专利名称：摩擦装置的制作方法
技术领域：
摩擦装置技术领域[0001]本实用新型涉及液晶显示技术领域，具体涉及一种摩擦形成取向膜的摩擦装置。
背景技术：
[0002]目前，薄膜晶体管液晶显不器(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display,简称TFT-LCD)是显示产品中主要使用的显示装置。随着技术的进步，消费者对液晶显示产品的显示效果提出了更高的要求，普通的TN(Twisted Nematic,扭曲向列)型液晶显示器的显示效果已经不能满足市场的需求。目前，各大厂商正逐渐将显示效果更优良的各种广视角技术应用于液晶显示产品中，比如IPS(In-Plane Switching,共面转换)、FFS (FringeField Switching,边缘场开关)、AD_SDS (Advanced-Super Dimensional Switching,高级超维场开关，简称为ADS)等广视角技术。[0003]在液晶显示器的制造过程中，需要在基板上制造一个均匀取向的取向层(例如由聚酰亚胺层形成的取向层)，以确保液晶分子能均匀、有序的排列在该取向层上。取向层通常可通过摩擦工艺(rubbing)制造。目前的取向摩擦工艺主要采用一种机械取向摩擦的方式，具体为:通过贴附有摩擦布的摩擦辊，在形成有PI (Polyimide，聚酰亚胺)膜的阵列基板或彩膜基板上滚动摩擦，形成许多均匀取向的沟槽，从而产生取向层。[0004]在传统的TN型产品摩擦取向过程中，由于对产品的显示品质要求不高,所使用的摩擦布通常为棉布，这是由于在摩擦过程中，棉布产生的摩擦琐屑很少，能够避免摩擦琐屑残留造成黑mura (斑点)等不良；但是由于棉布纤维过软且参差不齐，其形成的沟槽均匀度较低，会造成rubbing(摩擦)不良；因此，随着对产品品质要求的提高，在ADS型、IPS型或者FFS型产品摩擦取向过程中，使用的摩擦布通常为尼龙布，在摩擦取向过程中难免会出现一些琐屑，而残留的琐屑容易造成黑mura等不良，影响产品的显示效果。在实际生产过程中，摩擦琐屑多出现在阵列基板上，这是因为在阵列基板上形成有ITO (Indium tin oxide,氧化铟锡)等导电层，其上聚集的静电容易吸附摩擦琐屑，相反，这些产品的彩膜基板上由于没有ITO层，不存在静电吸附，因此基本不会在摩擦后残留摩擦琐屑。[0005]现有技术中，通常的解决方法主要有:更换摩擦布以及改进清洗摩擦琐屑工艺，但均收效甚微。[0006]综上所述，一种能够避免或者减少摩擦琐屑出现在阵列基板的摩擦装置是亟待提供的。实用新型内容[0007](一)要解决的技术问题[0008]本实用新型的目的在于提供一种能够避免或者减少摩擦琐屑出现在阵列基板上的摩擦装置，从而降低黑mura等不良的产生几率，提高显示装置的良率。[0009](二)技术方案[0010]本实用新型技术方案如下:[0011]一种摩擦装置，包括承载待摩擦基板的摩擦基台，所述待摩擦基板为形成有导电层的阵列基板；所述摩擦基台上设置有可与所述导电层连接的去静电机构。[0012]优选的，所述导电层包括公共电极；从所述公共电极引出有测试接线端，所述去静电机构可连接至所述测试接线端。[0013]优选的，所述去静电机构为接地的导电压片，所述导电压片可压合在所述测试接线端。[0014]优选的，所述测试接线端分布在所述阵列基板的侧边，所述导电压片分布在所述阵列基板的周边。[0015]优选的，所述导电压片一侧旋转连接在所述摩擦基台上，所述测试接线端位于所述导电压片旋转圆周范围内。[0016]优选的，所述导电压片一侧通过合页固定在所述摩擦基台上。[0017]优选的，所述导电压片一侧与固定在所述摩擦基台上的转轴连接。[0018]优选的，所述导电压片为弹性薄片，其一端固定在所述摩擦基台上；所述导电压片弯曲后可压合在所述测试接线端。[0019](三)有益效果[0020]本实用新型的一种摩擦装置通过在摩擦基台上设置可与阵列基板上的导电层连接的去静电机构，通过去静电机构去除导电层上聚集的静电，从而在最大程度上避免吸附摩擦琐屑，因此能够降低的产生几率，提高显示装置的良率；同时，相比于更换摩擦布以及改进清洗摩擦琐屑工艺，本实用新型不但效果显著，且操作简易，成本极低。
[0021]图1是本实用新型实施例的摩擦装置在导电压片未压合测试接线端时的剖视结构示意图；[0022]图2是图1中所示摩擦装置在导电压片压合测试接线端时的剖视结构示意图；[0023]图3是图1中所示摩擦装置承载一种阵列基板时的俯视结构示意图；[0024]图4是图3中所示摩擦装置的局部放大图；[0025]图5是图3中所示摩擦装置导电压片压合测试接线端时的俯视结构示意图；[0026]图6是图1中所示摩擦装置承载另一种阵列基板时的俯视结构示意图；[0027]图7是图6中所示摩擦装置的局部放大图；[0028]图8是图6中所示摩擦装置导电压片压合测试接线端时的俯视结构示意图。[0029]图中:1:摩擦基台；2:阵列基板；3:测试接线端；4:导电压片；5:转轴。
具体实施方式
[0030]
以下结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式
做进一步描述。以下实施例仅用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。[0031]现有技术中的摩擦设备通常包括:摩擦辊、摩擦基台以及驱动机构等；其中摩擦基台主要作为承载待摩擦基板的基台面。本实用新型的主要改进之处在于，在摩擦基台上设置了去静电机构，当形成有公共电极等导电层的阵列基板放置上摩擦基台后，将去静电机构连接至公共电极等导电层，从而通过去静电机构去除公共电极等导电层上聚集的静电，在最大程度上避免吸附摩擦琐屑。在阵列基板的制备过程中，为了方便后续的产品测试以及检验，通常预留有从公共电极等导电层引出的测试接线端，这样就极大的方便了去静电机构与公共电极等导电层的连接，仅仅需要将去静电机构连接至测试接线端即可。由于本实用新型能够避免或者减少阵列基板吸附摩擦琐屑，因此能够降低的产生几率，提高显示装置的良率；同时，本实用新型操作简易，成本极低，具备很强的实用价值。[0032]上述去静电机构可以有多种实现方式，例如，通过导线分别连接至各个测试接线端，将测试接线端接地，从而去除公共电极等导电层上聚集的静电；但是上述方法需要一一连接测试接线端，为了方便快速的去除静电，本实施例中的去静电机构为接地的导电压片4，如图1中所示；由于测试接线端3通常分布在阵列基板2的两侧，因此，在需要去除静电时，将导电压片4压合在测试接线端3上即可，如图2中所示；由于导电压片4可以一次性压合在一整排的测试接线端3上，因此可以一次性的快速去除静电。由于测试接线端可能分布在阵列基板上的任意两侧，即可能分布在阵列基板的两个长边上，如图3以及图4中所示；也可能分布在阵列基板的两个短边上，如图6以及图7中所示；因此，本实施例中在摩擦基台I的四个边缘均设置有导电压片4，方便对于上述任意一种阵列基板进行去静电处理。[0033]为了使导电压片4能够方便的在需要去静电时压合在测试接线端3上，而在去静电完成后方便的远离测试接线端3，避免影响后续的摩擦取向工艺，可以使用弹性材质制备导电压片，例如导电压片4为弹簧片，其一端固定在摩擦基台I上，导电压片4弯曲后另一端可压合在测试接线端3进行去静电处理，去静电完成后自动弹回至原先位置；也可以将导电压片4 一侧旋转连接在摩擦基台I上，而测试接线端3位于导电压片4旋转圆周范围内；旋转连接可以通过合页将导电压片4 一侧页固定在摩擦基台I上来实现，也可以如图1以及图2中所示，将导电压片4 一侧与固定在摩擦基台I上的转轴5连接，这样同样可以实现旋转连接。实际操作中，当测试接线端分布在两个长边上的阵列基板(如图3中所示)需要进行去静电处理时，将左右两侧的导电压片4旋转，使之压合在测试接线端3上即可，具体如图5中所示；当测试接线端分布在两个短边上的阵列基板(如图6中所示)需要进行去静电处理时，将前后两侧的导电压片4旋转，使之压合在测试接线端3上即可，具体如图8中所示。[0034]以上实施方式仅用于说明本实用新型，而并非对本实用新型的限制，有关技术领域的普通技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围的情况下，还可以做出各种变化和变型，因此所有等同的技术方案也属于本实用新型的保护范畴。
权利要求1.一种摩擦装置，包括承载待摩擦基板的摩擦基台，所述待摩擦基板为形成有导电层的阵列基板；其特征在于，所述摩擦基台上设置有可与所述导电层连接的去静电机构。
2.根据权利要求1所述的摩擦装置，其特征在于，所述导电层包括公共电极；从所述公共电极引出有测试接线端，所述去静电机构可连接至所述测试接线端。
3.根据权利要求2所述的摩擦装置，其特征在于，所述去静电机构为接地的导电压片，所述导电压片可压合在所述测试接线端。
4.根据权利要求3所述的摩擦装置，其特征在于，所述测试接线端分布在所述阵列基板的侧边，所述导电压片分布在所述阵列基板的周边。
5.根据权利要求3或4所述的摩擦装置，其特征在于，所述导电压片一侧旋转连接在所述摩擦基台上，所述测试接线端位于所述导电压片旋转圆周范围内。
6.根据权利要求5所述的摩擦装置，其特征在于，所述导电压片一侧通过合页固定在所述摩擦基台上。
7.根据权利要求5所述的摩擦装置，其特征在于，所述导电压片一侧与固定在所述摩擦基台上的转轴连接。
8.根据权利要求3或4所述的摩擦装置，其特征在于，所述导电压片为弹性薄片，其一端固定在所述 摩擦基台上；所述导电压片弯曲后可压合在所述测试接线端。
专利摘要本实用新型涉及液晶显示技术领域，具体涉及一种摩擦形成取向膜的摩擦装置。该摩擦装置包括承载待摩擦基板的摩擦基台，所述待摩擦基板为形成有导电层的阵列基板；所述摩擦基台上设置有可与所述导电层连接的去静电机构。本实用新型的一种摩擦装置通过在摩擦基台上设置可与阵列基板上的导电层连接的去静电机构，通过去静电机构去除导电层上聚集的静电，从而在最大程度上避免吸附摩擦琐屑，因此能够降低黑mura等不良的产生几率，提高显示装置的良率；同时，相比于更换摩擦布以及改进清洗摩擦琐屑工艺，本实用新型不但效果显著，且操作简易，成本极低。
文档编号G02F1/1337GK203084381SQ201320102050
公开日2013年7月24日 申请日期2013年3月6日 优先权日2013年3月6日
发明者石博, 赵伟, 张俊瑞 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 成都京东方光电科技有限公司