一种光学保护膜的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种光学保护膜。该光学保护膜包括基材层和硅胶层，所述基材层的一表面涂覆有所述硅胶层，所述基材层为PET膜，所述硅胶层的厚度为8～12μm。本实用新型光学保护膜中的硅胶层可直接贴合于光学膜片的表面，避免使用前需剥离的麻烦，同时简化了成产工序和降低生产成本。
【专利说明】一种光学保护膜
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及保护膜【技术领域】，尤其涉及一种光学保护膜。
【背景技术】
[0002]光学保护膜通常为二层或三层，但是用于光学膜片的光学保护膜通常为二层。现有技术的光学保护为离型膜，使用贴合前，先将其剥离开，然后与贴于光学膜片表面。由于该离型膜包括一层要剥离的膜，因而造成了其使用较为麻烦，同时成产工序较为繁琐而带来生产成本的提高。
实用新型内容
[0003]有鉴于此，本实用新型提供一种光学保护膜，该光学保护膜可直接贴合膜片，省去了使用前需剥离的麻烦。
[0004]一种光学保护膜，包括基材层和硅胶层，所述基材层的一表面涂覆有所述硅胶层，所述基材层为PET膜，所述硅胶层的厚度为8?12 μ m。
[0005]其中，所述硅胶层的厚度为9?11 μ m。
[0006]其中，所述娃胶层的厚度为10 μ m。
[0007]其中，所述基材层的厚度为48?52 μ m。
[0008]其中，总厚度为56?65 μ m。
[0009]其中，所述基材层的厚度为50 μ m。
[0010]其中，总厚度为60 μ m。
[0011]本实用新型光学保护膜，包括基材层和硅胶层，所述基材层的一表面涂覆有所述硅胶层，所述基材层为PET膜，所述硅胶层的厚度为8?12 μ m。本实用新型光学保护膜中的硅胶层可直接贴合于光学膜片的表面，避免使用前需剥离的麻烦，同时简化了成产工序和降低生产成本。
【专利附图】
【附图说明】
[0012]图1是本实用新型光学保护膜的较佳实施例的结构示意图。
[0013]图中:
[0014]I一基材层；2—娃月父层。
【具体实施方式】
[0015]下面结合附图及实施例来进一步说明本实用新型的技术方案。
[0016]如图1所示，给出了本实用新型光学保护膜的较佳实施例的结构示意图。本例的光学保护膜由基材层I和硅胶层2两层构成，基材层I的一表面涂覆有硅胶层2。本光学保护膜为透光性较好的膜，其总厚度为56?65 μ m,例如可以为56 μ m、60 μ m、65 μ m,优选为60 μ m0[0017]基材层I为透明的PET膜。PET系对对苯二甲酸二乙醇酯，为热塑性树脂。PET塑料分子结构高度对称，具有一定的结晶取向能力，故而具有较高的成膜性和成性。PET塑料具有很好的光学性能和耐候性，非晶态的PET塑料具有良好的光学透明性。基材层I的厚度为48?52 μ m,例如可以为48 μ m、50 μ m、52 μ m,优选为50 μ m。
[0018]硅胶层2中的硅胶材料为几乎不溶于水和任何溶剂，无毒无味，化学性质稳定，除强碱、氢氟酸外不与任何物质发生反应。娃胶层2的厚度为8?12 μ m,例如可以为8 μ m、9 μ m、10 μ m、12 μ m,进一步优选为9?11 μ m,特别优选为10 μ m。
[0019]下面说明本例光学保护膜的制备工艺。
[0020]首先，将PET膜通过电火花机打孔后涂上硅胶，硅胶的厚度是可以调试的，以9m/min的恒速通过烘箱不低于190°C下烘烤后再收卷。值得说明的是，烘箱的长度经过自己不断测试后设定，烘箱的温度。温度跟烘箱的长度，直接决定硅胶层2是否会脱落。
[0021]本例的胶带的性能参数如下:
[0022]基材:聚酯薄膜；
[0023]颜色:透明；
[0024]胶类:娃胶；
[0025]粘性(钢板):1-3(单位:N/25mm)；
[0026]耐热性:12(TC*2hr ;
[0027]温度使用范围:-10?80°C ；
[0028]透光率:78%±2%;
[0029]储存条件:室内环境温度25°C，相对湿度65%，建议3个月用完。
[0030]本实用新型的光学保护膜完全符合ROHS标准。本例的高温胶带一者采用特定的工艺，具体而言，控制烘箱温度及烘干过程中过烘箱的速度。另者，采用特殊配方的硅胶配方，由此使得制备的保护膜的排气性好，低黏著力且容易撕下，移除后无残胶。用来贴合扩散膜，做为扩散膜模切前的保护和模切过程中的传载作用，既能轻松贴合上扩散膜，又能轻松剥离下来，且剥离开后无任何残留，不影响扩散膜的扩散效果。该光学膜适合于大尺寸FPD和所有光学膜模切时的保护，具有在光学膜片和泡棉模切行业广泛的使用前景。
[0031]应该注意到并理解，在不脱离后附的权利要求所要求保护的本实用新型的精神和范围的情况下，能够对上述详细描述的本实用新型做出各种修改和改进。因此，要求保护的技术方案的范围不受所给出的任何特定示范教导的限制。
[0032]以上结合具体实施例描述了本实用新型的技术原理。这些描述只是为了解释本实用新型的原理，而不能以任何方式解释为对本实用新型保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本实用新型的其它【具体实施方式】，这些方式都将落入本实用新型的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种光学保护膜，其特征在于，包括基材层(I)和硅胶层(2)，所述基材层(I)的一表面涂覆有所述硅胶层(2)，所述基材层(I)为PET膜，所述硅胶层(2)的厚度为8?12 μ m。
2.根据权利要求1所述的光学保护膜，其特征在于，所述硅胶层(2)的厚度为9?11 μ m0
3.根据权利要求1所述的光学保护膜，其特征在于，所述硅胶层(2)的厚度为ΙΟμπι。
4.根据权利要求1所述的光学保护膜，其特征在于，所述基材层(I)的厚度为48?52 μ m0
5.根据权利要求1所述的光学保护膜，其特征在于，所述光学保护膜的总厚度为56?65 μ m0
6.根据权利要求1所述的光学保护膜，其特征在于，所述基材层(I)的厚度为50μπι。
7.根据权利要求1所述的光学保护膜，其特征在于，所述光学保护膜的总厚度为.60 μ m0
【文档编号】G02B1/10GK203705668SQ201320882153
【公开日】2014年7月9日 申请日期:2013年12月30日 优先权日:2013年12月30日
【发明者】段先国 申请人:深圳市广业电子科技有限公司