专利名称：彩膜基板的制作方法、彩膜基板及显示装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及液晶显示技术领域，具体涉及一种彩膜基板的制作方法、采用该制作方法制成的彩膜基板以及包括所述彩膜基板的显示装置。
背景技术：
由于液晶显示器为非自发光的显示器，因此需要为其中的显示面板配置光源(如背光源、前光源或外界光源)才能显示图像。按照光源的利用方式不同，可将液晶显示器分为透射式显示器、半透半反式显示器和反射式显示器。其中，半透半反式显示器由于能够同时利用外界光源和背光源所发射的光线，在户外阳光环境下、无光或弱光环境下均有良好的显示效果，因而逐渐受到瞩目。
半透半反式显示器中的显示面板一般由阵列基板和彩膜基板(CF, Color Filter,又称彩色滤光片)进行对盒，并在阵列基板与彩膜基板之间填充液晶而成。所述彩膜基板包括设置在衬底基板上的黑矩阵(BM，Black Matrix)、彩色滤光层(RGB)和平坦保护层(0C，Over Coat)，所述黑矩阵组成的图形在所述衬底基板上分隔出多个亚像素区，所述彩色滤光层覆盖在所述多个亚像素区上。每个亚像素区均可分为透射区和反射区，其中，反射区上具有适于将外界光源(如阳光或灯光等)所发射的光线进行反射的反射电极或反射层。可以看出，进入反射区的光线会经过彩色滤光层两次，进入透射区的光线只经过彩色滤光层一次，故对于同一亚像素区，其透射区与反射区所显示的图像会产生色彩不协调的现象。
为解决上述问题，一般会将彩膜基板中的彩色滤光层厚度进行调整，使透射区对应的彩色滤光层厚度增加，或使反射区对应的彩色滤光层厚度减少，从而使透射区和反射区内所呈现的图像色彩均匀一致，达到色彩协调的效果。
现有技术中，一般采用如下方式制作半透半反式显示器中的彩色滤光层:
方法一:在形成有黑矩阵的衬底基板上形成一彩色光刻胶层，采用掩模板对其进行曝光、显影，以形成透射区对应的彩色滤光层，而形成在反射区内的彩色滤光层设置有光孔，以协调色彩。对于不同颜色的滤光层来说，该方法中反射区的形状及面积均不同，因此无法共用掩模板，若彩色滤光层包括红色滤光层、绿色滤光层和蓝色滤光层，则采用该方法制作彩色滤光层时需要三张掩模板及三次曝光、显影工艺，采用的掩模板数量较多，成本较闻。
方法二:在形成有黑矩阵的衬底基板上形成一彩色光刻胶层，使用半色调或灰色调掩模板对其进行曝光、显影，所述半色调或灰色调掩模板包括掩模板非透射区域、掩模板部分透射区域和掩模板透射区域，以正性彩色光刻胶为例，所述掩模板非透射区域在彩色光刻胶上对应形成彩色光刻胶保留区域，即形成透射区对应的彩色滤光层，所述掩模板部分透射区域在彩色光刻胶上对应形成光刻胶部分保留区域，即形成反射区对应的彩色滤光层，所述掩模板透射区域在彩色光刻胶上对应形成光刻胶完全去除区域。可见透射区对应的彩色滤光层厚度大于反射区对应的彩色滤光层厚度，以协调色彩。若彩色滤光层包括红色滤光层、绿色滤光层和蓝色滤光层，则采用该方法制作彩色滤光层时需要一张半色调或灰色调掩模板(因为红色滤光层、绿色滤光层和蓝色滤光层的图形一样，故可以共用一张掩模板)及三次曝光、显影工艺，故与方法一相比，所需的掩模板的数量大大减少。但是，采用半色调或灰色调掩模板对彩色光刻胶层进行曝光时，其部分透射区域的曝光程度不易精确控制，进而使得反射区对应的彩色滤光层厚度不易精确控制，故色彩协调的效果不是很理想。
方法三:先在形成有黑矩阵的衬底基板上形成一彩色光刻胶层，使用一掩模板对其进行曝光、显影，形成透射区对应的第一彩色滤光层；然后在所述衬底基板上再形成一彩色光刻胶层，使用另一掩模板对其进行曝光、显影，形成透射区对应的第二彩色滤光层及反射区对应的彩色滤光层，其中，透射区对应的第二彩色滤光层形成于第一彩色滤光层正上方，可见透射区对应的第一彩色滤光层和第二彩色滤光层厚度和大于反射区对应的彩色滤光层厚度，并且可通过调整两次形成的彩色光刻胶层的厚度来调整透射区与反射区对应的彩色滤光层厚度之差，以达到色彩协调的效果。但是，采用这种方法制作彩色滤光层时，与方法二相比，既增加了掩模板的数量，又增加了曝光、显影工艺的次数。例如，若彩色滤光层包括红色滤光层、绿色滤光层和蓝色滤光层，则采用该方法制作彩色滤光层时需要两张掩模板及六次曝光、显影工艺，故与方法一相比该方法增加了工艺步骤和时间，提高了制造成本。
同时，采用上述方法制成的彩色滤光层中，由于透射区对应的彩色滤光层厚度大于反射区对应的彩色滤光层厚度，增大了该彩色滤光层对应的彩膜基板上的段差，为了消除段差，该彩色滤光层对应的彩膜基板中的平坦保护层比现有透射式显示器或反射式显示器中的彩膜基板中的平坦保护层的厚度更厚，故上述方法还存在浪费材料的缺点。发明内容
本发明所要解决的技术问题是针对现有技术中所存在的上述缺陷，提供一种既能达到色彩协调的效果，又能减少工艺次数和减小平坦保护层厚度的彩膜基板的制作方法、采用该制作方法制成的彩膜基板以及包括所述彩膜基板的显示装置。
解决本发明技术问题所采用的技术方案:
所述彩膜基板的制作方法包括:在衬底基板上形成黑矩阵图形和彩色滤光层图形的步骤，且所述黑矩阵图形在所述衬底基板上分隔出多个亚像素区，所述彩色滤光层覆盖在所述多个亚像素区上，所述亚像素区包括透射区和/或反射区，其中，在形成彩色滤光层图形之前，所述制作方法还包括:在衬底基板上形成多个凹槽的步骤，且亚像素区中的每个透射区的位置分别与一个凹槽的位置相对应。
优选地，形成所述彩色滤光层图形的步骤包括:
在形成有多个凹槽的衬底基板上涂覆彩色光刻胶；
采用掩模板对所述彩色光刻胶进行曝光、显影，以在所述彩色光刻胶上形成保留区域和去除区域，其中，所述保留区域的彩色光刻胶对应形成所述彩色滤光层图形，所述去除区域的彩色光刻胶被完全去除。
优选地，所述凹槽的深度是覆盖在该凹槽上的彩色滤光层厚度的0.4 0.6倍。
优选地，所述凹槽的深度是覆盖在该凹槽上的彩色滤光层厚度的0.5倍。
优选地，所述彩色滤光层至少包括红色滤光层、绿色滤光层和蓝色滤光层；所述黑矩阵图形为网格状；亚像素区中的每个透射区的横截面形状均与其对应的凹槽的横截面形状相同。
优选地，所述制作方法还包括:在所述黑矩阵图形和彩色滤光层图形远离所述衬底基板的一侧形成平坦保护层的步骤。
优选地，所述制作方法还包括:在所述平坦保护层远离所述衬底基板的一侧形成公共电极图形和隔垫物图形的步骤；
或者，所述制作方法还包括:在所述衬底基板上未形成有黑矩阵图形及彩色滤光层图形的一侧形成背面屏蔽电极图形的步骤，和在所述平坦保护层远离所述衬底基板的一侧形成隔垫物图形的步骤。
本发明同时提供一种彩膜基板，包括:衬底基板，设置在所述衬底基板上的黑矩阵和彩色滤光层，所述黑矩阵组成的图形在所述衬底基板上分隔出多个亚像素区，所述彩色滤光层覆盖在所述多个亚像素区上，所述亚像素区包括透射区和/或反射区，其中，所述衬底基板上设置有多个凹槽，且亚像素区中的每个透射区的位置分别与一个凹槽的位置相对应。
优选地，所述凹槽的深度是覆盖在该凹槽上的彩色滤光层厚度的0.4 0.6倍。
优选地，所述凹槽的深度是覆盖在该凹槽上的彩色滤光层厚度的0.5倍。
优选地，所述彩色滤光层至少包括红色滤光层、绿色滤光层和蓝色滤光层；所述黑矩阵组成的图形为网格状；亚像素区中的每个透射区的横截面形状均与其对应的凹槽的横截面形状相同。
优选地，所述彩膜基板还包括平坦保护层，所述平坦保护层设置在黑矩阵和彩色滤光层远离所述衬底基板的一侧。
优选地，所述彩膜基板还包括公共电极和隔垫物，
所述公共电极设置在所述平坦保护层远离所述衬底基板的一侧，所述隔垫物设置在所述公共电极远离所述衬底基板的一侧；
或者，所述隔垫物设置在所述平坦保护层远离所述衬底基板的一侧，所述公共电极设置在所述隔垫物远离所述衬底基板的一侧。
优选地，所述彩膜基板还包括背面屏蔽电极和隔垫物，
所述背面屏蔽电极设置在衬底基板上未设置有黑矩阵和彩色滤光层的一侧，所述隔垫物设置在平坦保护层远离所述衬底基板的一侧。
本发明同时还提供一种包括所述彩膜基板的显示装置。
有益效果:
本发明提供的彩膜基板的制作方法由于预先在衬底基板上形成了多个凹槽，并使亚像素区中的每个透射区的位置分别与一个凹槽的位置相对应，对于同一颜色的彩色滤光层来说，使得透射区对应的(即覆盖在透射区上的)彩色滤光层厚度比反射区对应的(即覆盖在反射区上的)彩色滤光层厚度厚，并可通过调整凹槽的深度来调整透射区与反射区对应的彩色滤光层厚度之差，从而达到色彩协调的效果，并且减少了工艺的次数和时间，降低了制造成本；
同时，由于彩色滤光层采用涂覆的方式(例如旋涂的方式)形成，虽然透射区对应的彩色滤光层厚度与反射区对应的彩色滤光层厚度不同，但是透射区和反射区分别对应的彩色滤光层的表面具有一定的平坦度，即表面并无段差或者段差较小，故形成在彩色滤光层和黑矩阵上的平坦保护层比现有半透半反式显示器中的平坦保护层的厚度薄(与现有透射式显示器或反射式显示器中的平坦保护层的厚度近似)，故节省了材料。
本发明所述彩膜基板的制作方法还具有工艺简单、实用、可靠性高的优点。
图1为本发明实施例1中所述彩膜基板制作方法的流程图2为本发明实施例2中所述彩膜基板制作方法的流程图3为图2中完成步骤s201后的彩I旲基板的结构不意图4为图2中完成步骤s202后的彩I旲基板的结构不意图5为图2中完成步骤s203后的彩I旲基板的结构不意图6为图2中完成步骤s204后的彩膜基板的结构示意图。
图中:1 一衬底基板；2 —黑矩阵；3 —凹槽；4 一红色滤光层；5 —绿色滤光层；6 —蓝色滤光层；7 —平坦保护层；I 一透射区；II 一反射区。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和实施例对本发明所述彩膜基板的制作方法、彩膜基板及显示装置作进一步详细描述。
实施例1:
如图1所示，本实施例提供一种彩膜基板的制作方法，包括如下步骤:
slO0.提供一衬底基板。
所述衬底基板应经过洁净后无尘无杂质离子。所述衬底基板可采用玻璃基板、石英基板、塑料基板等透明基板。
slOl.在衬底基板上形成多个凹槽。
所述多个凹槽的形成方法具体为:在衬底基板上涂敷一层光刻胶，采用掩模板对所述光刻胶进行曝光、显影，以在所述衬底基板上形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域，其中，光刻胶去除区域对应所述多个凹槽的区域，然后对暴露出来的衬底基板进行刻蚀，最后通过光刻胶剥离工艺将剩余的光刻胶剥离，以形成多个凹槽。
sl02.在完成步骤SlOl的衬底基板上形成黑矩阵图形，所述黑矩阵图形在所述衬底基板上分隔出多个亚像素区，所述亚像素区包括透射区和/或反射区，且亚像素区中的每个透射区的位置分别与一个凹槽的位置相对应。
所述亚像素区包括透射区和/或反射区指的是:每个亚像素区中既包括透射区又包括反射区；或者，某些亚像素区只包括透射区，某些亚像素区只包括反射区。当然，不论是哪种情况，所述衬底基板上只有透射区对应的位置处形成有凹槽。当每个亚像素区中既包括透射区又包括反射区时，其中的透射区与反射区的形状及位置关系不限，例如所述透射区与反射区分别位于该亚像素区的左右两侧；或者，所述透射区位于中心，所述反射区位于透射区的四周并将其包围(近似于“回”字)。
所述黑矩阵可采用树脂或金属等制成。
sl03.在完成步骤SlOl的衬底基板上形成彩色滤光层图形，所述彩色滤光层覆盖在所述多个亚像素区上。
优选地，形成所述彩色滤光层图形的步骤包括:
在形成有黑矩阵图形和多个凹槽的衬底基板上涂覆彩色光刻胶，所述彩色光刻胶的涂覆方式可采用旋涂的方式；
采用掩模板对所述彩色光刻胶进行曝光、显影，以在所述彩色光刻胶上形成保留区域和去除区域，其中，所述保留区域的彩色光刻胶对应形成所述彩色滤光层图形，所述去除区域的彩色光刻胶被完全去除。
优选地，所述彩色滤光层至少包括红色滤光层、绿色滤光层和蓝色滤光层。需要说明的是，所述彩色滤光层不限于包括红色滤光层、绿色滤光层和蓝色滤光层的情况，还可以包括黄色滤光层、透明色滤光层、酒红色滤光层、紫色滤光层等，对于本领域技术人员能想到的所有颜色及其组合或变型形成的彩色滤光层都可以作为本发明实施例中所述的彩色滤光层。
需要说明的是，本实施例中，步骤sl01、sl02和sl03的顺序并不是固定的，还可以有如下顺序:sl02 — slOl — sl03或slOl — sl03 — sl02。也就是说，可以先在衬底基板上形成黑矩阵图形，然后在形成有黑矩阵图形的衬底基板上形成多个凹槽，再在形成有黑矩阵图形和多个凹槽的衬底基板上形成彩色滤光层图形；也可以先在衬底基板上形成多个凹槽，然后在形成有多个凹槽的衬底基板上形成彩色滤光层图形，再在形成有多个凹槽和彩色滤光层图形的衬底基板上形成黑矩阵图形。
可见，对于同一颜色的滤光层来说，彩膜基板上透射区对应的(即覆盖在透射区上的)彩色滤光层厚度比反射区对应的(即覆盖在反射区上的)彩色滤光层厚度厚，可通过调整所述多个凹槽的深度来调整透射区与反射区对应的彩色滤光层厚度之差，从而达到色彩协调的效果。
实施例2:
如图2所示，本实施例提供一种彩膜基板的制作方法，包括如下步骤:
s200.提供一衬底基板。
所述衬底基板应经过洁净后无尘无杂质离子。所述衬底基板可采用玻璃基板、石英基板、塑料基板等透明基板。
S201.在衬底基板上形成黑矩阵图形，所述黑矩阵图形为网格状，所述黑矩阵图形在所述衬底基板上分隔出多个亚像素区，所述亚像素区包括透射区和反射区。完成该步骤的彩膜基板的结构如图3所示，本实施例中，所述亚像素区中的反射区II位于透射区I的四周并将其包围，以达到更好的显示效果。
具体地，以黑矩阵材质采用金属材料为例，在衬底基板I上沉积黑矩阵薄膜，然后在其上涂敷一层光刻胶，采用掩模板对所述光刻胶进行曝光、显影，以在所述衬底基板上形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域，其中，光刻胶保留区域对应黑矩阵图形的区域，再对暴露出来的黑矩阵薄膜进行刻蚀，最后通过光刻胶剥离工艺将剩余的光刻胶剥离，形成黑矩阵2图形。若黑矩阵材质采用感光性树脂，利用其感光性质，可省略使用光刻胶，直接进行曝光、显影即可制得黑矩阵2图形。
s202.在完成步骤s201的衬底基板上形成多个凹槽，并使得亚像素区中的每个透射区的位置分别与一个凹槽的位置相对应，且亚像素区中的每个透射区的横截面形状均与其对应的凹槽的横截面形状相同。所述横截面与衬底基板表面平行。完成该步骤的彩膜基板的结构如图4所示。
具体地，在完成步骤S201的衬底基板上涂敷一层光刻胶，采用掩模板对所述光刻胶进行曝光、显影，以在所述衬底基板上形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域，其中，光刻胶去除区域对应所述多个凹槽的区域，然后对暴露出来的衬底基板进行刻蚀，最后通过光刻胶剥离工艺将剩余的光刻胶剥离，形成多个凹槽3。
s203.在完成步骤s202的衬底基板上分别形成红色滤光层图形、绿色滤光层图形和蓝色滤光层图形(即彩色滤光层图形，以包含红色、绿色和蓝色三种颜色滤光层图形为例，但不限于此)，且所述红色滤光层图形、绿色滤光层图形和蓝色滤光层图形分别覆盖在不同的亚像素区上。完成该步骤的彩膜基板的结构如图5所示。
优选地，所述凹槽3的深度是覆盖在该凹槽上的红色滤光层4/绿色滤光层5/蓝色滤光层6厚度的0.4 0.6倍。例如，所述凹槽3的深度为0.5 μ m 1.0 μ m。
进一步优选地，所述凹槽3的深度是覆盖在该凹槽上的红色滤光层4/绿色滤光层5/蓝色滤光层6厚度的0.5倍，即覆盖在该凹槽上的彩色滤光层(即红色滤光层4、绿色滤光层5或蓝色滤光层6)的厚度为覆盖在该凹槽所对应的亚像素区中的反射区II上的彩色滤光层厚度的两倍。
需要说明的是，从色彩协调的角度考虑，覆盖有不同颜色滤光层的凹槽的深度可以不相同，也就是说，形成在衬底基板上的所有凹槽的深度并不一定相同，本领域技术人员可根据实际情况设计不同颜色滤光层对应的凹槽的深度。
本步骤中，所述红色滤光层图形、绿色滤光层图形和蓝色滤光层图形的形成顺序不限。
下面以在完成步骤S202的衬底基板上依次形成红色滤光层图形、绿色滤光层图形和蓝色滤光层图形为例对步骤s203进行详细说明。
所述步骤s203具体为:
S203-1.采用旋涂的方式在完成步骤s202的衬底基板上形成红色光刻胶，然后采用掩模板对所述红色光刻胶进行曝光、显影，以在所述红色光刻胶上形成保留区域和去除区域，其中，所述保留区域对应形成红色滤光层图形，所述去除区域的红色光刻胶被完全去除。
S203-2.采用旋涂的方式在完成步骤s203_l的衬底基板上形成绿色光刻胶，然后采用掩模板对所述绿色光刻胶进行曝光、显影，以在所述绿色光刻胶上形成保留区域和去除区域，其中，所述保留区域对应形成绿色滤光层图形，所述去除区域的绿色光刻胶被完全去除。
S203-3.采用旋涂的方式在完成步骤s203_2的衬底基板上形成蓝色光刻胶，然后采用掩模板对所述蓝色光刻胶进行曝光、显影，以在所述蓝色光刻胶上形成保留区域和去除区域，其中，所述保留区域对应形成蓝色滤光层图形，所述去除区域的蓝色光刻胶被完全去除。
s204.在完成步骤s203的衬底基板上形成平坦保护层7，即在所述黑矩阵图形和彩色滤光层图形远离所述衬底基板的一侧形成平坦保护层。完成该步骤的彩膜基板的结构如图6所示。
具体地，在完成步骤s203的衬底基板上通过沉积、溅射或者涂覆等方式在黑矩阵图形和彩色滤光层图形远离所述衬底基板的一侧形成平坦保护层。所述平坦保护层可以采用有机树脂材料。
若本实施例所述彩膜基板为TN (Twisted-Nematic，扭曲向列)型TFT-LCD的彩膜基板，则所述制作方法还包括:
A11-1.在完成步骤s204的衬底基板上形成公共电极图形，即在所述平坦保护层远离所述衬底基板的一侧形成公共电极图形。
A12-1.在完成步骤All-1的衬底基板上形成隔垫物图形，即在所述公共电极图形远离所述衬底基板的一侧形成隔垫物图形。
或者，
A11-2.在完成步骤s204的衬底基板上形成隔垫物图形，即在所述平坦保护层远离所述衬底基板的一侧形成隔垫物图形。
A12-2.在完成步骤A11-2的衬底基板上形成公共电极图形，即在所述隔垫物图形远离所述衬底基板的一侧形成公共电极图形。
若本实施例所述彩膜基板为ADS (ADvanced Super Dimension Switch,高级超维场转换技术)型TFT-LCD的彩膜基板，则所述制作方法还包括:
A21.在完成步骤s204的衬底基板上形成隔垫物(PS，Post Spacer)图形，即在所述平坦保护层远离所述衬底基板的一侧形成隔垫物图形。
A22.在衬底基板上未形成有黑矩阵图形及彩色滤光层图形的一侧形成背面屏蔽电极图形。其中，背面屏蔽电极的材质可以选用透明导电材料，例如氧化铟锡(ITO，IndiumTin Oxide)等。需要说明的是，由于背面屏蔽电极图形形成在衬底基板的一侧，而黑矩阵、凹槽、红色滤光层、绿色滤光层、蓝色滤光层及平坦保护层均形成在衬底基板的另一侧，故步骤A22可在步骤s201 A21之前、之中或之后完成。
高级超维场转换技术(ADvanced Super Dimension Switch,简称ADS)通过同一平面内狭缝电极边缘所产生的电场以及狭缝电极层与板状电极层间产生的电场形成多维电场，使液晶盒内狭缝电极间、电极正上方所有取向液晶分子都能够产生旋转，从而提高了液晶工作效率并增大了透光效率。高级超维场转换技术可以提高TFT-1XD产品的画面品质，具有高分辨率、高透过率、低功耗、宽视角、高开口率、低色差、无挤压水波纹(push Mura)等优点。针对不同应用，ADS技术的改进技术有高透过率1-ADS技术、高开口率H-ADS和高分辨率S-ADS技术等。
所述背面屏蔽电极一般与设置在彩膜基板或阵列基板中的接地点(GroundDotting)相连，用于将来自外界的静电电荷通过接地点耗散掉，可有效避免来自外界的静电和电磁干扰。
本实施例中的其他方法及作用都与实施例1相同，这里不再赘述。
实施例3:
本实施例提供一种彩膜基板，包括衬底基板、设置在所述衬底基板上的黑矩阵和彩色滤光层，所述黑矩阵组成的图形在所述衬底基板上分隔出多个亚像素区，所述彩色滤光层覆盖在所述多个亚像素区上，所述亚像素区包括透射区和/或反射区，所述衬底基板上设置有多个凹槽，亚像素区中的每个透射区的位置分别与一个凹槽的位置相对应。
所述亚像素区包括透射区和/或反射区指的是:每个亚像素区中既包括透射区又包括反射区；或者，某些亚像素区只包括透射区，某些亚像素区只包括反射区。当然，不论是哪种情况，所述衬底基板上只有透射区对应的位置处形成有凹槽。当每个亚像素区中既包括透射区又包括反射区时，其中的透射区与反射区的形状及位置关系不限，例如所述透射区与反射区分别位于该亚像素区的左右两侧；或者，所述透射区位于中心，所述反射区位于透射区的四周并将其包围(近似于“回”字)。
所述衬底基板可采用玻璃基板、石英基板、塑料基板等透明基板；所述黑矩阵可采用树脂或金属等制成。
优选地，所述彩色滤光层至少包括红色滤光层、绿色滤光层和蓝色滤光层。需要说明的是，所述彩色滤光层不限于包括红色滤光层、绿色滤光层和蓝色滤光层的情况，还可以包括黄色滤光层、透明色滤光层、酒红色滤光层、紫色滤光层等，对于本领域技术人员能想到的所有颜色及其组合或变型形成的彩色滤光层都可以作为本发明实施例中所述的彩色滤光层。
可见，对于同一颜色的滤光层来说，彩膜基板上透射区对应的(即覆盖在透射区上的)彩色滤光层厚度比反射区对应的(即覆盖在反射区上的)彩色滤光层厚度厚，可通过调整所述多个凹槽的深度来调整透射区与反射区对应的彩色滤光层厚度之差，从而达到色彩协调的效果。
本实施例还提供一种包括上述彩膜基板的显示装置，其包括上述任意一种彩膜基板。所述显示装置可以为:液晶面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
实施例4:
本实施例提供一种彩膜基板，如图6所示，所述彩膜基板包括衬底基板1，设置在衬底基板I上的黑矩阵2、红色滤光层4、绿色滤光层5和蓝色滤光层6，设置在黑矩阵2、红色滤光层4、绿色滤光层5和蓝色滤光层6上的平坦保护层7。
其中，所述黑矩阵2组成的图形在所述衬底基板I上分隔出多个亚像素区，所述黑矩阵2组成的图形为网格状，所述红色滤光层4、绿色滤光层5和蓝色滤光层6分别覆盖在所述多个亚像素区上，所述亚像素区包括透射区I和反射区II。并且，所述衬底基板I上设置有多个凹槽3，亚像素区中的每个透射区I的位置均与一个凹槽的位置相对应，亚像素区中的每个透射区I的横截面形状均与其对应的凹槽的横截面形状相同。所述横截面与衬底基板表面平行。
优选地，所述凹槽3的深度是覆盖在该凹槽上的彩色滤光层厚度的0.4 0.6倍。例如，所述凹槽的深度为0.5 μ m 1.0 μ m。
进一步优选地，所述凹槽3的深度与覆盖在该凹槽上的彩色滤光层厚度的0.5倍，即覆盖在该凹槽上的彩色滤光层(即红色滤光层4、绿色滤光层5或蓝色滤光层6)的厚度为覆盖在该凹槽所对应的亚像素区中的反射区II上的彩色滤光层厚度的两倍。
需要说明的是，从色彩协调的角度考虑，覆盖有不同颜色滤光层的凹槽的深度可以不相同，也就是说，形成在衬底基板上的所有凹槽的深度并不一定相同，本领域技术人员可根据实际情况设计不同颜色滤光层对应的凹槽的深度。
若本实施例所述彩膜基板为TN (Twisted-Nematic，扭曲向列)型TFT-LCD的彩膜基板，则所述彩膜基板还包括公共电极和隔垫物，所述公共电极设置在所述平坦保护层远离所述衬底基板的一侧，所述隔垫物设置在所述公共电极远离所述衬底基板的一侧；或者，所述隔垫物设置在所述平坦保护层远离所述衬底基板的一侧，所述公共电极设置在所述隔垫物远离所述衬底基板的一侧。
若本实施例所述彩膜基板为ADS (ADvanced Super Dimension Switch,高级超维场转换技术)型TFT-1XD的彩膜基板，则所述彩膜基板还包括背面屏蔽电极和隔垫物，所述背面屏蔽电极设置在衬底基板上未设置有黑矩阵和彩色滤光层的一侧，所述隔垫物设置在平坦保护层远离所述衬底基板的一侧。
所述背面屏蔽电极一般与设置在彩膜基板或阵列基板中的接地点(GroundDotting)相连，用于将来自外界的静电电荷通过接地点耗散掉，可有效避免来自外界的静电和电磁干扰。
本实施例还提供一种包括上述彩膜基板的显示装置，其包括上述任意一种彩膜基板。所述显示装置可以为:液晶面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
本实施例中的其他结构及作用都与实施例3相同，这里不再赘述。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
权利要求
1.一种彩膜基板的制作方法，包括:在衬底基板上形成黑矩阵图形和彩色滤光层图形的步骤，且所述黑矩阵图形在所述衬底基板上分隔出多个亚像素区，所述彩色滤光层覆盖在所述多个亚像素区上，所述亚像素区包括透射区和/或反射区，其特征在于，在形成彩色滤光层图形之前，所述制作方法还包括:在衬底基板上形成多个凹槽的步骤，且亚像素区中的每个透射区的位置分别与一个凹槽的位置相对应。
2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，形成所述彩色滤光层图形的步骤包括: 在形成有多个凹槽的衬底基板上涂覆彩色光刻胶； 采用掩模板对所述彩色光刻胶进行曝光、显影，以在所述彩色光刻胶上形成保留区域和去除区域，其中，所述保留区域的彩色光刻胶对应形成所述彩色滤光层图形，所述去除区域的彩色光刻胶被完全去除。
3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述凹槽的深度是覆盖在该凹槽上的彩色滤光层厚度的0.4 0.6倍。
4.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述凹槽的深度是覆盖在该凹槽上的彩色滤光层厚度的0.5倍。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的制作方法，其特征在于，所述彩色滤光层至少包括红色滤光层、绿色滤光层和蓝色滤光层；所述黑矩阵图形为网格状；亚像素区中的每个透射区的横截面形状均与其对应的凹槽的横截面形状相同。
6.根据权利要求1-4中任一项所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括:在所述黑矩阵图形和彩色滤光层图形远离所述衬底基板的一侧形成平坦保护层的步骤。
7.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于， 所述制作方法还包括:在所述平坦保护层远离所述衬底基板的一侧形成公共电极图形和隔垫物图形的步骤； 或者，所述制作方法还包括:在所述衬底基板上未形成有黑矩阵图形及彩色滤光层图形的一侧形成背面屏蔽电极图形的步骤，和在所述平坦保护层远离所述衬底基板的一侧形成隔垫物图形的步骤。
8.一种彩膜基板，包括:衬底基板，设置在所述衬底基板上的黑矩阵和彩色滤光层，所述黑矩阵组成的图形在所述衬底基板上分隔出多个亚像素区，所述彩色滤光层覆盖在所述多个亚像素区上 ，所述亚像素区包括透射区和/或反射区，其特征在于，所述衬底基板上设置有多个凹槽，且亚像素区中的每个透射区的位置分别与一个凹槽的位置相对应。
9.根据权利要求8所述的彩膜基板，其特征在于，所述凹槽的深度是覆盖在该凹槽上的彩色滤光层厚度的0.4 0.6倍。
10.根据权利要求9所述的彩膜基板，其特征在于，所述凹槽的深度是覆盖在该凹槽上的彩色滤光层厚度的0.5倍。
11.根据权利要求8-10中任一项所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩色滤光层至少包括红色滤光层、绿色滤光层和蓝色滤光层；所述黑矩阵组成的图形为网格状；亚像素区中的每个透射区的横截面形状均与其对应的凹槽的横截面形状相同。
12.根据权利要求8-10中任一项所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括平坦保护层，所述平坦保护层设置在黑矩阵和彩色滤光层远离所述衬底基板的一侧。
13.根据权利要求12所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括公共电极和隔垫物， 所述公共电极设置在所述平坦保护层远离所述衬底基板的一侧，所述隔垫物设置在所述公共电极远离所述衬底基板的一侧； 或者，所述隔垫物设置在所述平坦保护层远离所述衬底基板的一侧，所述公共电极设置在所述隔垫物远离所述衬底基板的一侧。
14.根据权利要求12所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括背面屏蔽电极和隔垫物， 所述背面屏蔽电极设置在衬底基板上未设置有黑矩阵和彩色滤光层的一侧，所述隔垫物设置在平坦保护层远离所述衬底基板的一侧。
15.一种显示 装置，包括如权利要求8-14中任一项所述的彩膜基板。
全文摘要
本发明提供一种彩膜基板的制作方法，包括在衬底基板上形成黑矩阵图形和彩色滤光层图形的步骤，且所述黑矩阵图形在所述衬底基板上分隔出多个亚像素区，所述彩色滤光层覆盖在所述多个亚像素区上，所述亚像素区包括透射区和/或反射区，在形成彩色滤光层图形之前，所述制作方法还包括在衬底基板上形成多个凹槽的步骤，亚像素区中的每个透射区的位置分别与一个凹槽的位置相对应。相应地，提供一种采用所述制作方法制成的彩膜基板以及包括所述彩膜基板的显示装置。本发明所述彩膜基板的制作方法既能达到色彩协调的效果，又能减少工艺次数和减小平坦保护层厚度。
文档编号G02F1/1335GK103149731SQ201310076478
公开日2013年6月12日 申请日期2013年3月11日 优先权日2013年3月11日
发明者齐永莲, 舒适, 惠官宝 申请人:京东方科技集团股份有限公司