1.一种对象定位系统，包括：
可移动对象，相对于基准可移动；
致动器系统，被配置成在所述对象上的力施加位置处向所述对象施加力以便相对于所述基准移动所述可移动对象；
控制系统，被配置成相对于所述基准定位所述对象的兴趣点，
其中所述控制系统被配置成基于表示所述力施加位置与所述兴趣点之间的空间关系的参数来驱动所述致动器系统，
其中所述参数取决于表示所述对象相对于所述基准的位置的另外的参数。
2.根据权利要求1所述的对象定位系统，其中所述空间关系包括所述力施加位置与所述兴趣点之间的柔量。
3.根据权利要求1或2所述的对象定位系统，其中所述另外的参数基于设置点信号和测量信号中的一项。
4.根据前述权利要求中的一项所述的对象定位系统，包括：
测量系统，被配置成在所述对象上的测量位置处测量表示所述对象相对于所述基准的位置的测量信号并且提供所述测量信号，
其中所述控制系统包括：
设置点生成器，用于生成表示所述兴趣点的期望位置的设置点信号；
前馈系统，被配置成基于所述设置点信号生成前馈信号；以及
反馈系统，被配置成基于所述设置点信号和所述测量信号生成反馈信号，
其中所述控制系统被配置成基于所述前馈信号和所述反馈信号来驱动所述致动器系统。
5.根据权利要求4所述的对象定位系统，其中所述前馈信号取决于所述参数。
6.根据权利要求4或5所述的对象定位系统，其中所述控制系统还包括校正系统，所述校正系统被配置成基于所述前馈信号和空间关系参数向所述反馈系统提供校正信号，其中所述空间关系参数表示第一空间关系与第二空间关系之间的差异，其中所述第一空间关系在所述力施加位置与所述兴趣点之间，其中所述第二空间位置在所述力施加位置与所述测量位置之间。
7.根据权利要求6所述的对象定位系统，其中所述空间关系参数取决于所述参数。
8.根据权利要求6或7所述的对象定位系统，其中所述校正系统包括动态模型，所述动态模型用于基于所述设置点信号和所述前馈信号来估计所述对象的内部动态行为，其中所述校正信号基于所估计的内部动态行为。
9.根据权利要求6或7所述的对象定位系统，其中所述校正系统包括具有所述对象的动态模型的观测器，所述动态模型用于基于所述测量信号和从所述控制系统到所述对象的输入来估计所述对象的内部动态行为，其中所述动态模型取决于所述空间关系参数，其中所述观测器被布置成提供所述校正信号。
10.根据权利要求4到9所述的对象定位系统，其中所述前馈系统包括动态模型，所述动态模型用于基于所述设置点信号来估计所述对象的内部动态行为，其中所述前馈信号基于所估计的内部动态行为。
11.一种控制系统，被配置用于根据前述权利要求所述的对象定位系统。
12.一种光刻设备，包括根据权利要求1到10中的一项所述的对象定位系统。
13.根据权利要求12所述的光刻设备，还包括：
照射系统，被配置成调节辐射束；
支撑件，被构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射的横截面中给予所述辐射以图案，以形成图案化辐射束；
衬底台，被构造成保持衬底；以及
投影系统，被配置成将所述图案化辐射束投影到所述目标部分上，其中所述对象定位系统包括所述支撑件和所述衬底台中的一项。
14.一种用于定位对象的方法，包括以下步骤：
a)相对于基准定位所述对象的兴趣点；
b)在所述对象上的力施加位置处向所述对象施加力；
c)基于所述力施加位置与所述兴趣点之间的空间关系来施加所述力，其中所述空间关系取决于所述对象相对于所述基准的位置。
15.根据权利要求14所述的方法，包括在光刻设备中定位所述对象。
16.一种器件制造方法，其中利用根据权利要求1或10所述的对象定位系统。