可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法
【专利摘要】本发明提供一种可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法，包括如下步骤：步骤1、提供紫外光灯(10)与待紫外光清洗的基板(20)；步骤2、在紫外光灯(10)与待紫外光清洗的基板(20)之间设置数块遮光板(30)；步骤3、转动遮光板(30)，调整紫外光灯(10)发出的紫外光照射到基板(20)上的面积，从而控制单位时间内紫外光照射到基板(20)上的能量；步骤4、紫外光灯(10)发出紫外光清洗基板(20)。通过该方法可以灵活调节用于基板清洗的紫外光能量，达到既能有效去除黏附于基板表面的有机物，又能避免设于基板上的电路图形被静电击伤的目的，从而提高产品品质及良率。
【专利说明】可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及液晶显示器的制程领域，尤其涉及一种可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法。
【背景技术】
[0002]液晶显示器(Liquid Crystal Display, LCD)具有机身薄、省电、无福射等众多优点，得到了广泛的应用，如:移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。
[0003]现有的薄膜晶体管液晶显示器包括壳体、设于壳体内的液晶面板及设于壳体内的背光模组(Backlight module)。其中，液晶面板的结构是由一薄膜晶体管阵列基板(ThinFilm Transistor Array Substrate, TFT Array Substrate)、一彩色滤光片基板(ColorFilter, CF)、以及一配置于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成，其工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。
[0004]薄膜晶体管液晶显示器的制程过程一般包括:前段阵列(Array)制程，主要是制造TFT基板及CF基板；中段成盒(Cell)制程，主要是将TFT基板与CF基板贴合，在二者之间添加液晶，形成液晶面板；及后段模组组装制程，主要是将液晶面板与背光模组、PCB等其它零部件进行组装。其中，在前段阵列制程与中段成盒制程过程中，需要对基板进行多次清洗，以去除基板表面黏附的有机物，保证基板的洁净。目前，得到广泛应用的清洗基板的方法是利用有机物的光敏氧化作用通过紫外光对基板进行清洗。紫外光灯发射波长为185nm和254nm的光波，具有很高的能量，这些光波作用到基板表面时，由于大多数有机物对185nm波长的紫外光具有较强的吸收能力，并在吸收185nm波长的紫外光的能量后分解成离子、游离态原子、受激分子和中子。空气中的氧气分子在吸收了 185nm波长的紫外光后也会产生臭氧和原子氧，臭氧对254nm波长的紫外光同样具有强烈的吸收作用，臭氧又分解为原子氧和氧气。在原子氧的作用下，基板表面上的有机物的分解物可化合成可挥发的气体，如二氧化碳、水蒸气等脱离基板表面，实现清除有机物，保证基板的洁净。【具体实施方式】为，在基板上方设置紫外光灯，基板通过滚轮方式输送，紫外光直接照射于基板上，去除有机物。但在此清洗过程中，不能对紫外光的能量进行灵活调节，尤其是采用紫外光清洗TFT基板时，容易造成高能量的紫外光激发基板的金属层电子产生大量静电，最终导致设于基板上的电路图形被静电击伤，影响广品品质及良率。
[0005]因此，需要一种改进的基板清洗方法，既能有效去除黏附于基板表面的有机物，又能避免电路图形被静电击伤。
【发明内容】
[0006]本发明的目的在于提供一种可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法，通过该方法可以灵活调节用于基板清洗的紫外光能量，达到既能有效去除黏附于基板表面的有机物，又能避免设于基板上的电路图形被静电击伤，从而提高产品品质及良率。
[0007]为实现上述目的，本发明供一种可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法，包括如下步骤:
[0008]步骤1、提供紫外光灯与待紫外光清洗的基板；
[0009]步骤2、在紫外光灯与待紫外光清洗的基板之间设置数块遮光板；
[0010]步骤3、转动遮光板，调整紫外光灯发出的紫外光照射到基板上的面积，从而控制单位时间内紫外光照射到基板上的能量；
[0011]步骤4、紫外光灯发出紫外光清洗基板。
[0012]所述步骤2中的每一遮光板为黑色。
[0013]所述步骤2中的每一遮光板为长条状薄片。
[0014]所述步骤2中的遮光板位于所述紫外光灯与基板中间。
[0015]所述步骤2中的遮光板与所述紫外光灯垂直。
[0016]所述步骤4中基板相对紫外光灯移动，遮光板的长度方向与基板移动的方向平行。
[0017]所述步骤3中转动遮光板是通过马达驱动安装于遮光板上的齿轮来实现的。
[0018]所述齿轮通过一连接轴固定连接于遮光板，且齿轮安装于轴承上，该轴承上安装一支撑轴，从而遮光板可相对于支撑轴转动。
[0019]所述遮光板能在O度到90度范围内转动。
[0020]所述基板为薄膜晶体管液晶显示器的玻璃基板。
[0021]本发明的有益效果:本发明的可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法，在紫外光灯与基板之间设置数块遮光板，通过转动遮光板至不同的角度，调整紫外光灯发出的紫外光照射到基板上的面积，从而控制单位时间内紫外光照射到基板上的用于清洗基板的能量，既能有效去除黏附于基板表面的有机物，将基板清洗至洁净，又能避免激发基板的金属层电子产生大量静电，从而避免基板上的电路图形被静电击伤，且该方法操作灵活、简便，能够提闻广品品质及良率。
[0022]为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
【专利附图】
【附图说明】
[0023]下面结合附图通过对本发明的【具体实施方式】详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
[0024]图1为本发明可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法的流程图；
[0025]图2为本发明可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法的步骤I的示意图；
[0026]图3为本发明可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法的步骤2的示意图；
[0027]图4为对应图3中遮光板的A向示意图；
[0028]图5为本发明可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法的步骤3的示意图；[0029]图6为对应图5中的遮光板、马达、连接轴、支撑轴及齿轮的B向视图；
[0030]图7为对应图6中的齿轮的C向视图；
[0031]图8为本发明可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法的步骤3中遮光板转动45度时的示意图；
[0032]图9为本发明可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法的步骤3中遮光板转动90度时的示意图。
【具体实施方式】
[0033]为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
[0034]请参阅图1至图9，本发明提供一种可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法，包括如下步骤:
[0035]步骤1、提供紫外光灯10与待紫外光清洗的基板20 ；
[0036]步骤2、在紫外光灯(10)与待紫外光清洗的基板(20)之间设置数块遮光板30 ；
[0037]步骤3、转动遮光板30，调整紫外光灯10发出的紫外光照射到基板20上的面积，从而控制单位时间内紫外光照射到基板20上的能量；
[0038]步骤4、紫外光灯10发出紫外光清洗基板20。
[0039]具体的，请参阅图2，所述步骤I中提供的紫外光灯10为低压水银灯或准分子灯，用作发射紫外光的光源；所述待清洗的基板20为薄膜晶体管液晶显示器的玻璃基板。
[0040]请参阅图3、图4，所述步骤2为在紫外光灯10与待紫外光清洗的基板20之间设置数块遮光板30，优选的，所述数块遮光板30设置于所述紫外光灯10与待清洗的基板20中间；所述每一遮光板30为黑色的矩形长条状薄片，数块遮光板30平行排布，其数量可根据待紫外光清洗的基板20的具体尺寸调整；此步骤中，所述数块遮光板30与所述紫外光灯10垂直，数块遮光板30平铺设置，优选的，每相邻的两块遮光板30间隔设置，间距为D1。
[0041]请参阅图5、图6及图7，所述步骤3为转动遮光板30，调整紫外光灯10发出的紫外光照射到基板20上的面积，从而控制单位时间内紫外光照射到基板20上的能量。所述转动遮光板30是通过马达40驱动安装于遮光板上的齿轮50来实现的。进一步的，所述齿轮50通过一连接轴60固定连接于遮光板30，且齿轮60安装于轴承70上，该轴承70上安装一支撑轴80，从而遮光板30可相对于支撑轴80转动，该支撑轴80连接马达40。为节省动力及生产成本，可设置一从动齿轮55，该从动齿轮55与所述齿轮50啮合，并通过另一连接轴65连接于遮光板30，从而齿轮50可带动该从动齿轮55及遮光板30转动。该步骤的【具体实施方式】为:开启马达40之前，所述数块遮光板30的转动角度为O度，其与所述紫外光灯10垂直，每相邻的两块遮光板30之间间距为最小值D1，此时，紫外光灯10发出的紫外光被所述遮光板30遮挡的面积最大,透过间距Dl照射到基板20上的面积最小,相应的单位时间内紫外光照射到基板20上的能量最小；开启马达40，该马达40驱动所述支撑轴80及轴承70转动，带动所述连接轴60、及从动齿轮55与另一连接轴65转动，使得分别与连接轴60、及另一连接轴65固定连接的相应遮光板30在O度至90度范围内转动。如图8所示，当所述遮光板30转动45度时，每相邻的两块遮光板30之间的间距增大为D2，紫外光灯10发出的紫外光被所述遮光板30遮挡的面积减小，透过间距D2照射到基板20上的面积增大，相应的单位时间内紫外光照射到基板20上的能量增大；如图9所示，当所述遮光板30转动90度时，每相邻的两块遮光板30之间的间距增大为最大值D3，紫外光灯10发出的紫外光被所述遮光板30遮挡的面积减至最小，透过间距D3照射到基板20上的面积增至最大，相应的单位时间内紫外光照射到基板20上的能量增至最大。可结合薄膜晶体管液晶显示器的前段阵列及中段成盒所包括的其它制程过程，根据基板20表面黏附有机物的实际情况，通过控制所述马达40来灵活控制所述遮光板30在O度至90度范围内转动，控制单位时间内紫外光照射到所述基板20上的能量，使用于清洗所述基板20的紫外光能量适中，既能有效除黏附于基板20表面的有机物，将基板20清洗至洁净，又能避免激发基板的金属层电子产生大量静电，从而避免基板上的电路图形被静电击伤。
[0042]所述步骤4的【具体实施方式】为，调整好所述遮光板30的角度后，基板20通过滚轮(未图示)带动的方式相对紫外光灯10移动，所述紫外光灯10发出紫外光清洗基板20。值得一提的是，所述遮光板30的长度方向与基板20移动的方向平行。
[0043]综上所述，本发明的可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法，在紫外光灯与基板之间设置数块遮光板，通过转动遮光板至不同的角度，调整紫外光灯发出的紫外光照射到基板上的面积，从而控制单位时间内紫外光照射到基板上的用于清洗基板的能量，既能有效去除黏附于基板表面的有机物，将基板清洗至洁净，又能避免激发基板的金属层电子产生大量静电，从而避免基板上的电路图形被静电击伤，且该方法操作灵活、简便，能够提闻广品品质及良率。
[0044]以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
【权利要求】
1.一种可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法，其特征在于， 包括如下步骤: 步骤1、提供紫外光灯(10)与待紫外光清洗的基板(20)； 步骤2、在紫外光灯(10)与待紫外光清洗的基板(20)之间设置数块遮光板(30)； 步骤3、转动遮光板(30)，调整紫外光灯(10)发出的紫外光照射到基板(20)上的面积，从而控制单位时间内紫外光照射到基板(20)上的能量； 步骤4、紫外光灯(10)发出紫外光清洗基板(20)。
2.如权利要求1所述的可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法，其特征在于，所述步骤2中的每一遮光板(30)为黑色。
3.如权利要求1所述的可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法，其特征在于，所述步骤2中的每一遮光板(30)为长条状薄片。
4.如权利要求1所述的可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法，其特征在于，所述步骤2中的遮光板(30)位于所述紫外光灯(10)与基板(20)中间。
5.如权利要求1所述的可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法，其特征在于，所述步骤2中的遮光板(30)与所述紫外光灯(10)垂直。
6.如权利要求1所述的可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法，其特征在于，所述步骤4中基板(20)相对紫外光灯(10)移动，遮光板(30)的长度方向与基板(20)移动的方向平行。
7.如权利要求1所述的可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法，其特征在于，所述步骤3中转动遮光板(30)是通过马达(40)驱动安装于遮光板(30)上的齿轮(50)来实现的。
8.如权利要求7所述的可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法，其特征在于，所述齿轮(50)通过一连接轴(60)固定连接于遮光板(30)，且齿轮(60)安装于轴承(70)上，该轴承(70)上安装一支撑轴(80)，从而遮光板(30)可相对于支撑轴(80)转动。
9.如权利要求7所述的可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法，其特征在于，所述遮光板(30)能在O度到90度范围内转动。
10.如权利要求1所述的可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法，其特征在于，所述基板(20)为薄膜晶体管液晶显示器的玻璃基板。
【文档编号】G02F1/13GK103962346SQ201410216997
【公开日】2014年8月6日 申请日期:2014年5月21日 优先权日:2014年5月21日
【发明者】姚江波 申请人:深圳市华星光电技术有限公司