阵列基板和半透半反液晶显示面板的制作方法与工艺

技术特征：
1.一种阵列基板，包括由交叉分布的栅线和数据线划分出的数个子像素区域，所述子像素区域包括透射区和反射区，其特征在于，所述反射区包括聚合物分散液晶层；所述阵列基板还包括调节模块和开关管，所述聚合物分散液晶层的部分直接沉积在所述开关管的漏极上；当外界的光强小于预设光强时，所述调节模块向所述开关管发送调节信号，以将所述反射区由非透明状态调节为透明状态；所述反射区还包括位于所述聚合物分散液晶层上的透明的增强反射层，所述增强反射层的表面具有多个突起，所述增强反射层的相对折射率大于所述聚合物分散液晶层。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述突起的截面为梯形。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：第一信号线和第二信号线，所述第一信号线连接所述调节模块和所述开关管的栅极，所述第二信号线连接所述调节模块和所述开关管的源极，所述开关管的漏极连接所述聚合物分散液晶层。4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述开关管的栅极、栅极绝缘层和漏极是透明的。5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述开关管表面和所述聚合物分散液晶层上覆盖有透明的绝缘层。6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述调节模块包括光电感应装置。7.一种半透半反液晶显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-6任一项所述的阵列基板。