一种显示基板及其制作方法和显示装置制造方法

文档序号:2724099阅读:171来源:国知局
一种显示基板及其制作方法和显示装置制造方法
【专利摘要】本发明的实施例提供一种显示基板及其制作方法和显示装置,涉及显示【技术领域】,解决了现有的显示器件中采用线栅偏振片实现光线的偏转,会出现外界光线透过显示器件的屏幕照射到线栅偏振片上反射出来的问题,保证了用户观看到的画面的清晰度,提高了用户的观看效果。该显示基板包括:衬底基板、线栅偏振片和遮光层,其中:所述遮光层设置在所述衬底基板上,且紧邻所述衬底基板使所述衬底基板部分裸露的位置处;所述线栅偏振片设置在所述遮光层上,且与所述遮光层对应的位置处。本发明应用于显示器件的制作中。
【专利说明】一种显示基板及其制作方法和显示装置

【技术领域】
[0001]本发明涉及显示【技术领域】,尤其涉及一种显示基板及其制作方法和显示装置。

【背景技术】
[0002]TFT-LCD (Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,薄膜晶体管-液晶显示器)作为一种平板显示装置,因其具有体积小、功耗低、无辐射以及制作成本相对较低等特点,而越来越多地被应用于高性能显示领域当中。
[0003]TFT-LCD由阵列基板和彩膜基板构成,在阵列基板和彩膜基板之间设置有液晶层。此外,在彩膜基板的上表面设置有第一偏振片,在阵列基板和背光模组之间设置有第二偏振片。现有技术中,上述偏振片(第一偏振片和第二偏振片)可以采用聚乙烯醇(PVA)薄膜构成。会将自然光中的一个偏振分量透过,而另外一个偏振分量被偏振片吸收。这样一来,将造成光线的大量损失,使得光线的利用率大大降低。
[0004]为了解决上述问题,现有技术中还提供了一种由金属材料构成的线栅偏振片。当光线入射至线栅偏振片时,在金属表面自由电子的振荡作用下,将与线栅平行振动的电场矢量分量的光线几乎全部反射,而将垂直于线栅的电场矢量分量的光线几乎全部透过。
[0005]但是,现有技术中的这种线栅偏振片是采用金属材料形成的,而金属材料对照射到其上的光线具有很好的反射作用。当外界光线较强时,光线照射到显示器件的屏幕上时会透过屏幕照射到线栅偏振片上,而线栅偏振片会将光线反射出来,甚至照射到人眼,这样会使得用户观看到的显示屏幕上的图像不清楚,影响用户的观看效果。


【发明内容】

[0006]本发明的实施例提供一种显示基板及其制作方法和显示装置,解决了现有的显示器件中采用线栅偏振片实现光线的偏转,会出现外界光线透过显示器件的屏幕照射到线栅偏振片上反射出来的问题,保证了用户观看到的画面的清晰度,提高了用户的观看效果。
[0007]为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
[0008]第一方面,提供一种显示基板,所述显示基板包括:衬底基板和线栅偏振片,其特征在于,所述显示基板还包括:遮光层,其中:
[0009]所述遮光层设置在所述衬底基板上,且紧邻所述衬底基板使所述衬底基板部分裸露的位置处;
[0010]所述线栅偏振片设置在所述遮光层上,且与所述遮光层对应的位置处。
[0011]可选的,所述显示基板还包括:彩色膜层,其中:
[0012]所述彩色膜层设置在所述线栅偏振片上,且紧邻所述线栅偏振片的位置。
[0013]可选的,所述遮光层的材料为具有遮光作用的材料。
[0014]可选的,所述遮光层的材料为黑色树脂材料、黑色金属材料或者添加有黑色素的感光有机材料。
[0015]可选的,所述遮光层的厚度为0.3?10um。
[0016]可选的,所述线栅偏振片的厚度为40?400nm。
[0017]可选的,所述线栅偏振片的栅距小于或者等于50?500nm。
[0018]第二方面,提供一种显示基板的制作方法,所述方法包括:
[0019]形成衬底基板;
[0020]在所述衬底基板上形成覆盖所述衬底基板,且使得所述衬底基板部分裸露的遮光层;
[0021]在所述遮光层上与所述遮光层对应的位置处形成线栅偏振片。
[0022]可选的,所述方法还包括:
[0023]在所述遮光层上形成覆盖所述遮光层的彩色膜层。
[0024]可选的,形成所述遮光层和所述线栅偏振片,包括:
[0025]在所述衬底基板上形成一层具有遮光作用的材料的薄膜;
[0026]通过构图工艺在所述薄膜上形成线栅偏振片;
[0027]通过构图工艺处理所述薄膜在与所述线栅偏振片对应的位置形成所述遮光层。
[0028]可选的,形成所述遮光层和所述线栅偏振片,包括:
[0029]在所述衬底基板上形成一层具有遮光作用的材料的薄膜;
[0030]在所述具有遮光作用的材料的薄膜上形成一层金属材料的薄膜;
[0031]通过一次构图工艺处理所述具有遮光作用的材料的薄膜和所述金属材料的薄膜,形成所述遮光层和所述线栅偏振片。
[0032]可选的,所述遮光层的材料为黑色树脂材料、黑色金属材料或者添加有黑色素的感光有机材料。
[0033]可选的,所述遮光层的厚度为0.3?10um。
[0034]第三方面,提供一种显示装置,所述显示装置包括第一方面所述的任一显示基板。
[0035]本发明的实施例提供的显示基板及其制作方法和显示装置,通过将线栅偏振片设置在衬底基板上且紧邻衬底基板的位置,并在衬底基板与线栅偏振片之间设置使用具有遮光作用的材料形成的遮光层,这样,当外界的光线透过显示器件的显示屏幕照射到显示器件内部时,由于遮光层的材料为具有遮光作用的材料,光线会被遮光层挡住,从而照射不到线栅偏振片上,解决了现有的显示器件中采用线栅偏振片实现光线的偏转,会出现外界光线透过显示器件的屏幕照射到线栅偏振片上反射出来的问题,保证了用户观看到的画面的清晰度,提高了用户的观看效果。

【专利附图】

【附图说明】
[0036]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0037]图1为本发明的实施例提供的一种显不基板的结构不意图;
[0038]图2为本发明的实施例提供的另一种显不基板的结构不意图;
[0039]图3为本发明的实施例提供的一种显示基板的制作方法的流程示意图;
[0040]图4为本发明的实施例提供的另一种显示基板的制作方法的流程示意图;
[0041]图5为本发明的实施例提供的又一种显示基板的制作方法的流程示意图。
[0042]附图标记:1_衬底基板;2_遮光层;3_线栅偏振片;4_彩色膜层。

【具体实施方式】
[0043]下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
[0044]本发明的实施例提供一种显示基板,参照图1所示,该显示基板包括:衬底基板1、遮光层2和线栅偏振片,其中:
[0045]遮光层2设置在衬底基板I上,且紧邻衬底基板I使衬底基板I部分裸露的位置处。
[0046]线栅偏振片3设置在遮光层2上,且与遮光层2对应的位置处。
[0047]其中,遮光层的材料可以为具有遮光作用的材料。
[0048]其中,构成衬底基板I的材料可以包括玻璃、石英石的至少一种。当线栅偏振片3应用于柔性显示面板时,构成衬底基板I的材料可以包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene terephthalate,简称 PET)、三醋酸纤维素(Triacetyl Cellulose,简称TAC)中的至少一种,以满足柔性显示面板能够弯曲,卷折的设计要求。
[0049]需要说明的是,具有线栅图案的线栅偏振片3需要对入射光具有偏振作用,在此情况下,构成上述线栅图案的栅距(线栅偏振片上相邻两个凸起的中心距)需小于等于入射光波长的二分之一。
[0050]本发明的实施例提供的显示基板,通过将线栅偏振片设置在衬底基板上且紧邻衬底基板的位置,并在衬底基板与线栅偏振片之间设置使用具有遮光作用的材料形成的遮光层,这样,当外界的光线透过显示器件的显示屏幕照射到显示器件内部时,由于遮光层的材料为具有遮光作用的材料,光线会被遮光层挡住,从而照射不到线栅偏振片上,解决了现有的显示器件中采用线栅偏振片实现光线的偏转,会出现外界光线透过显示器件的屏幕照射到线栅偏振片上反射出来的问题,保证了用户观看到的画面的清晰度,提高了用户的观看效果。
[0051]进一步,参照图2所示,该显示基板还包括:彩色膜层4,其中:
[0052]彩色膜层4设置在线栅偏振片3上,且紧邻线栅偏振片3的位置。
[0053]具体的,本实施例中的彩色膜层4完全覆盖线栅偏振片3,因此本实施例中不需要额外的制作黑矩阵,遮光层2可以实现与黑矩阵相同的作用。
[0054]其中,遮光层2的材料为黑色树脂材料、黑色金属材料或者添加有黑色素的感光有机材料。
[0055]优选的,本实施例中的遮光层2的材料与黑矩阵的材料相同,这样在制作形成遮光层时不需要额外的增加新的材料,降低了生产难度,减少了生产工序。
[0056]遮光层2的厚度为0.3?10um。
[0057]其中,优选的遮光层2的厚度设置为lum,保证能够遮挡外界照射进来的光线照射到线栅偏振片上,同时可以避免遮光层的厚度过厚导致最终形成的显示器件的厚度过厚,无法实现显示器件更薄更轻的趋势,整体的美观效果较差。
[0058]线栅偏振片3的厚度为40?400nmo
[0059]若线栅偏振片的厚度过小,线栅偏振片上的凸起与其接触的膜层之间的段差太小,从而使制得的线栅偏振片无法对入射光进行起偏。若线栅偏振片的厚度过大,会造成线栅偏振片的厚度过厚,从而使得制备的显示器件无法满足超薄化的趋势,本实施例中优选的设置线栅偏振片的厚度为200nm。
[0060]线栅偏振片3的栅距小于或者等于50?500nm。
[0061]由于在确保线栅偏振片能够正常使用的前提下,线栅偏振片的栅距越小越好。然而栅距越小,制作精度越高,加工难度越大。因此综合考虑工艺难度系数以及偏振效果,本发明实施例优选的线栅偏振片的栅距为200nm。
[0062]优选的,线栅偏振片的材料优选的为金属铝,当然,此处只是举例说明线栅偏振片的材料为铝,并没有限定只能是铝,现有的金属材料中任何可以保证形成的线栅偏振片对光线进行有效起偏,且不影响其它膜层性能的均可以适用。
[0063]本发明的实施例提供的显示基板,通过将线栅偏振片设置在衬底基板上且紧邻衬底基板的位置,并在衬底基板与线栅偏振片之间设置使用具有遮光作用的材料形成的遮光层,这样,当外界的光线透过显示器件的显示屏幕照射到显示器件内部时,由于遮光层的材料为具有遮光作用的材料,光线会被遮光层挡住,从而照射不到线栅偏振片上,解决了现有的显示器件中采用线栅偏振片实现光线的偏转,会出现外界光线透过显示器件的屏幕照射到线栅偏振片上反射出来的问题,保证了用户观看到的画面的清晰度,提高了用户的观看效果。
[0064]本发明的实施例提供一种显示基板的制作方法,参照图3所示,该方法包括以下步骤:
[0065]101、形成衬底基板。
[0066]具体的,可以采用玻璃或者石英石等材料来形成衬底基板。当然,若应用于柔性显示面板时,构成衬底基板的材料可以包括PET、TAC中的至少一种。
[0067]102、采用具有遮光作用的材料在衬底基板上形成覆盖衬底基板,且使得衬底基板部分裸露的遮光层。
[0068]其中,遮光层的材料可以选用与黑矩阵的材料相同的材料,遮光层的材料优选的为黑色树脂材料、黑色金属材料或者添加有黑色素的感光有机材料。
[0069]103、在遮光层上与遮光层对应的位置处形成线栅偏振片。
[0070]其中,线栅偏振片的材料优选的可以是金属铝。
[0071]本发明的实施例提供的显示基板的制作方法,通过在衬底基板上且紧邻衬底基板的位置形成线栅偏振片,并使用具有遮光作用的材料在衬底基板与线栅偏振片之间形成遮光层,这样,当外界的光线透过显示器件的显示屏幕照射到显示器件内部时,由于遮光层的材料为具有遮光作用的材料,光线会被遮光层挡住,从而照射不到线栅偏振片上,解决了现有的显示器件中采用线栅偏振片实现光线的偏转,会出现外界光线透过显示器件的屏幕照射到线栅偏振片上反射出来的问题,保证了用户观看到的画面的清晰度,提高了用户的观看效果。
[0072]本发明的实施例提供一种显示基板的制作方法,参照图4所示,该方法包括以下步骤:
[0073]201、形成衬底基板。
[0074]202、在衬底基板上形成一层具有遮光作用的材料的薄膜。
[0075]具体的,可以采用磁控溅射的方法在衬底基板上沉积一层厚度在0.3?1um的具有遮光作用的材料的薄膜,该具有遮光作用的材料的薄膜通常可以采用黑色树脂材料、黑色金属材料或者添加有黑色素的感光有机材料。
[0076]203、通过构图工艺在具有遮光作用的材料的薄膜上形成线栅偏振片。
[0077]具体的,可以采用蒸镀的方法在具有遮光作用的材料的薄膜上沉积一层厚度在40?400nm之间,优选的厚度为200nm的金属薄膜,该金属薄膜通常可以为销,然后通过曝光、显影、刻蚀、剥离等构图工艺处理在具有遮光作用的材料的薄膜的一定区域上形成线栅偏振片。
[0078]204、通过构图工艺处理该具有遮光作用的材料的薄膜在与线栅偏振片对应的位置形成遮光层。
[0079]具体的,可以通过干法刻蚀工艺处理具有遮光作用的材料的薄膜刻蚀掉该薄膜中不与线栅偏振片对应区域处的薄膜形成与线栅偏振片位置对应的遮光层。
[0080]205、在遮光层上形成覆盖遮光层的彩色膜层。
[0081]具体的,可以采用现有技术方案中形成彩色膜层的制作工艺在遮光层上形成彩色膜层,此处不作具体的限定。
[0082]需要说明的是,本实施例中的流程与上述实施例中的步骤相同的描述可以参照上述实施例中的说明,此处不再赘述。
[0083]本发明的实施例提供的显示基板的制作方法,通过在衬底基板上且紧邻衬底基板的位置形成线栅偏振片,并使用具有遮光作用的材料在衬底基板与线栅偏振片之间形成遮光层,这样,当外界的光线透过显示器件的显示屏幕照射到显示器件内部时,由于遮光层的材料为具有遮光作用的材料,光线会被遮光层挡住,从而照射不到线栅偏振片上,解决了现有的显示器件中采用线栅偏振片实现光线的偏转,会出现外界光线透过显示器件的屏幕照射到线栅偏振片上反射出来的问题,保证了用户观看到的画面的清晰度,提高了用户的观看效果。
[0084]本发明的实施例提供一种显示基板的制作方法,参照图5所示,该方法包括以下步骤:
[0085]301、形成衬底基板。
[0086]302、在衬底基板上形成一层具有遮光作用的材料的薄膜。
[0087]303、在具有遮光作用的材料的薄膜上形成一层金属材料的薄膜。
[0088]具体的,可以采用蒸镀或者磁控溅射的方法,在具有遮光作用的材料的薄膜上沉积一层厚度在40?400nm之间,优选的厚度为200nm的金属薄膜,该金属薄膜的材料可以是销。
[0089]304、通过一次构图工艺处理具有遮光作用的材料的薄膜和金属材料的薄膜,形成遮光层和线栅偏振片。
[0090]具体的,可以采用曝光、显影、刻蚀等构图工艺处理形成的具有遮光作用的材料的薄膜和金属材料的薄膜,在衬底基板的一定区域上形成遮光层图案和线栅偏振片图案。
[0091]305、在遮光层上形成覆盖遮光层的彩色膜层。
[0092]需要说明的是,本实施例中的流程与上述实施例中的步骤相同的描述可以参照上述实施例中的说明,此处不再赘述。
[0093]本发明的实施例提供的显示基板的制作方法,通过在衬底基板上且紧邻衬底基板的位置形成线栅偏振片,并使用具有遮光作用的材料在衬底基板与线栅偏振片之间形成遮光层,这样,当外界的光线透过显示器件的显示屏幕照射到显示器件内部时,由于遮光层的材料为具有遮光作用的材料,光线会被遮光层挡住,从而照射不到线栅偏振片上,解决了现有的显示器件中采用线栅偏振片实现光线的偏转,会出现外界光线透过显示器件的屏幕照射到线栅偏振片上反射出来的问题,保证了用户观看到的画面的清晰度,提高了用户的观看效果。
[0094]本发明的实施例提供一种显示装置,该显示装置包括图1?2对应的实施例提供的任一显示基板,该显示面板可以为:手机、平板电脑、电视机、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件的显示面板。
[0095]本发明的实施例提供的显示面板,通过将线栅偏振片设置在显示面板中的显示基板的衬底基板上且紧邻衬底基板的位置,并在衬底基板与线栅偏振片之间设置使用具有遮光作用的材料形成的遮光层,这样,当外界的光线透过显示器件的显示屏幕照射到显示器件内部时,由于遮光层的材料为具有遮光作用的材料,光线会被遮光层挡住,从而照射不到线栅偏振片上,解决了现有的显示器件中采用线栅偏振片实现光线的偏转,会出现外界光线透过显示器件的屏幕照射到线栅偏振片上反射出来的问题,保证了用户观看到的画面的清晰度,提高了用户的观看效果。
[0096]以上所述,仅为本发明的【具体实施方式】,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本【技术领域】的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
【权利要求】
1.一种显示基板,所述显示基板包括:衬底基板和线栅偏振片,其特征在于,所述显示基板还包括:遮光层,其中: 所述遮光层设置在所述衬底基板上,且紧邻所述衬底基板使所述衬底基板部分裸露的位置处; 所述线栅偏振片设置在所述遮光层上,且与所述遮光层对应的位置处。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括:彩色膜层,其中: 所述彩色膜层设置在所述线栅偏振片上,且紧邻所述线栅偏振片的位置。
3.根据权利要求1或2所述的显示基板,其特征在于, 所述遮光层的材料为具有遮光作用的材料。
4.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于, 所述遮光层的材料为黑色树脂材料、黑色金属材料或者添加有黑色素的感光有机材料。
5.根据权利要求1或2所述的显示基板,其特征在于, 所述遮光层的厚度为0.3?10um。
6.根据权利要求1或2所述的显示基板,其特征在于, 所述线栅偏振片的厚度为40?400nm。
7.根据权利要求1或2所述的显示基板,其特征在于, 所述线栅偏振片的栅距小于或者等于50?500nm。
8.—种显示基板的制作方法,其特征在于,所述方法包括: 形成衬底基板; 在所述衬底基板上形成覆盖所述衬底基板,且使得所述衬底基板部分裸露的遮光层; 在所述遮光层上与所述遮光层对应的位置处形成线栅偏振片。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述方法还包括: 在所述遮光层上形成覆盖所述遮光层的彩色膜层。
10.根据权利要求8或9所述的方法,其特征在于,形成所述遮光层和所述线栅偏振片,包括: 在所述衬底基板上形成一层具有遮光作用的材料的薄膜; 通过构图工艺在所述薄膜上形成线栅偏振片; 通过构图工艺处理所述薄膜在与所述线栅偏振片对应的位置形成所述遮光层。
11.根据权利要求8或9所述的方法,其特征在于,形成所述遮光层和所述线栅偏振片,包括: 在所述衬底基板上形成一层具有遮光作用的材料的薄膜; 在所述具有遮光作用的材料的薄膜上形成一层金属材料的薄膜; 通过一次构图工艺处理所述具有遮光作用的材料的薄膜和所述金属材料的薄膜,形成所述遮光层和所述线栅偏振片。
12.根据权利要求8或9所述的方法,其特征在于, 所述遮光层的材料为黑色树脂材料、黑色金属材料或者添加有黑色素的感光有机材料。
13.根据权利要求8或9所述的方法,其特征在于, 所述遮光层的厚度为0.3?10um。
14.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括权利要求1?7任一所述的显示基板。
【文档编号】G02F1/136GK104516164SQ201510004060
【公开日】2015年4月15日 申请日期:2015年1月5日 优先权日:2015年1月5日
【发明者】高剑, 武延兵 申请人:京东方科技集团股份有限公司
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