技术领域本发明涉及依次具有透明保护膜、碘系偏振片以及涂布层的带有涂布层的偏振膜、和具有该带有涂布层的偏振膜和粘合剂层的带有粘合剂层的偏振膜。另外，本发明涉及具有上述带有粘合剂层的偏振膜的液晶显示装置(LCD)、有机EL显示装置等图像显示装置。
背景技术：
近年来，氧化铟锡(ITO)薄膜等透明导电膜在各种用途中被广泛使用。例如已知将上述透明导电膜形成于横向电场效应(IPS)方式等的使用了液晶单元的液晶显示装置的与构成液晶单元的透明基板的液晶层接触侧相反的一侧，作为防静电层。另外，在透明树脂膜上形成有上述透明导电膜的透明导电性膜用于触摸面板的电极基板，例如将用于手机或便携音乐播放器等中的液晶显示装置或图像显示装置与该触摸面板组合而使用的输入装置逐渐广泛普及。作为将触摸面板与图像显示装置组合而使用的输入装置，以往将在包含玻璃板或透明树脂膜的透明基材上形成有透明导电层的透明导电性膜设置于液晶显示装置上(比液晶显示装置的观察侧偏振膜更靠上的侧)的Out-Cell型得到广泛普及，但近年来，已知有将包含透明导电膜的电极形成于液晶单元的上玻璃基板上的On-Cell型、将包含透明导电膜的电极组装至液晶单元内部的形态的In-Cell型等各种构成。另外，也已知通过以作为图像显示装置的防静电层的ITO层作为触控传感器并将其图案化而实现触摸面板功能。有时通过粘合剂层在这样的ITO层上贴合偏振膜等光学构件，但已知粘合剂具有羧基时，会腐蚀ITO层而使导电性降低，作为抑制该导电性降低的粘合剂，已知含有磷系抗氧化剂的粘合剂(例如参照专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：专利第5540383号说明书
技术实现要素：
发明要解决的课题对于使用了上述透明导电膜的液晶显示装置、图像显示装置等而言，近年来强烈要求轻质化、薄型化，对于该液晶显示装置等中所使用的偏振膜也要求薄型化、轻质化。作为偏振膜的薄型化、轻质化方法，例如已知有制成仅于偏振片的单面设置透明保护膜的单面保护偏振膜的方法、或使偏振片自身的膜厚变薄的薄型偏振膜的制造方法等。例如在作为防静电层用途使用透明导电膜的情况下，通常在具有该防静电层的液晶单元上层叠带有粘合剂层的偏振膜，通过粘合剂层而使包含透明导电膜的防静电层与偏振膜贴合。另外，在使用透明导电膜作为触摸面板的电极用途的情况下，根据触摸面板的构成，有时在上述电极用透明导电膜上层叠带有粘合剂层的偏振膜，通过粘合剂层而使包含透明导电膜的防静电层与偏振膜贴合。在偏振膜为碘系偏振膜的情况下，若如上述那样使透明导电层与该碘系偏振膜贴合，进行加湿耐久试验(通常的耐久试验)，则有时透明导电层的电阻值会上升。已知上述电阻值上升的原因在于，偏振片中所含的碘渗出至粘合剂层，该碘到达透明导电层而腐蚀透明导电层。特别是关于厚度10μm以下的薄型碘系偏振片，已知为了具有与以往的偏振片同样的偏振特性而必须提高偏振片中的碘浓度，在将包含上述碘浓度较高的偏振片的偏振膜与透明导电层贴合的情况下，容易产生透明导电层的由碘引起的腐蚀。另外，已知在使用单面保护的碘系偏振膜的情况下，直接通过粘合剂层而将透明导电层贴合于碘系偏振片上，因而也容易产生透明导电层的腐蚀。另外，专利文献1中记载的由含有磷系抗氧化剂的粘合剂形成的粘合剂层无法充分确保对偏振膜的密合性。因此，本发明的目的在于提供一种带有涂布层的偏振膜，所述带有涂布层的偏振膜即使在通过粘合剂层层叠在透明导电层上的情况下，也能够抑制透明导电层的劣化，抑制透明导电层的表面电阻值上升，并且即使在形成了粘合剂层的情况下，对偏振膜的密合性也优异。另外，本发明的目的还在于提供一种带有粘合剂层的偏振膜，其在上述带有涂布层的偏振膜上设置有粘合剂层。另外，本发明的目的还在于提供一种图像显示装置，其包含上述带有粘合剂层的偏振膜的粘合剂层、和具有透明导电层的液晶面板。解决课题的方法本发明人等进行了深入研究，结果发现通过下述带有涂布层的偏振膜、带有粘合剂层的偏振膜等可解决上述课题，从而完成本发明。即，本发明涉及一种带有涂布层的偏振膜，依次具有透明保护膜、含有碘和/或碘离子的碘系偏振片以及涂布层，其特征在于，上述碘系偏振片和/或上述涂布层含有磷系化合物。上述磷系化合物优选含有选自下述通式(1)所示的化合物和所述通式(1)所示的化合物的多聚物中的1种以上的磷酸系化合物、和/或选自下述通式(2)所示的化合物及其盐中的1种以上的膦酸系化合物，【化1】(式中，R1和R2各自独立地表示氢原子、或可以含有氧原子的碳数1～18的烃残基)，【化2】(式中，R为氢原子、或可以含有氧原子的碳数1～18的烃残基)。上述碘系偏振片的厚度优选为10μm以下。上述碘系偏振片中的上述碘和/或碘离子的含量可以为3～12重量％。在上述碘系偏振片与上述涂布层之间可以不具有透明保护膜。上述涂布层优选由含有选自聚氨酯系树脂、聚乙烯醇系树脂和丙烯酸系树脂中的至少1种树脂的树脂组合物形成。另外，本发明涉及一种带有粘合剂层的偏振膜，所述带有粘合剂层的偏振膜的特征在于，在上述带有涂布层的偏振膜的涂布层侧具有粘合剂层。上述粘合剂层优选含有离子性化合物。另外，本发明的带有粘合剂层的偏振膜能够以与具有透明导电层的透明导电性构件的透明导电层接触的方式贴合带有粘合剂层的偏振膜的粘合剂层来使用。上述透明导电层优选由氧化铟锡形成。另外，上述氧化铟锡优选为非结晶性的氧化铟锡。另外，本发明涉及一种图像显示装置，其特征在于，将上述带有粘合剂层的偏振膜的粘合剂层与具有透明导电层的液晶面板以使上述带有粘合剂层的偏振膜的粘合剂层与上述液晶面板的透明导电层接触的方式贴合。发明效果本发明的带有涂布层的偏振膜即使在通过粘合剂层层叠在透明导电层上的情况下，也能够抑制透明导电层的劣化，抑制透明导电层的表面电阻值上升。认为这是由于，通过碘系偏振片和/或涂布层中含有的磷系化合物的作用，能够抑制碘系偏振片中含有的碘向透明导电层表面转移，结果，可防止透明导电层的腐蚀。另外，本发明的带有粘合剂层的偏振膜即使如上所述地将粘合剂层贴合在透明导电层上的情况下，也能够抑制透明导电层的劣化。另外，本发明的带有粘合剂层的偏振膜经由涂布层将偏振膜与粘合剂层层叠，并且在碘系偏振片和/或涂布层中配合有磷系化合物，因此，粘合剂层与偏振膜或涂布层的密合性优异。结果，能够防止返工时的胶糊残留、耐久性所致的剥离、加工时的胶糊不足等。另外，本发明能够提供一种图像显示装置，其包含上述带有粘合剂层的偏振膜的粘合剂层、和具有透明导电层的液晶面板。附图说明图1是本发明的带有涂布层的偏振膜的概略剖面图的一例。图2是本发明的带有粘合剂层的偏振膜的概略剖面图的一例。具体实施方式1.带有涂布层的偏振膜本发明的带有涂布层的偏振膜依次具有透明保护膜、含有碘和/或碘离子的碘系偏振片以及涂布层，其特征在于，上述碘系偏振片和/或上述涂布层含有磷系化合物。以下，使用作为本发明的一个实施方式的图1，对本发明的带有涂布层的偏振膜的构成进行说明。但是，本发明的带有涂布层的偏振膜并不限定为图1的方式。本发明的带有涂布层的偏振膜1依次具有透明保护膜3、碘系偏振片2和涂布层4。虽未图示，但碘系偏振片2与透明保护膜3通常通过粘接剂层等进行层叠。另外，涂布层4能够直接设置于碘系偏振片2的不具有透明保护膜3的面。另外，如后所述，涂布层4可以为1层也可以为2层以上，另外，在碘系偏振片2与涂布层4之间可以具有透明保护膜，但对于本发明而言，在碘系偏振片2与涂布层4直接进行层叠的情况下，本发明的效果较为显著。以下，对各自的材料进行说明。(1)碘系偏振片作为碘系偏振片2，只要为含有碘及/或碘离子的偏振片，则可使用任何偏振片，例如可举出：使碘吸附于聚乙烯醇(PVA)系膜、部分缩甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等亲水性高分子膜上并进行单轴拉伸而成的偏振片等。这些之中，优选为包含PVA系膜及碘的偏振片。这些偏振片的厚度并无特别限定，通常为80μm以下左右。以碘对PVA系膜进行染色并进行单轴拉伸而成的偏振片例如可通过如下方式制作：通过将PVA浸渍于碘的水溶液中进行染色，拉伸至原长度的3～7倍。根据需要也可浸渍于硼酸或可包含硫酸锌、氯化锌等的碘化钾等的水溶液中。进而根据需要也可于染色前将PVA系膜浸渍于水中而进行水洗。通过对PVA系膜进行水洗，可将PVA系膜表面的污垢、抗粘连剂清洗，此外，通过使PVA系膜溶胀，也有防止染色不均等不均的效果。拉伸可在利用碘进行染色后进行，也可一边染色一边拉伸，另外，也可在拉伸后利用碘进行染色。也可在硼酸、碘化钾等的水溶液、水浴中进行拉伸。另外，在本发明中，也可适宜地使用厚度为10μm以下的薄型碘系偏振片。就薄型化的观点而言，所述碘系偏振片的厚度优选为1～7μm。这样的薄型碘系偏振片由于厚度不均较少，观察性优异，另外，由于尺寸变化较少而耐久性优异，进而作为偏振膜的厚度也实现薄型化而优选。作为薄型偏振片，代表性地，可举出日本特开昭51-069644号公报、日本特开2000-338329号公报、国际公开第2010/100917号小册子、国际公开第2010/100917号小册子或日本专利4751481号说明书或者日本特开2012-073563号公报中所记载的薄型偏振膜。这些薄型偏振膜可通过包括在层叠体的状态下对PVA系树脂层及拉伸用树脂基材进行拉伸的工序及染色的工序的制造方法而获得。根据该制造方法，即使PVA系树脂层较薄，也可通过被拉伸用树脂基材支承而在并无由拉伸所引起的断裂等不良的情况下进行拉伸。作为上述薄型偏振膜，在包括在层叠体的状态下进行拉伸的工序及染色的工序的制造方法中，从可拉伸至高倍率而提升偏振性能的方面考虑，优选为通过如国际公开第2010/100917号小册子、国际公开第2010/100917号小册子或日本专利4751481号说明书或者日本特开2012-073563号公报中所记载的包括在硼酸水溶液中进行拉伸的工序的制造方法而获得的偏振膜，特别优选为通过日本专利4751481号说明书或日本特开2012-073563号公报中所记载的包括在硼酸水溶液中进行拉伸前辅助性地进行空中拉伸的工序的制造方法而获得的偏振膜。通过在利用前述方法得到的碘系偏振片2上层叠含有后述的磷系化合物的涂布层等，由此有时磷系化合物从该涂布层等转移到碘系偏振片2中，从而在碘系偏振片2中含有磷系化合物。这样地在碘系偏振片2中含有磷系化合物时，也能够抑制透明导电层的腐蚀，故优选。作为能够在上述碘系偏振片2中含有的磷系化合物，可举出与后述的磷系化合物同等的物质。碘系偏振片2含有磷系化合物时，作为其含量，碘系偏振片2中优选为3重量％以下，更优选为0.01～1重量％，进一步优选为0.02～0.6重量％。另外，关于本发明中使用的碘系偏振片2的碘和/或碘离子的含量(以下，也有时称为碘含量。)，偏振片中可以为3～12重量％，可以为4～7.5重量％。对于本发明的带有涂布层的偏振膜1而言，即使碘系偏振片2中的碘含量像上述范围那样多，也能够抑制层叠于本发明的偏振膜1的透明导电层的表面电阻上升。认为这是由于，通过碘系偏振片2和/或后述的涂布层4中含有的磷系化合物的作用，能够抑制碘系偏振片中含有的碘转移至透明导电层表面，结果，可防止透明导电层的腐蚀。(2)透明保护膜作为形成透明保护膜3的材料，优选为透明性、机械强度、热稳定性、水分阻断性、各向同性等优异的材料。例如可举出：聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系聚合物、二乙酰纤维素或三乙酰纤维素等纤维素系聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物、聚苯乙烯或丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS树脂)等苯乙烯系聚合物、聚碳酸酯系聚合物等。另外，作为形成上述透明保护膜3的聚合物的例子，也可举出：聚乙烯、聚丙烯、具有环系或降冰片烯结构的聚烯烃、乙烯-丙烯共聚物等聚烯烃系聚合物、氯乙烯系聚合物、尼龙或芳香族聚酰胺等酰胺系聚合物、酰亚胺系聚合物、砜系聚合物、聚醚砜系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫醚系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏二氯乙烯系聚合物、乙烯缩丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、环氧系聚合物或上述聚合物的共混物等。透明保护膜3也能以丙烯酸系、氨基甲酸酯系、丙烯酸氨基甲酸酯系、环氧系、硅酮系等热固化型、紫外线固化型树脂的固化层的形式形成。上述透明保护膜3的厚度可适当地决定，通常从强度或操作性等作业性、薄膜性等观点出发，为1～500μm左右，优选1～300μm，更优选5～200μm，进一步优选5～150μm，特别优选20～100μm。上述透明保护膜3可以仅配置于上述碘系偏振片2的单面(单面保护偏振膜)，也可以配置于上述碘系偏振片2的双面(双面保护偏振膜)。使用单面保护偏振膜时(即，在碘系偏振片2与涂布层4之间不具有透明保护膜时)，本发明的效果较为显著。另外，即使为双面保护偏振膜，在与上述涂布层4相接触一侧的透明保护膜(未图示)的厚度薄(例如为25μm以下)时，本发明的效果也较为显著。上述碘系偏振片2与透明保护膜3通常经由水系粘接剂等而密合。作为水系粘接剂，可例示异氰酸酯系粘接剂、聚乙烯醇系粘接剂、明胶系粘接剂、乙烯系、胶乳系、水系聚氨酯、水系聚酯等。除上述以外，作为碘系偏振片2与透明保护膜3的粘接剂，也可举出紫外线固化型粘接剂、电子束固化型粘接剂等。电子束固化型偏振膜用粘接剂对于上述各种透明保护膜3显示出适宜的粘接性。另外，在本发明中使用的粘接剂中，可含有金属化合物填料。对于上述透明保护膜3的未粘接碘系偏振片2的面，可以设置硬涂层、防反射层、抗粘连层、扩散层或防眩层等功能层。此外，上述功能层可以设置于透明保护膜3本身，也可以作为与透明保护膜3不同的膜而进行设置。(3)涂布层在仅在碘系偏振片2的单面设置透明保护膜3时，涂布层4设置于碘系偏振片2的另一单面(未层叠透明保护膜3的面)，在碘系偏振片2的两面设置透明保护膜3时，涂布层4可以设置于一个透明保护膜，在2片透明保护膜的厚度不同时，优选设置于薄的透明保护膜侧。涂布层4的厚度没有特别限制，从薄层化和光学可靠性的观点出发，优选为10μm以下，更优选为5μm以下，进一步优选为3μm以下。另外，涂布层4可以为1层，也可以为2层以上，但为2层以上时，优选多个涂布层整体满足上述厚度。在涂布层4为2层以上时，至少1层中含有磷系化合物即可。涂布层4可以由各种材料形成，例如可以通过将涂布层形成用树脂组合物涂布于碘系偏振片2来形成。作为上述涂布层形成用树脂组合物中含有的树脂材料，例如可举出：聚酯系树脂、聚醚系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚氨酯系树脂、硅酮系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、PVA系树脂、丙烯酸系树脂等各种聚合物类、或者金属氧化物的溶胶、二氧化硅溶胶等。这些树脂中可以适宜地配合交联剂。这些树脂材料可以单独使用1种，或组合使用2种以上，但其中从与碘系偏振片的密合性、光学可靠性的观点出发，优选选自聚氨酯系树脂、PVA系树脂、丙烯酸系树脂中的1种以上，更优选PVA系树脂。另外，上述树脂的形态可以为水系、溶剂系中的任意一种。此外，粘合剂层含有酸成分时(例如，作为(甲基)丙烯酸系聚合物的单体单元，含有丙烯酸等含羧基单体时)，从确保密合性的观点出发，粘合剂层侧的涂布层优选含有具备与上述酸成分具有反应性的官能团(例如，噁唑啉基等)的化合物。例如，涂布层为2层以上时，最靠近粘合剂层侧的涂布层优选包含含有噁唑啉基的聚合物。(含有PVA系树脂的涂布层形成用树脂组合物)作为上述PVA系树脂，例如可举出PVA。PVA可通过将聚乙酸乙烯酯皂化而得到。另外，作为PVA系树脂，可举出乙酸乙烯酯和与其具有共聚性的单体的共聚物的皂化物。上述具有共聚性的单体为乙烯时，可得到乙烯-乙烯基醇共聚物。另外，作为上述具有共聚性的单体，可举出：马来酸(酸酐)、富马酸、巴豆酸、衣康酸、(甲基)丙烯酸等不饱和羧酸及其酯类；乙烯、丙烯等α-烯烃；(甲基)烯丙基磺酸(钠)、磺酸钠(单烷基马来酸酯)、二磺酸钠烷基马来酸酯、N-羟甲基丙烯酰胺、丙烯酰胺烷基磺酸碱盐、N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基吡咯烷酮衍生物等。这些PVA系树脂可以单独使用1种，也可以并用2种以上。其中，优选将聚乙酸乙烯酯皂化而得到的PVA。另外，作为上述PVA系树脂，可以使用上述PVA或在其共聚物的侧链具有亲水性官能团的改性PVA系树脂。作为上述亲水性官能团，例如可举出乙酰乙酰基、羰基等。另外，还可以使用将PVA系树脂缩醛化、氨基甲酸酯化、醚化、接枝化、磷酸酯化等后的改性PVA。本发明中使用的涂布层4可以由含有上述PVA系树脂作为主要成分、且含有后述的磷系化合物的涂布层形成用树脂组合物形成，上述树脂组合物可以含有固化性成分(交联剂)等。涂布层4或树脂组合物(固体成分)中的PVA系树脂的比例优选为80重量％以上，更优选90重量％以上，进一步优选95重量％以上。(含有丙烯酸系树脂的涂布层形成用树脂组合物)作为上述丙烯酸系树脂，优选含有以下的固化性成分的固化型形成材料。作为固化性成分，可以大致分为电子束固化型、紫外线固化型、可见光线固化型等活性能量射线固化型和热固化型。另外，紫外线固化型、可见光线固化型可以分为自由基聚合固化型和阳离子聚合固化型。本发明中，将波长范围为10nm以上且小于380nm的活性能量射线表示为紫外线，将波长范围380nm～800nm的活性能量射线表示为可见光线。上述自由基聚合固化型的固化性成分，可以作为热固化型的固化性成分使用。(自由基聚合固化型形成材料)作为上述固化性成分，例如可举出自由基聚合性化合物。自由基聚合性化合物可举出具有(甲基)丙烯酰基、乙烯基等碳-碳双键的自由基聚合性官能团的化合物。这些固化性成分可以使用单官能自由基聚合性化合物或二官能以上的多官能自由基聚合性化合物中的任意一种。另外，这些自由基聚合性化合物可以单独使用1种，或组合使用2种以上。作为这些自由基聚合性化合物，例如适合为具有(甲基)丙烯酰基的化合物。此外，本发明中，(甲基)丙烯酰基是指丙烯酰基和/或甲基丙烯酰基，以下(甲基)具有同样的含有。(自由基聚合固化型形成材料的形态)自由基聚合固化型形成材料可以作为活性能量射线固化型或热固化型的形成材料使用。活性能量射线使用电子束等时，该活性能量射线固化型形成材料无需含有光聚合引发剂，但活性能量射线使用紫外线或可见光线时，优选含有光聚合引发剂。另一方面，使用上述固化性成分作为热固化性成分时，该形成材料优选含有热聚合引发剂。基于上述固化型的形成材料的涂布层的形成，通过在碘系偏振片(或透明保护膜)的面上涂敷固化型形成材料，然后实施固化来进行。另外，碘系偏振片(或透明保护膜)在涂敷上述固化型形成材料之前，可以进行表面改性处理。作为具体的处理，可举出基于电晕处理、等离子体处理、皂化处理的处理等。固化型形成材料的涂敷方式可以根据该固化型形成材料的粘度、目标厚度适宜选择。作为涂敷方式的例子，例如可举出：反转涂布机、凹版涂布机(直接型、反转型、胶版印刷型)、刮棒反转式涂布机、辊式涂布机、模涂机、刮棒式涂布机、棒涂机等。此外，涂敷可以适当使用浸涂方式等方式。形成材料的固化可以通过以下方式进行。(活性能量射线固化型)关于活性能量射线固化型形成材料，通过对碘系偏振片(或透明保护膜)涂敷活性能量射线固化型形成材料后，照射活性能量射线(电子束、紫外线、可见光线等)，将活性能量射线固化型形成材料固化，来形成涂布层。活性能量射线(电子束、紫外线、可见光线等)的照射方向可以从任意适当的方向进行照射。优选从涂布层侧进行照射。(热固化型)另一方面，关于热固化型形成材料，通过将偏振片与透明保护膜贴合后进行加热，由此利用热聚合引发剂引发聚合，来形成固化物层。加热温度根据热聚合引发剂而设定，但为60～200℃左右，优选80～150℃。(含有聚氨酯系树脂的涂布层形成用树脂组合物)作为本发明中使用的聚氨酯系树脂，为可以通过使多元醇与聚异氰酸酯反应而得到的树脂，具体地作为优选使用的聚氨酯系树脂，例如可举出长濑化成公司制的Denatron系列等。利用水系材料形成涂布层时，使用水分散型聚合物。作为水分散型聚合物，可举出：使用乳化剂将聚氨酯、聚酯等各种树脂乳液化而得的物质、在上述树脂中导入水分散性的阴离子基、阳离子基、或非离子基而进行自乳化而得的物质等。(磷系化合物)本发明中，上述碘系偏振片和上述涂布层中的任意一者或两者含有磷系化合物。作为磷系化合物，例如可举出磷酸系化合物、膦酸系化合物、磷系抗氧化剂，本发明中，可以将它们单独使用，或组合使用二种以上。其中，优选磷酸系化合物或膦酸系化合物。作为磷酸系化合物，例如可举出选自下述通式(1)所示的化合物和所述通式(1)所示的化合物的多聚物中的磷酸系化合物，【化3】(式中，R1和R2各自独立地表示氢原子、或可以含有氧原子的碳数1～18的烃残基。)。作为上述磷酸系化合物，如后所述，可举出磷酸、磷酸酯、或它们的盐、二聚物、三聚物等。以下，详细地对它们进行说明。通式(1)中，R1和R2各自独立地为氢原子、或可以含有氧原子的碳数1～18的烃残基。作为可以含有氧原子的碳数1～18的烃残基，可举出碳数1～18的烷基、碳数1～18的烯基、碳数6～18的芳基、-(CH2CH2O)nR3(R3为碳数1～18的烷基、碳数1～18的烯基、或碳数6～18的芳基，n为0～15的整数。)等。另外，烷基、烯基可以为直链状，也可以为支链状。其中，作为上述碳数为1～18的烃残基，优选碳数1～10的直链或支链的烷基、碳数6～18的芳基，更优选碳数2～6的直链或支链的烷基。本发明中，也可以适合地使用通式(1)的R1和R2中的任一者为氢原子的磷酸(H3PO4)。另外，也可以适合地使用上述磷酸的盐(钠、钾和镁等金属盐、铵盐等)。另外，本发明中，通式(1)所示的化合物优选为酸性磷酸酯。在此，酸性磷酸酯为通式(1)的R1和R2均为可以含有氧原子的碳数1～18的烃残基的情况(二酯体)；或R1、R2中的任一者为氢原子、且另一者为可以含有氧原子的碳数1～18的烃残基的情况(单酯体)，例如可举出以下的通式(1′)所示的磷酸酯系化合物，【化4】(式中，R1与上述同样，R3为碳数1～18的烷基、碳数1～18的烯基、或碳数6～18的芳基，n为0～15的整数。)。通式(1′)的R1与通式(1)的R1同样，为氢原子或可以含有氧原子的碳数1～18的烃残基。作为可以含有氧原子的碳数1～18的烃残基，可举出与上述同样的基团。作为通式(1′)的R1，优选为氢原子、碳数1～18的直链或支链的烷基、或碳数6～18的芳基，更优选为氢原子、或碳数1～10的直链或支链的烷基，进一步优选为氢原子、或碳数2～6的直链或支链的烷基。作为R3，可举出碳数1～18的烷基、碳数1～18的烯基、或碳数6～18的芳基，优选为碳数1～18的烷基、碳数6～18的芳基，更优选碳数1～10的烷基，进一步优选碳数2～6的烷基。另外，n为0～15的整数，优选为0～10的整数。另外，本发明中，从防止劣化的观点出发，优选不含有聚环氧乙烷结构(CH2CH2O)(即，式(1′)中，n＝0)。作为通式(1′)所示的磷酸酯系化合物，从对被粘物的吸附效果的观点出发，优选R1为氢原子、R3为碳数1～18的直链或支链的烷基的磷酸单酯，更优选R1为氢原子、R3为碳数1～10的直链或支链的烷基的磷酸单酯，进一步优选R1为氢原子、R3为碳数2～6的直链或支链的烷基的磷酸单酯。另外，本发明中，通式(1′)所示的化合物可以混合2种以上使用，另外，可以使用通式(1′)所示的化合物与上述磷酸的混合物。另外，通常通式(1′)所示的磷酸酯系化合物多作为单酯与二酯的混合物得到，优选在上述单酯与二酯的混合物中进一步加入上述磷酸后使用。本发明中，也可以适合地使用通式(1′)所示的化合物的盐(钠、钾和镁等金属盐、铵盐等)。作为上述通式(1′)所示的磷酸酯系化合物的市售品，可举出：东邦化学工业(株)制的“PhosphanolSM-172”(通式(1′)的R1＝R3＝C8H17，n＝0，单/二混合物(单酯体∶二酯体＝5∶5(重量比)，酸值：219mgKOH/g)，“PhosphanolGF-185”(通式(1′)的R1＝R3＝C13H27，n＝0，单/二混合物、酸值：158mgKOH/g)，“PhosphanolBH-650”(通式(1′)的R1＝R3＝C4H9，n＝1，单/二混合物、酸值：388mgKOH/g)，“PhosphanolRS-410”(通式(1′)的R1＝R3＝C13H27，n＝4，单/二混合物(单酯体∶二酯体＝5∶5(重量比)，酸值：105mgKOH/g)，“PhosphanolRS-610”(通式(1′)的R1＝C13H27，R3＝C13H27，n＝6，单/二混合物、酸值：82mgKOH/g)，“PhosphanolRS-710”(通式(1′)的R1＝C13H27，R3＝C13H27，n＝10，单/二混合物(单酯体∶二酯体＝5∶5(重量比))，酸值：62mgKOH/g)，“PhosphanolML-220”(通式(1′)的R1＝R3＝C12H25，n＝2，单/二混合物)，“PhosphanolML-200”(通式(1′)的R1＝R3＝C12H25，n＝0，单/二混合物)，“PhosphanolED-200”(通式(1′)的R1＝R3＝C8H17，n＝1，单/二混合物)，“PhosphanolRL-210”((1′)的R1＝R3＝C18H37，n＝2，单/二混合物)，“PhosphanolGF-339(通式(1′)的R1＝R3＝C6H13～C10H21的混合，n＝0，单/二混合物)，“PhosphanolGF-199”(通式(1′)的R1＝R3＝C12H25，n＝0，单/二混合物)，“PhosphanolRL-310”(通式(1′)的R1＝R3＝C18H37，n＝3，单/二混合物)，“PhosphanolLP-700”(通式(1′)的R1＝R3＝C6H5，n＝6，单/二混合物)，大八化学工业(株)制的“AP-1”(通式(1′)的R1＝R3＝CH3，n＝0，单/二混合物、酸值：650mgKOH/g以上)，“AP-4”(通式(1′)的R1＝R3＝C4H9，n＝0，单/二混合物、酸值：452mgKOH/g)，“DP-4”(通式(1′)的R1＝R3＝C4H9，n＝0，二酯体，酸值：292mgKOH/g)，“MP-4”(通式(1′)的R1＝H，R3＝C4H9，n＝0，单/二混合物(单酯体∶二酯体＝8∶2(重量比))，酸值：670mgKOH/g)，“AP-8”(通式(1′)的R1＝R3＝C8H17，n＝0，单/二混合物、酸值：306mgKOH/g)，“AP-10”(通式(1′)的R1＝R3＝C10H21，n＝0，单/二混合物、酸值：263mgKOH/g)，“MP-10”(通式(1′)的R1＝H，R3＝C10H21，n＝0，单酯体，酸值：400mgKOH/g)，城北化学(株)制的“JP-508”(通式(1′)的R1＝R3＝C8H17，n＝0，单/二混合物、酸值：288mgKOH/g)，“JP-513”(通式(1′)的R1＝R3＝C13H27，n＝0，单/二混合物)，“JP-524R”(通式(1′)的R1＝R3＝C24H49，n＝0，单/二混合物)，“DBP”(通式(1′)的R1＝R3＝C4H9，n＝0，单/二混合物(单酯体∶二酯体＝1∶9(重量比))，酸值：266mgKOH/g)，“LB-58”(通式(1′)的R1＝R3＝C8H17，n＝0，二酯体，酸值：173mgKOH/g)，日光化学(株)制的“NikkolDDP-2”(通式(1′)的R1＝R3＝C12H25～C15H31的混合物、n＝2)等以及它们的盐。此外，上述“单/二混合物”是指单酯(R1＝H)与二酯(R1＝可以含有氧原子的碳数1～18的烃残基)的混合物，例如为PhosphanolSM-172时，表示为单酯(通式(1′)的R1＝H，R3＝C8H17，n＝0)与二酯(通式(1′)的R1＝R3＝C8H17，n＝0)的混合物。作为本发明中使用的磷酸系化合物，可以将选自通式(1)所示的化合物(或通式(1′)所示的化合物)、或它们的盐、多聚物中的化合物1种单独使用，也可以将它们混合2种以上后使用，优选为选自磷酸、磷酸单酯、和磷酸二酯中的2种以上的混合物，更优选为包含磷酸单酯和磷酸的混合物。在此，磷酸单酯是指通式(1)的R1和R2中的任一者为氢原子、且另一者为可以含有氧原子的碳数1～18的烃残基的化合物(通式(1′)的情况下，R1为氢原子的化合物)，磷酸二酯是指通式(1)的R1和R2为可以含有氧原子的碳数1～18的烃残基的化合物(通式(1′)的情况下，R1为可以含有氧原子的碳数1～18的烃残基的化合物)。另外，本发明中使用的磷酸化合物的酸值优选为900mgKOH/g以下，更优选为50～800mgKOH/g，优选为10～700mgKOH/g。另外，从生产上的处理的观点出发，上述磷酸化合物的酸值优选为400mgKOH/g以下，更优选为50～400mgKOH/g，进一步优选为50～350mgKOH/g，特别优选为100～300mgKOH/g。在形成涂布层4的组合物中含有交联剂的情况下，磷酸化合物根据该交联剂的种类(例如异氰酸酯系交联剂)有时作为交联反应的反应催化剂发挥作用，此时，有时作为形成涂布层4的组合物的适用期变短，有时在处理性方面变差。通过使磷酸化合物的酸值达到上述范围，由此能够抑制作为应催化剂的作用，因此从形成涂布层4的组合物的适用期的观点出发，是优选的。另外，从能够有效地发挥效果的观点出发，将具有上述范围的酸值的磷酸化合物以后述的添加量进行添加是优选的。另外，作为上述通式(1)所示的化合物的多聚物，可举出上述通式(1)所示的化合物的二聚物、三聚物等。另外，作为磷系化合物，可举出膦酸系化合物。作为膦酸系化合物，例如可举出选自下述通式(2)所示的化合物及其盐中的膦酸系化合物，【化5】(式中，R为氢原子、或可以含有氧原子的碳数1～18的烃残基。)。通式(2)中，R为氢原子、或可以含有氧原子的碳数1～18的烃残基。作为可以含有氧原子的碳数1～18的烃残基，可举出碳数1～18的烷基、碳数1～18的烯基、碳数6～18的芳基等。另外，烷基、烯基可以为直链状，也可以为支链状。可以为通式(2)的R为氢原子的膦酸(HP(＝O)(OH)2)。另外，也适合使用上述膦酸的盐(钠、钾和镁等金属盐、铵盐等)。作为上述通式(2)所示的膦酸系化合物，具体地可举出：膦酸、甲基膦酸、乙基膦酸、正丙基膦酸、异丙基膦酸、正丁基膦酸、叔丁基膦酸、仲丁基膦酸、异丁基膦酸、正戊基膦酸、正己基膦酸、异己基膦酸、正庚基膦酸、正辛基膦酸、异辛基膦酸、叔辛基膦酸、正壬基膦酸、正癸基膦酸、异癸基膦酸、正十二烷基膦酸、异十二烷基膦酸、正十四烷基膦酸、正十六烷基膦酸、正十八烷基膦酸、正二十烷基膦酸、环丁基膦酸、环戊基膦酸、环己基膦酸、降冰片基膦酸、苯基膦酸、萘基膦酸、联苯膦酸、甲氧基苯基膦酸、乙氧基苯基膦酸和它们的盐。本发明中，它们可以单独使用，或组合使用二种以上。另外，作为磷系化合物，可举出磷系抗氧化剂。作为磷系抗氧化剂的具体例，可举出：亚磷酸三辛基酯、亚磷酸三月桂基酯、三(十三烷基)亚磷酸酯、三异癸基亚磷酸酯、苯基二异辛基亚磷酸酯、苯基二异癸基亚磷酸酯、苯基二(十三烷)亚磷酸酯、二苯基异辛基亚磷酸酯、二苯基异癸基亚磷酸酯、二苯基十三烷亚磷酸酯、三苯基亚磷酸酯、三(壬基苯基)亚磷酸酯、三(2，4-二-叔丁基苯基)亚磷酸酯、三(丁氧基乙基)亚磷酸酯、四(十三烷基)-4，4′-丁叉双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)-二亚磷酸酯、4，4′-异丙叉-二苯酚烷基亚磷酸酯(其中，烷基为碳数12～15左右)、4，4′-异丙叉双(2-叔丁基苯酚)/二(壬基苯基)亚磷酸酯、三(联苯基)亚磷酸酯、四(十三烷基)-1，1，3-三(2-甲基-5-叔丁基-4-羟基苯基)丁烷二亚磷酸酯、三(3，5-二-叔丁基-4-羟基苯基)亚磷酸酯、氢化-4，4′-异丙叉二苯酚聚亚磷酸酯、双(辛基苯基)/双[4，4′-丁叉双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)]/1，6-己二醇二亚磷酸酯、六(十三烷基)-1，1，3-三(2-甲基-4-羟基-5-叔丁基苯酚)二亚磷酸酯、三[4，4′-异丙叉双(2-叔丁基苯酚)]亚磷酸酯、三(1，3-二硬脂酰氧基异丙基)亚磷酸酯、9，10-二氢-9-磷杂菲-10-氧化物、四(2，4-二-叔丁基苯基)-4，4′-亚联苯基二亚膦酸酯、二硬脂基季戊四醇二亚磷酸酯、二(壬基苯基)季戊四醇二亚磷酸酯、苯基/4，4′-异丙叉二苯酚/季戊四醇二亚磷酸酯、双(2，4-二-叔丁基苯基)季戊四醇二亚磷酸酯、双(2，6-二-叔丁基-4-甲基苯基)季戊四醇二亚磷酸酯和苯基双酚-A-季戊四醇二亚磷酸酯等。上述磷系化合物的添加量，相对于涂布层形成用树脂组合物中含有的树脂成分100重量份，优选为0.01～10重量份，更优选为0.01～5重量份，进一步优选为0.1～5重量份。通过使磷系化合物的添加量在上述范围内，由此能够抑制透明导电层的表面电阻值上升，故优选。另外，本发明中，如上所述，可以并用2种以上的磷系化合物，此时能够以使合计量达到上述范围的方式进行添加。另外，涂布层的形成材可以含有防静电剂。防静电剂只要为可赋予导电性的材料，则无特别限定，例如可举出离子性表面活性剂、导电性聚合物、金属氧化物、碳黑、及碳纳米材料等，这些之中，优选导电性聚合物，更优选水分散性导电聚合物。作为水溶性导电性聚合物，可举出聚苯胺磺酸(经聚苯乙烯换算的重均分子量150000、三菱丽阳(株)制造)等，作为水分散性导电聚合物，可举出聚噻吩系导电性聚合物(长濑化成公司制造、Denatron系列)等。上述防静电剂的配合量例如相对于涂布层的形成材料中使用的上述聚合物类100重量份而为70重量份以下，优选为50重量份以下。就防静电效果的方面而言，优选为设为10重量份以上，进而设为20重量份以上。另外，为了抑制与涂布层接触时产生的粘合剂层、碘系偏振片的劣化等，涂布层的形成材料中可以配合各种添加剂，为了对涂布层赋予功能，可以配合各种添加剂。例如，可以添加抗氧化剂(磷系以外)、劣化防止剂、紫外线吸收剂、荧光增白剂等。作为上述涂布层的形成方法，没有特别限定，可通过通常公知的方法而进行。另外，形成涂布层时，可以对上述偏振膜1施与活性化处理。活化处理可采用各种方法，例如可采用电晕处理、低压UV处理、等离子处理等。本发明中，通过制成具有由含有上述磷酸系化合物的树脂组合物形成的涂布层4的带有涂布层的偏振膜，由此，即使将该带有涂布层的偏振膜通过粘合剂层层叠在透明导电层上，也能够抑制透明导电层的表面电阻上升。2.带有粘合剂层的偏振膜本发明的带有粘合剂层的偏振膜的特征在于，在上述带有涂布层的偏振膜的涂布层侧具有粘合剂层。以下，使用作为本发明的一个实施方式的图2对本发明的带有粘合剂层的偏振膜的构成进行说明。其中，本发明的带有粘合剂层的偏振膜并不限定为图2的方式。关于本发明的带有粘合剂层的偏振膜6，如图2所示，在上述带有涂布层的偏振膜1的涂布层4侧具有粘合剂层5。可以在本发明的带有粘合剂层的偏振膜6的粘合剂层5设置隔片(未图示)，在供于实用之前保护粘合剂层5。另外，可以在带有粘合剂层的偏振膜6的透明保护膜3侧设置表面保护膜(未图示)。以下，对各自的材料进行说明。粘合剂层5的形成中可以使用适宜的粘合剂，其种类无特别限制。作为粘合剂，例如可举出：橡胶系粘合剂、丙烯酸系粘合剂、硅酮系粘合剂、氨基甲酸酯系粘合剂、乙烯基烷基醚系粘合剂、聚乙烯醇系粘合剂、聚乙烯基吡咯烷酮系粘合剂、聚丙烯酰胺系粘合剂、纤维素系粘合剂等，其中，从光学透明性优异、显示出适宜的密合性、凝集性和粘接性的粘合特性、耐候性或耐热性等优异的观点出发，优选使用丙烯酸系粘合剂。作为上述丙烯酸系粘合剂，可举出含有(甲基)丙烯酸系聚合物粘合剂。作为上述(甲基)丙烯酸系聚合物，没有特别限制，例如优选为将含有(甲基)丙烯酸烷基酯的单体成分聚合而得到的聚合物，优选为将含有(甲基)丙烯酸烷基酯和含羟基单体的单体成分聚合而得到的聚合物。此外，(甲基)丙烯酸烷基酯是指丙烯酸烷基酯和/或甲基丙烯酸烷基酯，与本发明的(甲基)具有同样的含义。作为(甲基)丙烯酸烷基酯的烷基，可使用直链状或支链状的各种烷基。作为上述(甲基)丙烯酸烷基酯的具体例，例如可例示：(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸异戊(イソペンチル)酯、(甲基)丙烯酸异戊(イソアミル)酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸异肉豆蔻酯、(甲基)丙烯酸正十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、或(甲基)丙烯酸十二烷基酯等。这些可单独或组合使用。这些之中，优选为具有碳数4～18的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯，更优选具有碳数4～10的烷基的(甲基)丙烯酸酯，进一步优选为(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯，特别优选为(甲基)丙烯酸正丁酯。另外，作为含羟基的单体，可无特别限定地使用具有(甲基)丙烯酰基或乙烯基等具有不饱和双键的聚合性官能团且具有羟基的单体。作为含羟基的单体，例如可举出(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羟基己酯、(甲基)丙烯酸8-羟基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羟基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羟基月桂酯、(甲基)丙烯酸(4-羟基甲基环己基)甲酯等，这些可单独使用1种或将2种以上混合使用。这些之中，优选丙烯酸4-羟基丁酯。另外，在使用异氰酸酯系交联剂作为后述交联剂的情况下，通过使用丙烯酸4-羟基丁酯作为含羟基的单体，可高效率地确保与异氰酸酯系交联剂的异氰酸酯基的交联点，因而优选。在形成本发明中使用的(甲基)丙烯酸系聚合物的单体成分中，可含有上述具有碳数4～18的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯、任选的上述含羟基的单体等，除这些单体以外，也可使用含羧基的单体、含芳基的单体、其他共聚单体作为单体成分。作为含羧基单体，可无特别限定地使用具有(甲基)丙烯酰基或乙烯基等具有不饱和双键的聚合性官能团且具有羧基的单体。作为含羧基单体，例如可举出丙烯酸、甲基丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、衣康酸、马来酸、富马酸、巴豆酸等，这些可单独或组合使用。作为含芳基单体，可无特别限定地使用具有(甲基)丙烯酰基或乙烯基等具有不饱和双键的聚合性官能团且具有芳基的单体。作为含芳基单体，例如可举出(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯等(甲基)丙烯酸芳酯。作为其他共聚单体，只要为具有(甲基)丙烯酰基或乙烯基等具有不饱和双键的聚合性官能团的单体，则无特别限定，可举出：例如(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸冰片酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯等(甲基)丙烯酸脂环式烃酯；例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯酯类；例如苯乙烯等苯乙烯系单体；例如(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲基缩水甘油酯等含环氧基的单体；例如(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等含烷氧基的单体；例如丙烯腈、甲基丙烯腈等含氰基的单体；例如异氰酸2-甲基丙烯酰氧基乙酯等官能性单体；例如乙烯、丙烯、异戊二烯、丁二烯、异丁烯等烯烃系单体；例如乙烯醚等乙烯醚系单体；例如氯乙烯等含卤素原子的单体等。另外，作为共聚性单体，可举出：例如N-环己基马来酰亚胺、N-异丙基马来酰亚胺、N-月桂基马来酰亚胺、N-苯基马来酰亚胺等马来酰亚胺系单体；例如N-甲基衣康酰亚胺、N-乙基衣康酰亚胺、N-丁基衣康酰亚胺、N-辛基衣康酰亚胺、N-2-乙基己基衣康酰亚胺、N-环己基衣康酰亚胺、N-月桂基衣康酰亚胺等衣康酰亚胺系单体；例如N-(甲基)丙烯酰氧基亚甲基琥珀酰亚胺、N-(甲基)丙烯酰基-6-氧基六亚甲基琥珀酰亚胺、N-(甲基)丙烯酰基-8-氧基八亚甲基琥珀酰亚胺等琥珀酰亚胺系单体；例如苯乙烯磺酸、烯丙磺酸、2-(甲基)丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯酰胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺基丙酯、(甲基)丙烯酰氧基萘磺酸等含磺酸基的单体。另外，作为共聚性单体，可举出含酰胺基单体。含酰胺基单体是在其结构中含有酰胺基、并且含有(甲基)丙烯酰基、乙烯基等聚合性不饱和双键的化合物。作为含酰胺基单体具体例，可举出：(甲基)丙烯酰胺、N，N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二乙基(甲基)丙烯酰胺、N-异丙基丙烯酰胺、N-甲基(甲基)丙烯酰胺、N-丁基(甲基)丙烯酰胺、N-己基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基-N-丙烷(甲基)丙烯酰胺、氨基甲基(甲基)丙烯酰胺、氨基乙基(甲基)丙烯酰胺、巯基甲基(甲基)丙烯酰胺、巯基乙基(甲基)丙烯酰胺等丙烯酰胺系单体；N-(甲基)丙烯酰基吗啉、N-(甲基)丙烯酰基哌啶、N-(甲基)丙烯酰基四氢吡咯等N-丙烯酰基杂环单体；N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基-ε-己内酰胺等含有N-乙烯基的内酰胺系单体等。含酰胺基单体从满足耐久性的方面考虑是优选的，含酰胺基单体中，特别是含有N-乙烯基的内酰胺系单体从满足对透明导电层的耐久性方面考虑是优选的。另外，作为共聚性单体，可举出：例如(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇酯等二醇系丙烯酸酯单体；此外，例如(甲基)丙烯酸四氢糠酯、氟(甲基)丙烯酸酯等含有杂环或卤素原子的丙烯酸酯系单体等。另外，作为共聚性单体，可使用多官能性单体。作为多官能性单体，可举出具有2个以上的(甲基)丙烯酰基、乙烯基等不饱和双键的化合物等。例如可举出：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(单或聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(单或聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(单或聚)亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯；此外，还可举出新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸与多元醇的酯化物；二乙烯基苯等多官能乙烯基化合物；(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯等具有反应性不饱和双键的化合物等。另外，作为多官能性单体，也可使用在聚酯、环氧化合物、氨基甲酸酯等骨架上加成2个以上的作为与单体成分相同的官能团的(甲基)丙烯酰基、乙烯基等不饱和双键而成的聚酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯等。这样的(甲基)丙烯酸系聚合物的制造可适当选择溶液聚合、本体聚合、乳液聚合、各种自由基聚合等公知的制造方法，并无特别限定。另外，所获得的(甲基)丙烯酸系聚合物可为无规共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等中的任一种。在溶液聚合中，作为聚合溶剂，例如使用乙酸乙酯、甲苯等。作为具体的溶液聚合例，反应是在氮气等惰性气体气流下添加聚合引发剂且通常于50～70℃左右、5～30小时左右的反应条件下进行。自由基聚合中所使用的聚合引发剂、链转移剂、乳化剂等并无特别限定，可适当选择使用。此外，(甲基)丙烯酸系聚合物的重均分子量可根据聚合引发剂、链转移剂的使用量、反应条件而加以控制，根据这些的种类而调整适当的使用量。在本发明中使用的丙烯酸系粘合剂组合物中，为了提升高温多湿条件下的密合性，可添加各种硅烷偶联剂。作为硅烷偶联剂，可使用具有任意的适当的官能团的物质。作为官能团，例如可举出乙烯基、环氧基、氨基、巯基、(甲基)丙烯酰氧基、乙酰乙酰基、异氰酸酯基、苯乙烯基、聚硫醚等。具体而言，例如可举出：乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三丙氧基硅烷、乙烯基三异丙氧基硅烷、乙烯基三丁氧基硅烷等含乙烯基的硅烷偶联剂；γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷等含环氧基的硅烷偶联剂；γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-三乙氧基甲硅烷基-N-(1，3-二甲基丁叉基)丙胺、N-苯基-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷等含氨基的硅烷偶联剂；γ-巯基丙基甲基二甲氧基硅烷等含巯基的硅烷偶联剂；对苯乙烯基三甲氧基硅烷等含苯乙烯基的硅烷偶联剂；γ-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷等含(甲基)丙烯酰基的硅烷偶联剂；3-异氰酸酯丙基三乙氧基硅烷等含异氰酸酯基的硅烷偶联剂；双(三乙氧基甲硅烷基丙基)四硫醚等含聚硫醚基的硅烷偶联剂等。另外，通过在本发明中使用的丙烯酸系粘合剂组合物中添加交联剂，可赋予与粘合剂的耐久性相关的凝聚力，故而优选。作为交联剂，可使用多官能性的化合物，可举出有机系交联剂或多官能性金属螯合物。作为有机系交联剂，可举出：环氧系交联剂、异氰酸酯系交联剂、碳二酰亚胺系交联剂、亚胺系交联剂、噁唑啉系交联剂、氮丙啶系交联剂、过氧化物系交联剂等。多官能性金属螯合物为多价金属原子与有机化合物共价键合或配位键合的物质。作为多价金属原子，可举出Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。作为共价键合或配位键合的有机化合物中的原子，可举出氧原子等，作为有机化合物，可举出烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。这些交联剂可单独使用1种或组合2种以上使用。这些之中，优选为过氧化物系交联剂、异氰酸酯系交联剂，更优选组合这些使用。异氰酸酯系交联剂是指在1分子中具有2个以上异氰酸酯基(包括通过封端剂或多聚物化等而暂时保护异氰酸酯基的异氰酸酯再生型官能团)的化合物。作为异氰酸酯系交联剂，可举出：甲苯二异氰酸酯、二甲苯二异氰酸酯等芳香族异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯等脂环族异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯等脂肪族异氰酸酯等。作为过氧化物系交联剂，使用各种过氧化物。作为过氧化物，可举出：过氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯、过氧化二碳酸二(4-叔丁基环己基)酯、过氧化二碳酸二仲丁酯、过氧化新癸酸叔丁酯、过氧化特戊酸叔己酯、过氧化特戊酸叔丁酯、过氧化二月桂酰、过氧化二正辛酰、过氧化异丁酸1，1，3，3-四甲基丁酯、过氧化2-乙基己酸1，1，3，3-四甲基丁酯、过氧化二(4-甲基苯甲酰)、过氧化二苯甲酰、过氧化异丁酸叔丁酯等。这些之中，特别优选地使用交联反应效率优异的过氧化二碳酸二(4-叔丁基环己基)酯、过氧化二月桂酰、过氧化二苯甲酰。另外，通过在本发明中使用的丙烯酸系粘合剂组合物中添加离子性化合物，由此从不仅赋予防静电功能、而且抑制透明导电层的表面电阻上升的观点出发，是优选的。作为离子性化合物，可优选地使用碱金属盐及/或有机阳离子-阴离子盐。碱金属盐可使用碱金属的有机盐、及无机盐。此外，所谓本发明中所述的“有机阳离子-阴离子盐”指为有机盐且其阳离子部由有机物所构成的化合物，阴离子部可为有机物，也可为无机物。“有机阳离子-阴离子盐”也称为离子性液体、离子性固体。另外，作为离子性化合物，除上述碱金属盐、有机阳离子-阴离子盐以外，也可举出：氯化铵、氯化铝、氯化铜、氯化亚铁、氯化铁、硫酸铵等无机盐。这些离子性化合物可单独使用或并用多种。另外，在本发明中使用的丙烯酸系粘合剂组合物中，根据需要也可在不脱离本发明目的的范围内适当使用粘度调整剂、剥离调整剂、增粘剂、增塑剂、软化剂、包含玻璃纤维、玻璃珠、金属粉、其他无机粉末等的填充剂、颜料、着色剂(颜料、染料等)、pH值调整剂(酸或碱)、抗氧化剂、紫外线吸收剂等各种添加剂。这些添加剂也能以乳液的形式配合。另外，本发明中使用的丙烯酸系粘合剂组合物中可以含有本说明书中中记载的磷系化合物，但从与偏振膜或涂布层的密合性的观点出发，优选不含有。上述粘合剂层5的形成方法并无特别限定，可为在各种基材上涂布上述丙烯酸系粘合剂组合物，利用热烘箱等干燥器进行干燥，使溶剂等挥散而形成粘合剂层，将该粘合剂层转印于上述带有涂布层的偏振膜1的涂布层侧的方法，也可在上述带有涂布层的偏振膜1的涂布层上直接涂布上述丙烯酸系粘合剂组合物而形成粘合剂层5。作为上述基材，并无特别限定，例如可举出脱模膜、透明树脂膜基材等各种基材。作为对上述基材或偏振膜的涂布方法，可使用各种方法。具体而言，例如可举出：喷注式涂布机、辊式涂布、接触辊式涂布、凹版涂布、反向涂布、辊式刷涂、喷涂、浸辊式涂布、棒式涂布、刮刀涂布、气刀涂布、淋幕式涂布、模唇涂布、利用模涂布机等的挤出涂布法等方法。干燥条件(温度、时间)并无特别限定，可根据丙烯酸系粘合剂组合物的组成、浓度等而适当设定，例如为80～170℃左右，优选为90～200℃，为1～60分钟，优选为2～30分钟。粘合剂层5的厚度(干燥后)例如优选为5～100μm，更优选为10～60μm，进一步优选为12～40μm。若粘合剂层5的厚度低于10μm，则有对被粘合体的密合性变差，高温、高温多湿下的耐久性不充分的倾向。另一方面，在粘合剂层5的厚度超过100μm时，存在形成粘合剂层5时的丙烯酸系粘合剂组合物的涂布、干燥时未充分地干燥而残留气泡，或于粘合剂层的面产生厚度不均，或者外观上的问题变得明显的倾向。作为上述脱模膜的构成材料，例如可举出聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酯膜等树脂膜、纸、布、无纺布等多孔质材料、网状物、发泡片、金属箔、及这些的层压体等适当的薄片体等，从表面平滑性优异的观点出发，可优选地使用树脂膜。作为该树脂膜，例如可举出：聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜、聚丁二烯膜、聚甲基戊烯膜、聚氯乙烯膜、氯乙烯共聚物膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚对苯二甲酸丁二酯膜、聚氨酯膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物膜等。上述脱模膜的厚度通常为5～200μm，优选为5～100μm左右。对于上述脱模膜，根据需要也可进行利用硅酮系、氟系、长链烷基系或脂肪酸酰胺系的脱模剂、二氧化硅粉末等的脱模及防污处理或涂布型、混炼型、蒸镀型等的防静电处理。特别是通过对上述脱模膜的表面适当进行硅酮处理、长链烷基处理、氟处理等剥离处理，可进一步提高从上述粘合剂层的剥离性。作为上述透明树脂膜基材，并无特别限定，可使用具有透明性的各种树脂膜。该树脂膜可通过1层膜而形成。例如作为其材料，可举出：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂、乙酸酯系树脂、聚醚砜系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚烯烃系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚偏二氯乙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚芳酯系树脂、聚苯硫醚系树脂等。这些之中，特别优选聚酯系树脂、聚酰亚胺系树脂及聚醚砜系树脂。上述膜基材的厚度优选为15～200μm。粘合剂层在上述带有涂布层的偏振膜1的涂布层上的形成方法如上所述。另外，在本发明的带有粘合剂层的偏振膜的粘合剂层露出的情况下，在供于实用之前也可利用脱模膜(隔片)保护粘合剂层。作为脱模膜，可举出如上所述的脱模膜。在制作上述粘合剂层时使用脱模膜作为基材的情况下，将脱模膜上的粘合剂层与碘系偏振膜贴合，由此该脱模膜可用作带有粘合剂层的偏振膜的粘合剂层的脱模膜，可进行工序上的简化。本发明的上述带有粘合剂层的偏振膜可以以使带有粘合剂层的偏振膜的粘合剂层与具有透明导电层的构件的透明导电层接触的方式贴合后使用。作为具有透明导电层的构件，并无特别限定，可使用公知构件，可举出在透明膜等透明基材上具有透明导电层的构件、或具有透明导电层及液晶单元的构件。作为透明基材，只要为具有透明性的基材即可，例如可举出包括树脂膜或玻璃等的基材(例如片状或膜状、板状的基材等)等，特别优选为树脂膜。透明基材的厚度并无特别限定，优选为10～200μm左右，更优选15～150μm左右。作为上述树脂膜的材料，并无特别限定，可举出具有透明性的各种塑料材料。例如作为其材料，可举出：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂、乙酸酯系树脂、聚醚砜系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚烯烃系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚偏二氯乙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚芳酯系树脂、聚苯硫醚系树脂等。这些之中，特别优选聚酯系树脂、聚酰亚胺系树脂及聚醚砜系树脂。另外，对于上述透明基材，也可对表面预先实施溅射、电晕放电、火焰、紫外线照射、电子束照射、化成、氧化等蚀刻处理或底涂处理而提升设置于其上的透明导电层对于上述透明基材的密合性。另外，在设置透明导电层之前，根据需要也可利用溶剂清洗、超声波清洗等进行除尘、清洁化。作为上述透明导电层的构成材料，并无特别限定，使用选自由铟、锡、锌、镓、锑、钛、硅、锆、镁、铝、金、银、铜、钯、钨所组成的组中的至少1种金属的金属氧化物。在该金属氧化物中，根据需要也可还含有上述组中所示的金属原子。例如可优选地使用含有氧化锡的氧化铟(ITO)、含有锑的氧化锡等，可特别优选地使用ITO。作为ITO，优选含有氧化铟80～99重量％及氧化锡1～20重量％。另外，作为上述ITO，可举出结晶性ITO、非晶性(无定形)ITO。结晶性ITO可通过在溅射时施加高温、或进而加热非晶性ITO而获得。上述由碘所引起的劣化会在非晶性ITO上明显地产生，故而本发明的带有粘合剂层的偏振膜对于非晶性ITO特别有效。上述透明导电层的厚度并无特别限定，优选设为7nm以上，更优选设为10nm以上，进一步优选为设为12～60nm，进一步优选为设为15～45nm，进一步优选为设为18～45nm，特别优选为设为20～30nm。若透明导电层的厚度低于7nm，则有容易产生由碘所引起的透明导电层的劣化，透明导电层的电阻值的变化增大的倾向。另一方面，在超过60nm的情况下，有透明导电层的生产性降低，成本也上升，进而光学特性也降低的倾向。作为上述透明导电层的形成方法，并无特别限定，可采用以往公知的方法。具体而言，例如可例示真空蒸镀法、溅射法、离子镀着法。另外，也可根据所需的膜厚而采用适当的方法。作为具有上述透明导电层的基材的厚度，可举出15～200μm。进而，就薄膜化的观点而言，优选为15～150μm，更优选15～50μm。在以电阻膜方式使用具有上述透明导电层的基材的情况下，例如可举出100～200μm的厚度。另外，在以静电容量方式使用的情况下，例如优选为15～100μm的厚度，特别是伴随于近年来的进一步的薄膜化要求，更优选为15～50μm的厚度，进一步优选为20～50μm的厚度。另外，在透明导电层与透明基材之间，根据需要可设置底涂层、低聚物防止层等。另外，作为具有透明导电层及液晶单元的构件，可举出各种液晶显示装置等图像显示装置中所使用的在包含基板(例如玻璃基板等)/液晶层/基板的构成的液晶单元的该基板的不与液晶层接触的侧具有透明导电层的构件。另外，在液晶单元上设置滤色器基板的情况下，也可在该滤色器上具有透明导电层。在液晶单元的基板上形成透明导电层的方法与上述相同。3.图像显示装置本发明的带有粘合剂层的偏振膜如上所述，即使在该带有粘合剂层的偏振膜的粘合剂层上层叠透明导电层的情况下，也能抑制透明导电层的腐蚀，而可抑制透明导电层的表面电阻上升。因此，只要为具有带有粘合剂层的偏振膜的粘合剂层与透明导电层接触的构成的图像显示装置，就可适宜地使用本发明的带有粘合剂层的偏振膜。例如可将本发明的带有粘合剂层的偏振膜与具有透明导电层的液晶面板以上述带有粘合剂层的偏振膜的粘合剂层与上述液晶面板的透明导电层接触的方式贴合而制作图像显示装置。进而具体而言，可举出使用透明导电层作为防静电层用途的图像显示装置或使用透明导电层作为触摸面板的电极用途的图像显示装置。作为使用透明导电层作为防静电层用途的图像显示装置，具体而言，例如可举出：包含偏振膜/粘合剂层/防静电层/玻璃基板/液晶层/驱动电极/玻璃基板/粘合剂层/偏振膜的构成且上述防静电层、驱动电极由透明导电层形成的图像显示装置。作为该图像显示装置的上侧(观察侧)的带有粘合剂层的偏振膜，可使用本发明的带有粘合剂层的偏振膜。另外，作为使用透明导电层作为触摸面板的电极用途的图像显示装置，例如可举出：为偏振膜/粘合剂层/兼作防静电层的传感器层/玻璃基板/液晶层/兼作驱动电极的传感器层/玻璃基板/粘合剂层/偏振膜的构成(In-Cell型触摸面板)、或偏振膜/粘合剂层/兼作防静电层的传感器层/传感器层/玻璃基板/液晶层/驱动电极/玻璃基板/粘合剂层/偏振膜的构成(On-Cell型触摸面板)且兼作防静电层的传感器层、传感器层、驱动电极由透明导电层形成的图像显示装置。作为该图像显示装置的上侧(观察侧)的带有粘合剂层的偏振膜，可使用本发明的带有粘合剂层的偏振膜。实施例以下，使用实施例对本发明进行详细说明，但只要不超过其主旨，则本发明并不限定于以下的实施例。<偏振片中的碘含量>偏振片中的碘含量(碘及/或碘离子的含量)按照以下的工序进行测定。1)对多个包含规定量碘化钾的偏振片测定荧光X射线强度，导出碘含量与荧光X射线强度的关系式。2)测定碘含量未知的碘系偏振片的荧光X射线，由该数值并使用上述关系式计算碘量。<丙烯酸系聚合物的重均分子量(Mw)的测定>制作的丙烯酸系聚合物的重均分子量通过GPC(凝胶渗透色谱)进行测定。装置：东曹公司制，HLC-8220GPC柱：样品柱：东曹公司制，TSKguardcolumnSuperHZ-H(1根)+TSKgelSuperHZM-H(2根)参比柱：东曹公司制，TSKgelSuperH-RC(1根)流量：0.6mL/min注入量：10μL柱温度：40℃洗脱液：THF注入试样浓度：0.2重量％检测器：差示折射计此外，重均分子量通过聚苯乙烯换算算出。制造例1(单面保护偏振膜的制作)使在非晶性PET基材上制膜有9μm厚的PVA层而成的层叠体通过拉伸温度130℃下的空中辅助拉伸而生成拉伸层叠体。然后，将拉伸层叠体在相对于水100重量份而含有碘0.1重量份、碘化钾0.7重量份的染色液中浸渍60秒钟而生成着色层叠体。进而，利用拉伸温度65℃下的硼酸水中拉伸以总拉伸倍率成为5.94倍的方式使着色层叠体与非晶性PET基材一体拉伸而生成包含4μm厚的PVA层的光学膜层叠体。通过上述2步拉伸，可生成构成高功能偏振层的包含厚度4μm的PVA层的光学膜层叠体，所述高功能偏振层使在非晶性PET基材上所制膜的PVA层的PVA分子高度地取向，使通过染色而吸附的碘以聚碘离子络合物的形式高度地在一个方向上取向。进而，在该光学膜层叠体的偏振层的表面涂布PVA系粘接剂，并且贴合经皂化处理的40μm厚的丙烯酸系树脂膜(透明保护膜)后，将非晶性PET基材剥离而制作仅在使用了薄型碘系偏振片的单侧具有透明保护膜的单面保护偏振膜。以下，将其称为单面保护偏振膜(1)。单面保护偏振膜(1)的碘含量为5.1重量％。制造例2(涂布层形成用树脂组合物(A1)的制备)将聚合度2500、皂化度99.0摩尔％的PVA树脂溶解在纯水中，制备固体成分浓度4重量％的水溶液，然后相对于该水溶液中的上述聚乙烯醇树脂的固体成分100重量份，添加作为磷系化合物的2重量份的磷酸单丁酯(商品名：MP-4，大八化学工业(株)制)，得到涂布层形成用树脂组合物(A1)。制造例3(涂布层形成用树脂组合物(A2)的制备)将聚合度2500、皂化度99.0摩尔％的PVA树脂溶解在纯水中，制备固体成分浓度4重量％的水溶液，将其作为涂布层形成用树脂组合物(A2)。制造例4(涂布层形成用树脂组合物(A3)的制备)将N-羟基乙基丙烯酰胺(商品名：HEAA，(株)兴人制)12.5份、丙烯酰基吗啉(商品名：ACMO(注册商标)，(株)兴人制)25份、二羟甲基三环癸烷二丙烯酸酯(商品名：lightacrylateDCP-A，共荣社化学(株)制)62.5份、光自由基聚合引发剂(2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉代丙烷-1-酮，商品名：IRGACURE907，BASF公司制)2份、光敏化剂(二乙基噻吨酮，商品名：KAYACUREDETX-S，日本化药(株)制)2份混合，在50℃搅拌1小时，得到混合物。另外，相对于上述混合物的固体成分100重量份，添加作为磷系化合物的2重量份的磷酸单丁酯(商品名：MP-4，大八化学工业(株)制)，得到涂布层形成用树脂组合物(A3)。制造例5(涂布层形成用树脂组合物(A4)的制备)除不添加磷系化合物以外，按照与制造例4同样的方法，得到涂布层形成用树脂组合物(A4)。制造例6(涂布层形成用树脂组合物(A5)的制备)将聚合度2500、皂化度99.0摩尔％的PVA树脂溶解在纯水中，制备固体成分浓度4重量％的水溶液，然后相对于该水溶液中的上述聚乙烯醇树脂的固体成分100重量份，添加作为磷系化合物的5重量份的苯基膦酸(和光纯药工业(株)制试药)，得到涂布层形成用树脂组合物(A5)。制造例7(涂布层形成用树脂组合物(B1)的制备)将以固体成分计含有氨基甲酸酯系聚合物30～90重量％、和聚噻吩系聚合物(导电性材料)10～50重量％的溶液(商品名：DenatronP-580W，长濑化成(株)制)、和以固体成分计包含含有噁唑啉基的丙烯酸系聚合物10～70重量％的溶液(商品名：EpocrosWS-700，日本催化剂(株)制)添加到水100重量％的(混合)溶液中，以固体成分浓度(基础浓度)达到0.4重量％的方式进行制备，得到涂布层形成用树脂组合物(B1)。制造例8(涂布层形成用树脂组合物(B2)的制备)代替制造例7的DenatronP-580W而使用不包含聚噻吩系聚合物的氨基甲酸酯系聚合物溶液(商品名：DenatronB-510C，长濑化成(株)制)，除此以外按照与制造例7同样的方法得到涂布层形成用树脂组合物(B2)。制造例9(丙烯酸系粘合剂层(C1)的制作)在具备冷凝管、氮导入管、温度计及搅拌装置的反应容器中，与乙酸乙酯一起添加丙烯酸丁酯99份、丙烯酸4-羟基丁酯1份、及相对于所述单体合计(固体成分)100份为0.3份的2，2′-偶氮二异丁腈，在氮气气流下且于60℃下反应4小时后，在该反应液中添加乙酸乙酯而获得含有重均分子量165万的丙烯酸系聚合物(a1)的聚合物溶液(固体成分浓度30重量％)。相对于上述丙烯酸系聚合物溶液的固体成分100份，配合作为交联剂的0.3份的过氧化二苯甲酰(商品名：NYPERBMT，日本油脂(株)制)、0.1份的三羟甲基丙烷二甲基二异氰酸酯(商品名：TakenateD110N，三井武田化学(株)制)、0.2份的含有乙酰乙酰基的硅烷偶联剂(商品名：A-100，综研化学(株)制)、和作为磷系化合物的0.1份的磷酸单丁酯(商品名：MP-4，大八化学工业(株)制)，得到丙烯酸系粘合剂溶液。将上述丙烯酸系粘合剂溶液(C1)涂布于剥离处理后的由聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(厚度：38μm)形成的脱模片(隔片)的表面，使得干燥后的厚度为25μm，干燥形成粘合剂层(C1)。制造例10(丙烯酸系粘合剂层(C2)的制作)在粘合剂溶液的制备时不添加磷系化合物，除此以外与制造例9同样地形成丙烯酸系粘合剂层(C2)。制造例11(丙烯酸系粘合剂层(C3)的制作)在粘合剂溶液的制备时进一步添加作为导电性材料的1-甲基-1-乙基吡咯烷鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺(岸田化学(株)制)0.5份，除此以外与制造例9同样地形成丙烯酸系粘合剂层(C3)。制造例12(丙烯酸系粘合剂层(C4)的制作)在粘合剂溶液的制备时不添加磷系化合物，除此以外与制造例11同样地形成丙烯酸系粘合剂层(C4)。制造例13(丙烯酸系粘合剂层(C5)的制作)在具备冷凝管、氮导入管、温度计及搅拌装置的反应容器中，与乙酸乙酯一起添加丙烯酸丁酯95份、丙烯酸4-羟基丁酯1份、丙烯酸4份及相对于所述单体合计(固体成分)100份为1份的作为引发剂的2，2′-偶氮二异丁腈，在氮气气流下且于60℃下反应7小时。然后，在该反应液中添加乙酸乙酯而获得含有重均分子量155万的丙烯酸系聚合物(a2)的溶液(固体成分浓度30重量％)。在制造例9中代替含有丙烯酸系聚合物(a1)的溶液，而使用上述含有丙烯酸系聚合物(a2)的溶液，除此以外与制造例9同样地配合交联剂、硅烷偶联剂、磷系化合物得到丙烯酸系粘合剂溶液。另外，使用上述丙烯酸系粘合剂溶液与制造例9同样地形成粘合剂层(C5)。制造例14(丙烯酸系粘合剂层(C6)的制作)在粘合剂溶液的制备时不添加磷系化合物，除此以外与制造例13同样地形成丙烯酸系粘合剂层(C6)。制造例15(丙烯酸系粘合剂层(C7)的制作)在粘合剂溶液的制备时进一步添加作为导电性材料的1-甲基-1-乙基吡咯烷鎓双(三氟甲磺酰基)酰亚胺(岸田化学(株)制)0.5份，除此以外与制造例9同样地形成丙烯酸系粘合剂层(C7)。制造例16(丙烯酸系粘合剂层(C8)的制作)在粘合剂溶液的制备时不添加磷系化合物，除此以外与制造例15同样地形成丙烯酸系粘合剂层(C8)。实施例1使用线棒涂布机，在制造例1中得到的单面保护偏振膜(1)的偏振片的面(未设置透明保护膜的偏振片面)涂布调整为25℃的涂布层形成用树脂组合物(A1)，使得干燥后的厚度为1μm，然后在60℃热风干燥1分钟，形成涂布层1，制作带有1层涂布层的单面保护偏振膜。然后，使用线棒涂布机，在上述中得到的带有1层涂布层的单面保护偏振膜的涂布层1上进一步涂布调整为25℃的涂布层用组合物(B1)，使得干燥后的厚度为1μm，然后在60℃热风干燥1分钟，形成涂布层2，制作带有2层涂布层的偏振膜。然后，在上述中得到的带有2层涂布层的偏振膜的涂布层2上贴合形成在上述脱模片(隔片)的剥离处理面的粘合剂层(C2)，制作带有粘合剂层的偏振膜。实施例2～11、比较例1～12在实施例1中将涂布层形成用树脂组合物、粘合剂层如表1、2所示地进行变化，除此以外与实施例1同样地形成带有粘合剂层的偏振膜。下面对上述实施例和比较例中得到的带有粘合剂层的偏振膜进行评价。结果如表1、2所示。<电阻值变化率>将在表面形成有ITO层的导电性膜(商品名：Elecrysta(P400L)、日东电工(株)制造)切割成15mm×15mm，将实施例及比较例中得到的带有粘合剂层的偏振膜切割成8mm×8mm，剥离隔片膜后贴合于该导电性膜上的中央部后，在50℃、5atm下实施15分钟高压釜处理，将所获得的样品作为耐腐蚀性测定样品。使用下述测定装置测定所获得的测定用样品的电阻值，将其设为“初始电阻值”。然后，将测定用样品于温度60℃、湿度95％的环境下投入500小时后，测定电阻值，设为“湿热后的电阻值”。此外，上述电阻值使用AccentOpticalTechnologies公司制造的HL5500PC进行测定。从以上述方式测得的“初始电阻值”及“湿热后的电阻值”并根据下式而算出各自湿热状态时的电阻值变化率(％)。电阻值变化率小于150％的话，湿热所致的电阻值的上升幅度小，耐腐蚀性良好。<密合力>将实施例和比较例中得到的带有粘合剂层的偏振膜切割为25mm×150mm的大小，以使其粘合剂层面与在50μm厚的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜表面蒸镀有铟-氧化锡的蒸镀膜的蒸镀面相接触的方式进行贴合。然后，将上述聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的端部用手剥离，确认粘合剂层附着于聚对苯二甲酸乙二醇酯膜侧后，使用(株)岛津制作所制的拉伸试验机AG-1，测定(25℃)沿180°方向以300mm/分钟的速度进行剥离时的应力(N/25mm)。密合力为15N/25mm以上时，不存在返工时的胶糊残留、加工时的胶糊不足，良好。【表1】【表2】表中的简称分别如下所示。(A1)～(A4)：涂布层形成用树脂组合物(A1)～(A4)(B1)、(B2)：锚固层用组合物(B1)、(B2)(C1)～(C8)：粘合剂层(C1)～(C8)另外，记载为“有无”的项目中，“○”表示“含有”，“-”表示“不含有”。符号说明1带有涂布层的偏振膜2碘系偏振片3透明保护膜4涂布层5粘合剂层6带有粘合剂层的偏振膜