一种转印扩散膜的制备方法与流程

本发明涉及一种液晶显示器中背光源使用的扩散膜，尤其涉及一种转印扩散膜的制备方法。

背景技术：

扩散膜是是应用于液晶显示器的背光模组中最非常重要的光学膜之一，其主要的功能是将背光中光源发射出来的光进行分散匀化。为达到光线均匀分散的条件，其利用树脂、PET、有机粒子之间的折射率差，有机粒子的填充、漫反射功能，将光线分散，并具有一定的雾度以遮蔽灯影。

为了达到良好的光线散射跟遮蔽效果，一般会采用如下办法制备扩散膜：先将溶剂型树脂胶水跟有机粒子、固化剂、助剂按照一定比例配成涂液，将此涂液涂到PET表面，经过烘箱把溶剂挥发后，固化成型，在PET表面形成一层带有有机粒子的胶层，即为扩散膜。

使用这种方式制备扩散膜需要使用精密的涂布设备，还需要使用大量的有机溶剂，并对工艺控制有一定要求。从成本，环境，健康角度上考虑都有弊端。

技术实现要素：

为了解决现有扩散膜的制备工艺要求精密的涂布设备及使用大量有机溶剂的问题，本发明提供一种转印扩散膜的制备方法。该转印扩散膜的制备方法具有工艺简单、易实现，低成本，绿色环保的特点。本发明提供的转印扩散膜具有良好的遮蔽性，良好的透光率，在背光中有很好的辉度表现。

为了解决上述技术问题，本发明采用下述技术方案：

本发明提供一种转印扩散膜的制备方法，所述转印扩散膜由转印扩散层和基膜组成；所述转印扩散膜的制备方法包括下述步骤：

(1)制备转印模板：在基膜的表面涂布无溶剂型紫外固化树脂胶水，贴上扩散膜并经过UV照射后，剥离扩散膜，无溶剂型紫外固化树脂胶水形成凹面结构，得到转印模板；所述转印模板带有凹面结构；

(2)在另一基膜的表面涂布无溶剂型紫外固化树脂胶水，将步骤(1)得到的转印模板的凹面结构贴到无溶剂型紫外固化树脂胶水的表面，在所述胶水的表面形成凸起结构，经过UV照射后，剥离转印模板，得到转印扩散膜。所述步骤(2)中的无溶剂型紫外固化树脂胶水形成转印扩散层。

上述步骤(1)中使用的扩散膜具有扩散层，扩散层包括扩散粒子，扩散粒子在扩散膜的表面形成凸起结构。所述扩散膜表面上的凸起结构使步骤(1)中所述的无溶剂型紫外固化树脂胶水的表面形成凹面结构。

进一步的，所述的转印扩散膜的制备方法中，所述转印扩散膜由转印扩散层和基膜组成；所述基膜依次包括第一聚氨酯层、基材层、第二聚氨酯层、抗粘连层；所述转印扩散层置于第一聚氨酯层的上表面；所述抗粘连层置于所述第二聚氨酯层的下表面；所述转印扩散层具有凸起结构；所述第一聚氨酯层和第二聚氨酯层统称为聚氨酯层；

所述转印扩散膜的制备方法包括下述步骤：

(1)制备转印模板：在基材层的表面涂布无溶剂型紫外固化树脂胶水，贴上扩散膜并经过UV照射后，剥离扩散膜，无溶剂型紫外固化树脂胶水形成凹面结构，得到转印模板；

(2)在另一基材层的两个表面分别涂布第一聚氨酯层和第二聚氨酯层；在第一聚氨酯层的表面涂布无溶剂型紫外固化树脂胶水，将步骤(1)得到的转印模板的凹面结构贴到无溶剂型紫外固化树脂胶水的表面，在所述胶水的表面形成凸起结构，经过UV照射后，剥离转印模板，得到转印扩散膜。

进一步的，所述转印扩散膜的制备方法包括下述步骤：

(1)制备转印模板：在基材层的表面涂布聚氨酯层，在聚氨酯层的表面涂布无溶剂型紫外固化树脂胶水，贴上扩散膜并经过UV照射后，剥离扩散膜，无溶剂型紫外固化树脂胶水形成凹面结构，得到转印模板(也称为一次转印膜)；

(2)取由挤出机三层共挤制成的基材层，在基材层的两个表面分别涂布第一聚氨酯层和第二聚氨酯层；在第二聚氨酯层的表面涂上一层抗粘连层，干燥；在第一聚氨酯层的表面涂布无溶剂型紫外固化树脂胶水，贴上步骤(1)得到的转印模板，经过UV照射后，剥离转印模板，得到转印扩散膜。

进一步的，所述步骤(1)中的扩散膜为现有的扩散膜。

上述方法中，相当于把步骤(1)中的现有扩散膜表面的扩散结构转印到转印扩散膜的表面，形成转印扩散层。

所述第一聚氨酯层和第二聚氨酯层位于基材层的两侧表面。

所述聚氨酯层还可称为底涂层。所述基膜可以是按本发明所述方法生产的PET基膜，也可以是市场上购得的。

进一步的，所述转印扩散层的材料为无溶剂型紫外固化树脂胶水；所述聚氨酯层的材料包括聚氨酯类涂布液和助剂；所述基材层是PET基材层；所述抗粘连层的材料包括溶剂型紫外固化树脂胶水与扩散粒子。

进一步的，所述聚氨酯类涂布液为水性聚氨酯涂布液(简称聚氨酯涂布液)，所述助剂包括流平剂、消泡剂、和水。

所述转印扩散膜是利用普通扩散膜，经过两次转印，将普通扩散膜的表面结构转移到基材层上。第一次转印是将扩散膜的扩散层结构转印到带有聚氨酯层的PET基膜上，形成一层凹面结构，该带有凹面结构的PET膜为一次转印膜，一次转印膜是转印模板。再将转印模板上的凹面结构转印到另一带有聚氨酯层的PET基膜表面，在PET基膜的表面形成具有凸起结构的转印扩散层，得到转印扩散膜。所述转印扩散膜是采用软膜制备工艺方式，将普通 扩散膜的扩散结构经过两次转印复制到PET基膜表面，形成无粒子、表面有规则球形凸起结构的扩散膜。该扩散膜具有良好的散射遮蔽效果，辉度相比同类扩散膜产品要高，凸起的表面也不会对其他薄膜造成划伤。

进一步的，所述转印扩散层的厚度为10-15μm；所述聚氨酯层的厚度为80-100nm。

进一步的，所述PET基材层的厚度为150-200μm。

进一步的，所述抗粘连层的厚度为5-10μm。

进一步的，所述的无溶剂型紫外固化胶水是丙烯酸类树脂胶水，所述胶水的折射率为1.45-1.49。进一步的，所述无溶剂型紫外固化胶水的折射率为1.49。进一步的，所述无溶剂型紫外固化树脂胶水选自无溶剂型丙烯酸胶水。

进一步的，所述丙烯酸胶水为环氧丙烯酸树脂胶水。

进一步的，在制备过程中，所述聚氨酯层的材料先配制成聚氨酯层涂布液，所述聚氨酯层涂布液由水性聚氨酯涂布液(简称聚氨酯涂布液)、流平剂、消泡剂、和水组成。

进一步的，所述流平剂是聚二甲基硅氧烷类流平剂。所述消泡剂是SPA-202消泡剂。

所述聚氨酯涂布液在线涂布到PET层上。

在制备过程中，所述的PET层上涂有聚氨酯层，将无溶剂型紫外固化胶水胶水涂于聚氨酯层上，将扩散膜贴到涂有胶水的聚氨酯层上。经过UV照射固化后，剥离出带有胶水的PET膜，该PET膜是带有凹面结构的转印模板；再将带有凹面结构的转印模板贴到另一张表面涂有无溶剂型紫外固化胶水的带有聚氨酯层PET基膜表面，再次经过UV照射固化，剥离形成转印扩散膜。

进一步，所述转印扩散层厚度为10-15μm；所述聚氨酯层厚度为80-100nm；所述PET层厚度为188μm；所述抗粘连层厚度为5-10μm。

进一步的，在制备过程中，所述抗粘连层的材料先配制成抗粘涂布液，所述抗粘涂布液包括溶剂型紫外固化树脂胶水，溶剂和抗粘连粒子；所述溶 剂型紫外固化树脂胶水是聚酯树脂胶水(例如，溶剂型聚酯胶水)；所述溶剂为TOL或MEK；所述抗粘连粒子选自有机粒子或无机粒子，例如选自PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)粒子、PBMA(聚甲基丙烯酸丁酯)粒子、二氧化硅粒子、PS(聚苯乙烯)粒子或MS粒子中的一种或至少两种的组合。

进一步的，所述抗粘连层中的有机粒子的粒径是5-10μm。

进一步的，所述聚酯树脂胶水的折射率为1.51。

进一步的，所述的聚氨酯层涂布液包括下述组份：水性聚氨酯涂布液100份，流平剂0.02-0.04份，消泡剂0.03-0.08份，水200份，所述份数是重量份数。所述水是纯水。

进一步的，所述的聚氨酯层涂布液包括下述组份：水性聚氨酯涂布液100份，流平剂0.03份，消泡剂0.05份，水200份，

进一步的，所述转印扩散层的凸起结构的平均高度是5-7μm。

进一步的，所述扩散膜的扩散粒子形成的凸起的高度为5-15μm。

进一步的，所述凸起结构覆盖转印扩散层的表面。

进一步的，所述方法包括下述步骤：

(1)取由挤出机三层共挤制成的基材层，在线涂布双面聚氨酯层。

(2)制备转印模板：在聚氨酯层的表面涂布无溶剂型紫外固化树脂胶水，贴上扩散膜并经过UV照射后，剥离扩散膜，无溶剂型紫外固化树脂胶水形成凹面结构，得到转印模板(也称为一次转印膜)。

(3)再将另一张具有聚氨酯涂层的PET膜涂上一层抗粘连层，干燥；在PET膜另一面的聚氨酯层表面涂布无溶剂型紫外固化树脂胶水，贴上步骤(2)得到的转印模板(也称为一次转印膜)，经过UV照射后，剥离转印模板，得到转印扩散膜。

进一步的，在无溶剂型紫外固化树脂胶水的固化过程中，所用的UV固化能量为500-700mj/cm²。

本发明提供的制备方法中，在抗粘连层的制备过程中使用溶剂，在转印 过程中不使用溶剂。本发明的重点在于转印的方法。本发明提供的制备方法中，溶剂用量少、利于环保。现有普通扩散膜的制备需要各种原料搭配，需要精密的设备以保障工艺的稳定性，且良率不高，导致成本较高。本发明提供的制备方法对设备要求不高、提高了产品良率、从而降低了成本。

与现有技术相比，本发明所提供的转印扩散膜的制备方法具有工艺简单、易实现，低成本，绿色环保的优点。而且，本发明所提供的转印扩散膜具有较好的附着力，较好的透光率，较好的雾度、较大的扩散角、较好的抗刮性，较好的辉度增益，综合性能较好。

附图说明

图1为本发明提供的转印扩散膜制备方法中转印模板(也称为一次转印膜)的制备工艺流程图；

图2为本发明提供的转印扩散膜的制备工艺流程图；

图3为一次转印膜(转印模板)的结构示意图；

图4为本发明提供的转印扩散膜的结构示意图。

具体实施方式

为了更易理解本发明的结构及所能达成的功能特征和优点，下文将本发明的较佳的实施例，并配合图式做详细说明如下：

如图4所示，本发明提供一种转印扩散膜，所述转印扩散膜由转印扩散层1和基膜组成；所述基膜依次包括第一聚氨酯层21、基材层4、第二聚氨酯层22、抗粘连层3；所述转印扩散层1置于第一聚氨酯层21的上表面；所述抗粘连层3置于所述第二聚氨酯层22的下表面；转印扩散层1具有凸起结构；所述第一聚氨酯层21和第二聚氨酯层22统称为聚氨酯层2。

所述的聚氨酯层2的原料包括聚氨酯涂布液和助剂。

所述的抗粘连层(也称为粒子层)3的材料包括有机粒子、聚酯胶水。

如图1、图2和图3所示，本发明还提供上述的转印扩散膜的制备方法，所述方法包括下述步骤：

(1)制备转印模板：在基材层4的表面涂布聚氨酯层2，在聚氨酯层2的表面涂布无溶剂型紫外固化树脂胶水，贴上扩散膜并经过UV照射后，剥离扩散膜，无溶剂型紫外固化树脂胶水形成凹面结构5，得到转印模板(也称为一次转印膜)；

(2)取由挤出机三层共挤制成的基材层，在基材层的两个表面分别涂布第一聚氨酯层和第二聚氨酯层；在第二聚氨酯层的表面涂上一层抗粘连层，干燥；在第一聚氨酯层的表面涂布无溶剂型紫外固化树脂胶水，贴上步骤(2)得到的一次转印膜，经过UV照射后，剥离转印模板，得到转印扩散膜。

实施例中，所述转印扩散层的厚度为10-15μm；所述聚氨酯层的厚度为80-100nm；所述抗粘连层的厚度为5-10μm，所述抗粘连层中的有机粒子的粒径是5-10μm。实施例中，转印扩散层的凸起高度指凸起的平均高度。

实施例1

本发明提供一种转印扩散膜。制备方法如下：

(1)制备转印模板：取聚氨酯涂布液100份，聚二甲基硅氧烷类流平剂0.03份，SPA-202消泡剂0.05份，纯水200份，用搅拌器混合均匀后涂到PET基膜上，置于烘箱中130℃加热干燥5min，形成聚氨酯层；再取溶剂型聚酯胶水、固化剂、溶剂MEK、PMMA有机粒子，按照一定比例在搅拌器下混合均匀，涂到已有聚氨酯层的PET基膜下表面，置于烘箱中120℃干燥1min，形成抗粘连层。在无抗粘连层的聚氨酯层上表面施上折射率为1.45的无溶剂型丙烯酸胶水，贴上扩散层的粒子凸起的平均高度为7μm的扩散膜并经过500mj/cm²UV照射后，剥离扩散膜，得到一次转印膜(也称为转印模板)。

(2)制备转印扩散膜：取聚氨酯涂布液100份，聚二甲基硅氧烷类流平剂0.03份，SPA-202消泡剂0.05份，纯水200份，用搅拌器混合均匀后涂到 厚度为188μm的PET基材层的两个表面上，置于烘箱中130℃加热干燥5min，形成第一聚氨酯层和第二聚氨酯层；再取溶剂型聚酯胶水、固化剂、溶剂MEK、PMMA有机粒子，按照一定比例在搅拌器下混合均匀，涂到第二聚氨酯层的下表面，置于烘箱中120℃干燥1min，形成抗粘连层(也称为粒子层)。在第一聚氨酯层的上表面涂布折射率为1.45的无溶剂型丙烯酸胶水，贴上一次转印膜，经过UV照射后，剥离一次转印膜，得到转印扩散膜。

实施例2

如实施例1提供的转印扩散膜，其中，转印扩散层采用折射率为1.47的无溶剂型丙烯酸胶水，经过UV照射后，剥离转印模板，得到转印扩散膜。

实施例3

如实施例1提供的转印扩散膜，其中，转印扩散层采用折射率为1.49的无溶剂型丙烯酸胶水，采用500mj/cm²UV照射后，剥离一次转印膜，得到转印扩散膜。

实施例4

如实施例1提供的转印扩散膜，其中，转印扩散层采用折射率为1.47的无溶剂型丙烯酸胶水，采用700mj/cm²UV照射后，剥离一次转印膜，得到转印扩散膜。

实施例5

如实施例1提供的转印扩散膜，其中，转印扩散层采用折射率为1.47的无溶剂型丙烯酸胶水，剥离一次转印膜，得到转印扩散膜。转印扩散膜的转印扩散层的凸起高度为5μm。

实施例6

如实施例1提供的转印扩散膜，其中，采用700mj/cm²UV照射后，剥离一次转印膜，得到转印扩散膜。

实施例7

如实施例1提供的转印扩散膜，其中，转印扩散膜的转印扩散层的凸起 高度为5μm。

实施例8

如实施例1提供的转印扩散膜，其中，转印扩散层采用折射率为1.49的无溶剂型丙烯酸胶水，固化后剥离一次转印膜，得到转印扩散膜。转印扩散膜的转印扩散层的凸起的平均高度为5μm。

实施例9

如实施例1提供的转印扩散膜，其中，转印扩散层采用折射率为1.49的无溶剂型丙烯酸胶水，采用700mj/cm²UV照射后，剥离一次转印膜，得到转印扩散膜。转印扩散膜的转印扩散层的凸起的平均高度为5μm。

实施例10

如实施例1提供的转印扩散膜，其中，转印扩散层采用700mj/cm²UV照射后，剥离一次转印膜，得到转印扩散膜。转印扩散膜的转印扩散层的凸起高度为5μm。

实施例11

(1)制备转印模板：取聚氨酯涂布液100份，聚二甲基硅氧烷类流平剂0.03份，SPA-202消泡剂0.05份，纯水200份，用搅拌器混合均匀后涂到PET基膜上，置于烘箱中130℃加热干燥5min；再取溶剂型聚酯胶水、固化剂、溶剂MEK、PMMA有机粒子，按照一定比例在搅拌器下混合均匀，涂到已有聚氨酯层的PET基膜下表面，置于烘箱中120℃干燥1min。在无抗粘连层的聚氨酯层上表面施上折射率为1.45的无溶剂型丙烯酸胶水，贴上扩散层的粒子凸起的平均高度为7μm的扩散膜并经过500mj/cm²UV照射后，剥离扩散膜，得到一次转印膜(即转印模板)。

(2)制备转印扩散膜：取聚氨酯涂布液100份，聚二甲基硅氧烷类流平剂0.03份，SPA-202消泡剂0.05份，纯水200份，用搅拌器混合均匀后涂到厚度为150μm的PET基材层的两个表面上，置于烘箱中130℃加热干燥5min，形成第一聚氨酯层和第二聚氨酯层；再取溶剂型聚酯胶水、固化剂、溶剂MEK、 PMMA有机粒子，按照一定比例在搅拌器下混合均匀，涂到第二聚氨酯层的下表面，置于烘箱中120℃干燥1min，形成抗粘连层(也称为粒子层)。在第一聚氨酯层的上表面涂布折射率为1.45的无溶剂型丙烯酸胶水，贴上一次转印膜，经过UV照射后，剥离一次转印膜，得到转印扩散膜。

实施例12

(1)制备转印模板：取聚氨酯涂布液100份，聚二甲基硅氧烷类流平剂0.03份，SPA-202消泡剂0.05份，纯水200份，用搅拌器混合均匀后涂到PET基膜上，置于烘箱中130℃加热干燥5min；再取溶剂型聚酯胶水、固化剂、溶剂MEK、PMMA有机粒子，按照一定比例在搅拌器下混合均匀，涂到已有聚氨酯层的PET基膜下表面，置于烘箱中120℃干燥1min。在无抗粘连层的聚氨酯层上表面施上折射率为1.45的无溶剂型丙烯酸胶水，贴上扩散层的粒子凸起的平均高度为7μm的扩散膜并经过500mj/cm²UV照射后，剥离扩散膜，得到一次转印膜。

(2)制备转印扩散膜：取聚氨酯涂布液100份，聚二甲基硅氧烷类流平剂0.03份，SPA-202消泡剂0.05份，纯水200份，用搅拌器混合均匀后涂到厚度为200μm的PET基材层的两个表面上，置于烘箱中130℃加热干燥5min，形成第一聚氨酯层和第二聚氨酯层；再取溶剂型聚酯胶水、固化剂、溶剂MEK、PMMA有机粒子，按照一定比例在搅拌器下混合均匀，涂到第二聚氨酯层的下表面，置于烘箱中120℃干燥1min，形成抗粘连层。在第一聚氨酯层的上表面涂布折射率为1.45的无溶剂型丙烯酸胶水，贴上一次转印膜，经过UV照射后，剥离一次转印膜，得到转印扩散膜。

实施例13

(1)制备转印模板：取聚氨酯涂布液100份，聚二甲基硅氧烷类流平剂0.02份，SPA-202消泡剂0.03份，纯水200份，用搅拌器混合均匀后涂到PET基膜上，置于烘箱中130℃加热干燥5min；再取溶剂型聚酯胶水、固化剂、溶剂MEK、PMMA有机粒子，按照一定比例在搅拌器下混合均匀，涂到已有 聚氨酯层的PET基膜下表面，置于烘箱中120℃干燥1min。在无抗粘连层的聚氨酯层上表面施上折射率为1.49的无溶剂型丙烯酸胶水，贴上扩散层的粒子凸起的平均高度为7μm的扩散膜并经过500mj/cm²UV照射后，剥离扩散膜，得到一次转印膜。

(2)制备转印扩散膜：取聚氨酯涂布液100份，聚二甲基硅氧烷类流平剂0.02份，SPA-202消泡剂0.03份，纯水200份，用搅拌器混合均匀后涂到厚度为188μm的PET基材层的两个表面上，置于烘箱中130℃加热干燥5min，形成第一聚氨酯层和第二聚氨酯层；再取溶剂型聚酯胶水、固化剂、溶剂MEK、PMMA有机粒子，按照一定比例在搅拌器下混合均匀，涂到第二聚氨酯层的下表面，置于烘箱中120℃干燥1min，形成抗粘连层。在第一聚氨酯层的上表面涂布折射率为1.49的无溶剂型丙烯酸胶水，贴上一次转印膜，经过UV照射后，剥离一次转印膜，得到转印扩散膜。

实施例14

(1)制备转印模板：取聚氨酯涂布液100份，聚二甲基硅氧烷类流平剂0.04份，SPA-202消泡剂0.08份，纯水200份，用搅拌器混合均匀后涂到PET基膜上，置于烘箱中130℃加热干燥5min，形成聚氨酯层；再取溶剂型聚酯胶水、固化剂、溶剂MEK、PMMA有机粒子，按照一定比例在搅拌器下混合均匀，涂到已有聚氨酯层的PET基膜下表面，置于烘箱中120℃干燥1min，形成抗粘连层。在无抗粘连层的聚氨酯层上表面施上折射率为1.49的无溶剂型丙烯酸胶水，贴上扩散层的粒子凸起的平均高度为7μm的扩散膜并经过500mj/cm²UV照射后，剥离扩散膜，得到一次转印膜。

(2)制备转印扩散膜：取聚氨酯涂布液100份，聚二甲基硅氧烷类流平剂0.04份，SPA-202消泡剂0.08份，纯水200份，用搅拌器混合均匀后涂到厚度为188μm的PET基材层的两个表面上，置于烘箱中130℃加热干燥5min，形成第一聚氨酯层和第二聚氨酯层；再取溶剂型聚酯胶水、固化剂、溶剂MEK、PMMA有机粒子，按照一定比例在搅拌器下混合均匀，涂到第二聚氨酯层的 下表面，置于烘箱中120℃干燥1min，形成抗粘连层。在第一聚氨酯层的上表面涂布折射率为1.49的无溶剂型丙烯酸胶水，贴上一次转印膜，经过UV照射后，剥离一次转印膜，得到转印扩散膜。

对比例1

如实施例1提供的转印扩散膜，其中，转印扩散层采用折射率为1.43的无溶剂型丙烯酸胶水。

对比例2

如实施例1提供的转印扩散膜，其中，转印扩散层采用折射率为1.51的无溶剂型丙烯酸胶水。

对比例3

如实施例1提供的转印扩散膜，其中，转印扩散层采用折射率为1.47的无溶剂型丙烯酸胶水，采用1000mj/cm²UV照射后，剥离一次转印膜，得到转印扩散膜。

对比例4

如实施例1提供的转印扩散膜，其中，转印扩散层采用折射率为1.47的无溶剂型丙烯酸胶水，采用300mj/cm²UV照射后，剥离一次转印膜，得到转印扩散膜。

对比例5

如实施例1提供的转印扩散膜，其中，转印扩散层采用折射率为1.43的无溶剂型丙烯酸胶水，采用700mj/cm²UV照射后，剥离一次转印膜，得到转印扩散膜。

对比例6

如实施例1提供的转印扩散膜，其中，转印扩散层采用折射率为1.51的无溶剂型丙烯酸胶水，采用700mj/cm²UV照射后，剥离一次转印膜，得到转印扩散膜。

对比例7

如实施例1提供的转印扩散膜，其中，转印扩散层采用折射率为1.49的无溶剂型丙烯酸胶水，采用300mj/cm²UV照射后，剥离一次转印膜，得到转印扩散膜。

对比例8

如实施例1提供的转印扩散膜，其中，转印扩散层采用折射率为1.49的无溶剂型丙烯酸胶水，采用1000mj/cm²UV照射后，剥离一次转印膜，得到转印扩散膜。

对比例9

如实施例1提供的转印扩散膜，其中，转印扩散层采用折射率为1.47的无溶剂型丙烯酸胶水，紫外光固外后，剥离一次转印膜，得到转印扩散膜。转印扩散膜的转印扩散层的凸起高度为3μm。

对比例10

如实施例1提供的转印扩散膜，其中，转印扩散层采用折射率为1.47的无溶剂型丙烯酸胶水，紫外固化后，剥离一次转印膜，得到转印扩散膜。转印扩散膜的转印扩散层的凸起高度为10μm。

对比例11

如实施例1提供的转印扩散膜，其中，转印扩散层采用折射率为1.49的无溶剂型丙烯酸胶水，紫外固化后，剥离一次转印膜，得到转印扩散膜。转印扩散膜的转印扩散层的凸起高度为3μm。

对比例12

如实施例1提供的转印扩散膜，其中，转印扩散层采用折射率为1.49的无溶剂型丙烯酸胶水，紫外光照射后，剥离一次转印膜，得到转印扩散膜。转印扩散膜的转印扩散层的凸起高度为10μm。

对比例13

取聚氨酯涂布液100份，聚二甲基硅氧烷类流平剂0.02份，SPA-202消 泡剂0.08份，纯水200份，用搅拌器混合均匀后涂到PET基膜上，置于烘箱中130℃加热干燥5min；再取溶剂型聚酯胶水、固化剂、溶剂MEK、PMMA有机粒子，按照一定比例在搅拌器下混合均匀，涂到已有聚氨酯层的PET基膜下表面，置于烘箱中120℃干燥1min，形成抗粘连层。在无抗粘连层的聚氨酯层上表面施上折射率为1.49的无溶剂型丙烯酸胶水，贴上扩散层的粒子凸起高度为7μm的扩散膜并经过500mj/cm²UV照射后，剥离扩散膜，得到一次转印膜。

取聚氨酯涂布液100份，聚二甲基硅氧烷类流平剂0.02份，SPA-202消泡剂0.08份，纯水200份，用搅拌器混合均匀后涂到厚度为188μm的PET基材层的两个表面上，置于烘箱中130℃加热干燥5min，形成第一聚氨酯层和第二聚氨酯层；再取溶剂型聚酯胶水、固化剂、溶剂MEK、PMMA有机粒子，按照一定比例在搅拌器下混合均匀，涂到第二聚氨酯层的下表面，置于烘箱中120℃干燥1min，形成抗粘连层。在第一聚氨酯层的上表面涂布折射率为1.49的无溶剂型丙烯酸胶水，贴上一次转印膜，经过UV照射后，剥离一次转印膜，得到转印扩散膜。所述转印扩散层的厚度为5-9μm。

对比例14

取聚氨酯涂布液100份，聚二甲基硅氧烷类流平剂0.04份，SPA-202消泡剂0.03份，纯水200份，用搅拌器混合均匀后涂到PET基膜上，置于烘箱中130℃加热干燥5min，形成聚氨酯层；再取溶剂型聚酯胶水、固化剂、溶剂MEK、PMMA有机粒子，按照一定比例在搅拌器下混合均匀，涂到已有聚氨酯层的PET基膜下表面，置于烘箱中120℃干燥1min，形成抗粘连层。在无抗粘连层的聚氨酯层上表面施上折射率为1.49的无溶剂型丙烯酸胶水，贴上扩散层的粒子凸起高度为7μm的普通扩散膜并经过500mj/cm²UV照射后，剥离扩散膜，得到一次转印膜。

取聚氨酯涂布液100份，聚二甲基硅氧烷类流平剂0.04份，SPA-202消 泡剂0.03份，纯水200份，用搅拌器混合均匀后涂到厚度为188μm的PET基材层的两个表面上，置于烘箱中130℃加热干燥5min，形成第一聚氨酯层和第二聚氨酯层；再取溶剂型聚酯胶水、固化剂、溶剂MEK、PMMA有机粒子，按照一定比例在搅拌器下混合均匀，涂到第二聚氨酯层的下表面，置于烘箱中120℃干燥1min，形成抗粘连层。在第一聚氨酯层的上表面涂布折射率为1.49的无溶剂型丙烯酸胶水，贴上一次转印膜，经过UV照射后，剥离一次转印膜，得到转印扩散膜。所述转印扩散层的厚度为20-25μm。

采取以下方法对实施例1-14和对比例1-14所得产品进行检测和评价：

1、测试薄膜透光率与雾度，使用C84-Ⅲ反射率测定仪，测试条件按照国家标准GB/T13452.3-92执行。

2、测试转印扩散膜的扩散角来评价薄膜散光效果，扩散角测试按照如下方式进行：使用一束红色激光穿过转印扩散膜，并用一个白色屏幕接收穿过的激光，在接收屏上会出现圆形光斑。固定激光与膜的距离为0.1m、膜与接收屏距离L为1m，光斑的半径为R，测量R的数值，扩散角为θ＝2arctan(R/L)。扩散角的角度越大，转印扩散膜的扩散效果越好。

3、测试转印扩散层的附着力，采用ISO-2409-1992标准设计制造的百格测试仪，测试条件按照GB/T 9286-1998标准执行。参照GB/T9286-1998《色漆和清漆，漆膜的划格试验》，达到4B即确定为"通过"，达到5B，则附着力较好。

4、测试转印扩散层的抗刮能力，采用T107型刮擦测定仪，按照GB/T 31591-2015标准执行。

5、测试扩散膜辉度，采用BM-7A辉度计，测试条件按照JJG 2033-1989标准执行。辉度测试以宁波激智科技的扩散膜B188VM2为对比样，计算相对于B188VM2的辉度增益比。设定B188VM2辉度增益比为1。

表1实施例1-14和对比例1-14中转印扩散膜制备的条件

表2实施例1-14与对比例1-14提供的转印扩散膜的性能测试结果

由表2中的数据可以得出，本发明所提供的转印扩散膜具有较好的附着力(5B)，较好的透光率(高于91％)，较好的雾度(高于89％)、较大的扩散角(大于或等于14.69度)、较好的抗刮性(大于或等于1000g)，较好的辉度增益(大于或等于1.01)，综合性能较好。其中，实施例3提供的转印扩散膜的综合性能更好。

以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，并非用于限定本发明的保护范围。凡是根据本发明内容所做的均等变化与修饰，均涵盖在本发明的专利范围内。