧顶在第一连杆412上。上述实施例提供的光刻胶涂覆设备中，如图5所示，除异物装置212可以包括进气管51、气室52 ;进气管51的一端与用于供给气体的气源(图中未示出)连通，另一端与气室52连通；气室52的朝向待涂覆基板22的表面具有狭缝53，气体经由进气管51和气室52从狭缝53中喷出；狭缝53的长度不小于涂覆喷嘴211的涂胶宽度。由于进气管51的一端可以与气源(图中未示出)连通，另一端可以与气室52连通，气源(图中未示出)中的气体能够源源不断地输送到气室52中。气室52的朝向待涂覆基板22表面可以具有狭缝53，使得气室52中的气体喷向待涂覆玻璃基板22。当气体从进气管51进入气室52时，气体可以从狭缝53中流出。并且狭缝53的长度不小于涂覆喷嘴211的涂胶宽度，因此通过狭缝53的气体能够完全喷到待涂覆基板22的待涂胶部分22，将待涂覆基板22上表面的异物清除。上述实施例提供的光刻胶涂覆设备中，气室52的进气口面积可以大于该气室52的出气口面积，使得在同一时刻进入52的气体量大于流出气室52的气体量，储存于气室52内的气体从上述出气口喷出时，具有较大压力从而使清除异物的效果更好。[0037]上述实施例提供的光刻胶涂覆设备中，进气管51上可设有气体流量控制阀或者压力调节器，能够调节进入气室52的气体流量或压力，当待涂覆基板22上表面未涂胶部分23上的异物比较多时，通过调整上述气体流量控制阀或者压力调节器，从而可以增大从气室52中喷出的气体的流量或压力来提高气体清除异物能力，进而更好地清除异物。上述实施例提供的光刻胶涂覆设备中，如图6所示，还可以包括第二连杆61、套筒62、转轴63、第三连杆64和第二螺杆65 ;第二连杆61的一端固设在平动装置21上,另一端与套筒62的外表面固定连接；转轴63与第三连杆64 —端固定连接，且转轴63另一端穿入套筒62内部与套筒62活动连接，使得转轴63能够在套筒62中转动；由于第二螺杆65 —端部分穿入套筒62与其螺纹连接，并且紧顶在转轴63上，使得转轴63与套筒62的相对位置固定而不再转动。由于除异物装置212与第三连杆64另一端固定连接，可以通过调整转轴63与竖直方向的角度，来调整除异物装置212与竖直方向的角度，从而可以根据待涂覆基板22上表面的未涂胶部分23上的异物多少，来确定合适的角度。需要说明的是，以上实施方案在不冲突的情况下可以相互组合使用，图2至图6中相同的组件具有相同的附图标记。以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式
，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
权利要求1.一种光刻胶涂覆设备，包括固定在喷嘴平动装置下方的涂覆喷嘴，其特征在于，还包括除异物装置，位于待涂覆基板上方，用于在使用所述涂覆喷嘴向所述待涂覆基板上表面涂胶的同时，向所述待涂覆基板上表面的未涂胶部分喷射气体，以使异物沿所述喷嘴平动装置的运动方向脱离所述待涂覆基板。
2.根据权利要求1所述的光刻胶涂覆设备，其特征在于，所述除异物装置沿所述喷嘴平动装置的运动方向与所述喷嘴平动装置同步运动。
3.根据权利要求2所述的光刻胶涂覆设备，其特征在于，所述除异物装置设置在所述喷嘴平动装置上。
4.根据权利要求3所述的光刻胶涂覆设备，其特征在于，还包括高度调节机构； 所述高度调节机构一端与所述喷嘴平动装置连接，另一端与所述除异物装置连接，用于调整所述除异物装置与所述待涂覆基板之间的距离。
5.根据权利要求4所述的光刻胶涂覆设备，其特征在于，所述高度调节机构由第一连杆和第一螺杆组成，所述喷嘴平动装置具有与第一连杆相匹配的孔，所述第一连杆一端与所述除异物装置固定连接，另一端穿入所述孔； 所述第一螺杆一端部分穿入所述喷嘴平动装置与其螺纹连接，并且紧顶在所述第一连杆上。
6.根据权利要求1所述的光刻胶涂覆设备，其特征在于，所述除异物装置包括进气管、气室; 所述进气管的一端与用于供给所述气体的气源连通，另一端与所述气室连通； 所述气室朝向所述待涂覆基板的表面具有狭缝，所述气体经由所述进气管和所述气室从所述狭缝中喷出； 所述狭缝的长度不小于所述涂覆喷嘴的涂胶宽度。
7.根据权利要求6所述的光刻胶涂覆设备，其特征在于，所述气室的进气口截面积大于该气室的出气口截面积。
8.根据权利要求6所述的光刻胶涂覆设备，其特征在于，所述进气管上设有气体流量控制阀或者压力调节器。
9.根据权利要求3所述的光刻胶涂覆设备，其特征在于，还包括角度调节机构； 所述角度调节机构一端与所述喷嘴平动装置连接，另一端与所述除异物装置连接，用于调整气体喷射方向与所述待涂覆基板之间的角度。
10.根据权利要求9所述的光刻胶涂覆设备，其特征在于，所述角度调节机构由第二连杆、套筒、转轴，第三连杆和第二螺杆构成； 所述第二连杆的一端固定在所述喷嘴平动装置上，另一端与所述套筒的外表面固定连接； 所述转轴一端与所述第三连杆一端固定连接，另一端穿入所述套筒内部与所述套筒活动连接； 所述第二螺杆一端部分穿入所述套筒与其螺纹连接，并且紧顶在所述转轴上； 所述第三连杆另一端与所述除异物装置固定连接。
专利摘要本实用新型公开了一种光刻胶涂覆设备，涉及半导体工艺技术领域，为了解决现有技术对待涂覆的基板涂覆光刻胶时，其上沾染的异物会导致各种不良情况的发生。该光刻胶涂覆设备，包括固定在喷嘴平动装置下方的涂覆喷嘴，还包括除异物装置，位于待涂覆基板上方，用于在使用涂覆喷嘴向待涂覆基板上表面涂胶的同时，向待涂覆基板上表面的未涂胶部分喷射气体，以使异物沿喷嘴平动装置的运动方向脱离待涂覆基板。
文档编号G03F7/16GK202854484SQ201220575490
公开日2013年4月3日 申请日期2012年11月2日 优先权日2012年11月2日
发明者赵娜, 王守波, 王文龙, 操彬彬 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 合肥京东方光电科技有限公司