技术总结
本发明公开了一种焦面检测装置、焦面标定方法与硅片曝光方法，该装置包括光源单元，用于对掩模板进行照射产生成像光束；成像单元，用于将掩模板上的调焦图形成像在调焦图像传感器上；调焦驱动单元，用于垂向调节投影物镜或者运动台单元以完成调焦；运动台单元，其上设置有带有反射标记的反射装置，所述运动台单元用于将所述反射装置移动至投影物镜的正下方；控制单元，用于对调焦图像传感器采集的图形数据进行分析和处理，并反馈控制调焦驱动单元。本发明能够快速且准确的对最佳焦面偏移量进行标定和补偿。
技术研发人员：王天寅;许琦欣;李玉龙
受保护的技术使用者：上海微电子装备有限公司
文档号码：201510856628
技术研发日：2015.11.30
技术公布日：2017.06.09