技术特征：
技术总结
本发明涉及一种校正反射光学元件(1)的表面形状的方法，所述反射光学元件具有基板(2)和反射涂层(3)，其中，所述方法至少包括以下步骤：通过在布置于基板(2)和反射涂层(3)之间的至少一个可变形层(7)中产生永久局部形状变化(10)来校正所述表面形状(5)，所述至少一个可变形层具有磁性形状记忆合金，其中，通过对至少一个可变形层(7)施加电磁场，尤其是磁场(9)来产生永久局部形状变化(10)。本发明还涉及包括基板(2)、反射涂层(3)和至少一个可变形层(7)的反射光学元件(1)，至少一个可变形层布置在基板(2)和反射涂层(3)之间，并具有磁性形状记忆合金。
技术研发人员：F-J.斯蒂克尔
受保护的技术使用者：卡尔蔡司SMT有限责任公司
技术研发日：2015.10.07
技术公布日：2017.08.29