彩色滤光基板的制作方法与流程

本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种彩色滤光基板的制作方法。

背景技术：

液晶显示装置因其轻便性及优良的显示性能，不仅在信息通信设备领域，而且在一般的电器设备领域实现了快速的普及。

液晶显示装置一般包含：阵列基板，阵列基板上通常具有复数个矩阵状排布的像素电极；彩色滤光基板，彩色滤光基板通常包括复数个彩色光阻；密封于阵列基板和彩色滤光基板之间的液晶。

随着液晶显示装置分辨率的提高，彩色滤光基板上各结构的线宽(通常此线宽等于工艺的关键尺寸，criticaldimension，cd)越来越小，在生产过程中，要检索各结构的线宽大小是否达到要求，以及相应结构位置是否发生偏移，变得越来越困难，给彩色滤光基板的制作工艺带来很大挑战。

技术实现要素：

本发明解决的问题是提供一种彩色滤光基板的制作方法，以更好地控制彩色滤光基板中各结构的线宽。

为解决上述问题，本发明提供一种彩色滤光基板的制作方法，包括：提供当前基板，所述当前基板包括多个片格区，曝光设备一次曝光所覆盖到的所述片格区为一个第一区域；在一个所述第一区域内，至少一个所述片格区为非屏幕区，其它所述片格区为屏幕区；在一个所述第一区域内，在所述屏幕区形成功能结构时，同时在所述非屏幕区形成测试结构；利用所述测试结构，得到所述功能结构的实际线宽与预设线宽的大小关系。

可选的，在一个所述第一区域内，在所述屏幕区形成功能结构时，同时在所述非屏幕区形成测试结构，包括：在光罩上形成功能开口图案和测试开口图案；在所述屏幕区形成功能结构材料层时，同时在所述非屏幕区形成测试结构材料层；在利用所述功能开口图案对所述功能结构材料层进行图案化，以形成所述功能结构时，同时利用所述测试开口图案对所述测试结构材料层进行图案化，以形成所述测试结构。

可选的，利用所述测试结构，得到所述功能结构的实际线宽与预设线宽的大小关系，包括：利用放大设备放大所述测试结构；通过人眼直接观察放大后的所述测试结构；根据所述测试结构与所述测试开口图案的俯视形状变化，得到所述功能结构的实际线宽与预设线宽的大小关系。

可选的，所述测试开口图案包括基准开口组合，所述基准开口组合包括：沿第一直线的第一方向交替出现的第一开口和第二开口，所述第一开口至少有两个；相邻的所述第一开口和所述第二开口之间有且仅有一个重合点，所述重合点落在所述第一直线上；由所述基准开口组合对所述测试结构材料层进行图案化，得到的所述测试结构包括对应于所述基准开口组合的基准块状组合，所述基准块状组合包括对应于所述第一开口的第一区块，以及对应于所述第二开口的第二区块；根据所述测试结构与所述测试开口图案的俯视形状变化，得到所述功能结构的实际线宽与预设线宽的大小关系，包括：当所述第一区块和所述第二区块大于一个重合点时，判断所述功能结构的实际线宽大于预设线宽；当所述第一区块和所述第二区块有且仅有一个重合点时，判断所述功能结构的实际线宽等于预设线宽；当所述第一区块和所述第二区块没有重合点时，判断所述功能结构的实际线宽小于预设线宽。

可选的，所述第一开口沿所述第一直线上的跨度等于所述功能结构的预设线宽；所述第二开口沿所述第一直线上的跨度等于所述功能结构的预设线宽。

与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下优点：

本发明的技术方案中，在当前基板的第一区域所具有的屏幕区制作功能结构时，同时在第一区域所具有的非屏幕区形成测试结构，从而可以利用所述测试结构的线宽变化情况，得到所述功能结构的实际线宽与预设线宽的大小关系。所述方法巧妙地将对功能结构的线宽测试，转移到对测试结构的线宽测试，提高了测试效率，缩短了观察和测量和时间，并且降低现场操作人员的工作难度。

进一步，所述制作方法通过对测试开口图案的巧妙设计，能够形成易于直接观察的测试结构，从而方便人眼直接观察得到相应功能结构的线宽是否符合预设值，再次降低了测试难度，提高测试效率。

附图说明

图1是线宽较大时，部分彩色子像素色阻层与黑色矩阵层的俯视图；

图2是线宽较小时，部分彩色子像素色阻层与黑色矩阵层的俯视图；

图3是本发明实施例所提供的当前基板俯视图；

图4是在当前基板上形成黑色矩阵层的结构示意图；

图5是在图4所示结构上继续形成彩色子像素色阻层和透明导电层的结构示意图；

图6是本发明实施例所提供的一种测试开口图案示意图；

图7是本发明实施例所提供的另一种测试开口图案示意图；

图8至图10是采用图6所示测试开口图案形成的对应三种测试结构示意图；

图11是本发明另一实施例所提供的另一种测试开口图案示意图；

图12至图16是采用图11所示测试开口图案形成的对应五种测试结构示意图。

具体实施方式

彩色滤光基板上的功能结构通常包括黑色矩阵层、彩色子像素色阻层、平坦层、和间隔柱等。其中，彩色子像素色阻层通常包括红绿蓝(rgb)三原色的彩色子像素色阻层，即彩色子像素色阻层包括红色子像素色阻层、绿色子像素色阻层和蓝色子像素色阻层。有时彩色子像素色阻层还可以包括白色子像素色阻层。红色子像素色阻层、绿色子像素色阻层和蓝色子像素色阻层(有时还包括白色子像素色阻层)通常是位于同一层。

红色子像素色阻层包括多个红色子像素色阻块，绿色子像素色阻层包括多个绿色子像素色阻块，蓝色子像素色阻层包括多个蓝色子像素色阻块。当包括白色子像素色阻层时，白色子像素色阻层包括多个白色子像素色阻块。各颜色的子像素色阻块可以统一称为彩色子像素色阻块。这些彩色子像素色阻块具体分散分布在黑色矩阵层(简称bm)限定出的开口中，通常这些开口类似于一个个网孔贯穿黑色矩阵层。后续在黑色矩阵层和红绿蓝子像素色阻层上，还可以设置平坦层、导电层和间隔柱等结构。

在各功能结构制作过程中，工序的其中一对关键规格是各功能结构的线宽和对准。线宽自身非常重要，直接影响功能结构的制作良率，同时它还会影响对准后重叠(overlay)部分的大小。对准通常指相应结构的位置是否发生偏移，此时影响重叠部分是否对称。

随着显示屏分辨率的提高，各功能结构的线宽和对准越来越难以精确控制。

如图1所示，以彩色子像素色阻层为例，彩色子像素色阻层重叠在黑色矩阵层110的线宽在10μm以上时，相应的重叠部分只是彩色子像素色阻层与开口区以外与黑色矩阵层重叠。也就是说，当黑色矩阵层110的线宽在10μm以上时，为保证不漏光，一般彩色子像素色阻层和黑色矩阵层110的重叠可控制在5μm-8μm。如果要求彩色子像素色阻层对准，只需要要求这些重叠的部分对称，例如图1中是整列都为相同的条形色阻块连接在一起时，只要要求各色阻块在左右方向上对称。因为，此时红色子像素色阻块111、绿色子像素色阻块112和蓝色子像素色阻块113都还是相互分离的，因此，通常还能够直接观察出其线宽和对准是否满足要求。

然而，随着显示屏分辨率的提高，彩膜基板黑色矩阵层的线宽越来越小(例如由原来的10μm缩小至5μm-6μm，甚至达到3μm以下)，如果把彩色子像素的与黑色矩阵层的重叠量相应的减少至2μm-3μm时，漏光的几率会很大。因此，不得已的，相邻彩色子像素之间会相互重叠。也就是说，彩色子像素色阻层的重叠已经由原来的仅和黑色矩阵层重叠，变成相邻彩色子像素色阻块的重叠。如图2所示，红色子像素色阻块211、绿色子像素色阻块222和蓝色子像素色阻块223除了与黑色矩阵层210重叠，它们之间也已经有部分相互重叠。此时，即便用自动可视检查设备等放大设备来观察，由于放大倍率有限，难以判断各色阻块的线宽是否满足要求，也很难判断各色阻块的偏移方向与偏移幅度。更何况，在采用自动可视检查设备检视时，需要考虑生产节拍(简称tacttime)的限制，检视时间通常有限，造成现场操作人员的工作难度较高。

为此，本发明提供一种能够利用现有设备和工艺流程的制作方法，所述制作方法能够在制作过程中通过人眼直接观察和判断，就能快速分辨相应的功能结构线宽及对准是否满足要求，以及后续需要进行调整的方向和调整幅度，既节省了生产时间，同时也降低现场操作人员的工作难度。也就是说，所述彩色滤光基板的制作方法能够更加简便和快捷地得到功能结构的实际线宽与预设线宽的大小关系，从而更加有效地对功能结构的实际线宽进行控制。

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。

本发明实施例提供一种彩色滤光基板的制作方法，包括步骤一至步骤三如下。

步骤一，提供当前基板，当前基板包括多个片格区，曝光设备一次曝光所覆盖到的片格区为一个第一区域。在一个第一区域内，至少一个片格区为非屏幕区，其它片格区为屏幕区。步骤二，在一个第一区域内，在屏幕区形成功能结构时，同时在非屏幕区形成测试结构。步骤三，利用测试结构，得到功能结构的实际线宽与预设线宽的大小关系。

本实施例中，参考图3，提供当前基板30，当前基板30具有十六个片格区(未标注)，十六个片格区分四行四列排布。其它实施例中，相应的当前基板可以具有其它个数的片格区。

本实施例中，曝光设备(未示出)一次曝光所覆盖到的片格区为同一行的四个片格区，因此，同一行的四个片格区为一个第一区域300。其它实施例中，根据曝光设备一次曝光所覆盖到的片格区个数可以不同(通常为两个以上)，第一区域包含的片格区相应不同。

本实施例中，第一区域300中，有一个片格区为非屏幕区310，其它片格区为屏幕区320。其它实施例中，非屏幕区和屏幕区的个数可以变化，只需要保证其中一个第一区域内有至少一个非屏幕区即可。

在步骤二(也就是：在一个第一区域内，在屏幕区形成功能结构时，同时在非屏幕区形成测试结构)中，可以包括以下步骤21至步骤23。

步骤21，在光罩上形成功能开口图案和测试开口图案。

在光罩上形成功能开口图案是为了后续形成功能结构。本实施例同时还在光罩上形成测试开口图案，以用于后续形成测试结构。

步骤22，在屏幕区形成功能结构材料层时，同时在非屏幕区形成测试结构材料层。

在屏幕区形成功能结构材料层是制作功能结构的过程，本实施例还在非屏幕区形成测试结构材料层，功能结构材料层和测试结构材料层通常为同一工艺形成的相同材料层，只是形成位置不同。

步骤23，在利用功能开口图案对功能结构材料层进行图案化，以形成功能结构时，同时利用测试开口图案对测试结构材料层进行图案化，以形成测试结构。

图案化的过程中，通常包括曝光和显影等工艺过程，而对功能结构材料层和对测试结构材料层进行曝光和显影等工艺时，都是同时进行的(即两个材料层的曝光和显影等步骤均为同一步骤)，以使得所形成的测试结构与功能结构之间具有良好的参照作用，也就是使得测试结构能够更多体现出功能结构的特性。

本实施例中，在光罩(未示出)上形成功能开口图案(未示出)和测试开口图案(请参考图6和图7)时，即将现有技术中仅有功能开口图案的光罩上增加设置测试开口图案。而继续根据步骤22和步骤23可知，测试开口图案是对应用于非屏幕区形成测试结构的。

本实施例中，功能结构为红色子像素色阻层。因此，形成功能结构的过程即形成红色子像素色阻层的过程。

请结合参考图4和图5，图4和图5显示了在屏幕区320上形成黑色矩阵层321、彩色子像素色阻层(未标注)和透明导电层323的过程。本实施例形成测试结构的过程涉及的是形成彩色子像素色阻层中红色子像素色阻层3221的过程。由图4和图5可知，在形成红色子像素色阻层3221之前，通常需要先形成黑色矩阵层321。黑色矩阵层321限定出各个开口3210。后续在开口3210中形成按规律排列的红色子像素色阻层3221、绿色子像素色阻层3222和蓝色子像素色阻层3223，三种子像素色阻层的形成顺序不限。三种子像素色阻层均属于彩色子像素色阻层。图5还进一步显示了在形成彩色子像素色阻层之后，形成透明导电层323覆盖彩色子像素色阻层和黑色矩阵层321。

需要说明的是，其它实施例中，功能结构也可以为黑色矩阵层、绿色子像素色阻层、蓝色子像素色阻层或者间隔柱层。

需要说明的是，其它实施例中，还可以在开口中形成白色子像素色阻层，此时，功能结构也可以为白色子像素色阻层。

本实施例中，由于功能结构为红色子像素色阻层3221，因此上述步骤22，对应的就是：在屏幕区形成红色子像素色阻材料层时，同时在非屏幕区形成测试结构材料层，即两个材料层只需要采用同一个工艺形成。测试结构材料层事实上也是红色子像素色阻材料层，只不过测试结构材料层位于非屏幕区320。

上述步骤23，对应的就是：在利用功能开口图案对红色子像素色阻材料层进行图案化，以形成红色子像素色阻层3221时，同时利用测试开口图案对测试结构材料层进行图案化，以形成测试结构。

本实施例中，显示了两种步骤21提到的测试开口图案，分别为图6和图7所示。

本实施例中的测试开口图案包括基准开口组合，图6和图7所示的测试开口图案都仅包括一个基准开口组合。

基准开口组合包括：沿第一直线的第一方向交替出现的第一开口和第二开口，第一开口至少有两个。相邻的第一开口和第二开口之间有且仅有一个重合点，重合点落在第一直线上。

本实施例中，第一直线为图6和图7所示虚线段a所在的直线。第一方向为图6和图7中箭头所示方向。

图6所示基准开口组合中，第一开口311a和第二开口312a的俯视形状均为长方形。第一开口311a和第二开口312a各有一条侧边落在第一直线上。第一开口311a的个数为两个，第二开口312a的个数为一个。

其它实施例中，可以设置第一开口和第二开口的个数均为两个、三个或者四个以上，或者始终设置第二开口的个数比第一开口的个数小1。

图7所示基准开口组合中，第一开口311b和第二开口312b的俯视形状相同，均为五边形。第一开口311b和第二开口312b各有一个点落在第一直线上。第一开口311b的个数为两个，第二开口312b的个数为一个。

其它实施例中，第一开口和第二开口的俯视形状也可以是其它形状。

由于本实施例中的测试开口图案包括基准开口组合，因此，利用测试开口图案对测试结构材料层进行图案化的过程，就是利用基准开口组合对测试结构材料层进行图案化的过程。而由基准开口组合对测试结构材料层进行图案化，能够得到的测试结构包括对应于基准开口组合的基准块状组合，基准块状组合包括对应于第一开口的第一区块，以及对应于第二开口的第二区块。

图8至图10为由图6所示测试开口图案得到的三种可能的相应测试结构。由于图6所示测试开口图案仅包括一个基准开口组合，因此，得到的测试结构仅包括一个基准块状组合(其它实施例中，可以设置多个基准开口组合，相应得到多个基准块状组合)。后续将结合步骤三(具体为步骤三中的下述步骤33)，说明图8至图10中所显示的基准块状组合如何用来判断功能结构的实际线宽与预设线宽的大小关系。

在步骤三(也就是：利用测试结构，得到功能结构的实际线宽与预设线宽的大小关系)中，可以包括以下步骤31至步骤33。

步骤31，利用放大设备放大测试结构。

本实施例中，放大设备可以为自动可视检查机。自动可视检查机有成像倍率放大的功能。本实施例通过自动可视检查机放大相应的测试结构，可以直观地进行判断。图8至图10可视为测试结构放大后的示意图。

步骤32，通过人眼直接观察放大后的测试结构。

自动可视检查机将测试结构放大后通常可以直接显示在屏幕上，因此，人眼可以直接观察放大后的测试结构。

步骤33，根据测试结构与测试开口图案的俯视形状变化，得到功能结构的实际线宽与预设线宽的大小关系。

在步骤33(即：根据测试结构与测试开口图案的俯视形状变化，得到功能结构的实际线宽与预设线宽的大小关系)中，具体可以包括以下三种情况的判断(这些判断都是人眼直接观察后可以马上得出的判断)。

第一种，当第一区块和第二区块大于一个重合点时，判断功能结构的实际线宽大于预设线宽。

在第一种情况下，由图6所示测试开口图案得到的测试结构如图8所示，第一区块311a1和第二区块312a1之间的重合部分为一条线段，即第一区块311a1和第二区块312a1的重合部分大于一个重合点。由于原来图6所示的基准开口图案中，第一开口311a和第二开口312a仅有一个重合点，因此，可见此时测试结构的线宽增大了(即测试结构的实际线宽大于预设线宽)。而由前面的步骤可知，测试结构和功能结构的制作过程基本上是完全相同的，因此可知，此时功能结构的实际线宽也大于预设线宽。也就是说，采用图6所示的测试开口图案形成测试结构时，如果出现如图8所示的测试结构时，能够直接判断功能结构的实际线宽大于预设线宽。

第二种，当第一区块和第二区块有且仅有一个重合点时，判断功能结构的实际线宽等于预设线宽。

在第二种情况下，由图6所示测试开口图案得到的测试结构如图9所示，第一区块311a2和第二区块312a2之间的重合部分为一个重合点。原来图6所示的基准开口图案中，第一开口311a和第二开口312a也仅有一个重合点，因此，可见此时测试结构的线宽基本不变(即测试结构的实际线宽基本等于预设线宽)。而由前面的步骤可知，测试结构和功能结构的制作过程基本上是完全相同的，因此可知，此时功能结构的实际线宽也基本等于预设线宽。也就是说，采用图6所示的测试开口图案形成测试结构时，如果出现如图9所示的测试结构时，能够直接判断功能结构的实际线宽等于预设线宽。

第三种，当第一区块和第二区块没有重合点时，判断功能结构的实际线宽小于预设线宽。

在第三种情况下，由图6所示测试开口图案得到的测试结构如图10所示，第一区块311a3和第二区块312a3之间没有重合点，即第一区块311a3和第二区块312a3相互分离。由于原来图6所示的基准开口图案中，第一开口311a和第二开口312a都仅有一个重合点，因此，可见此时测试结构的线宽减小(即测试结构的实际线宽小于预设线宽)。而由前面的步骤可知，测试结构和功能结构的制作过程基本上是完全相同的，因此可知，此时功能结构的实际线宽也小于预设线宽。也就是说，采用图6所示的测试开口图案形成测试结构时，如果出现如图10所示的测试结构时，能够直接判断功能结构的实际线宽小于预设线宽。

本实施例中，设置第一开口沿第一直线上的跨度等于功能结构的预设线宽。设置第二开口沿第一直线上的跨度等于功能结构的预设线宽。在这种情况下，后续判断线宽变化时更加直接和准确。具体的，当第一开口和第二开口均为图6所示的长方形时，此时，即长方形的宽度等于预设线宽。这种情况下，当得到的是图9所示的线宽不变的测试结构时，第一区块和第二区块的宽度也等于预设线宽，或者说，此时第一区块和第二区块的俯视形状与第一开口和第二开口的俯视形状相同。

需要说明的是，其它实施例中，当判断出功能结构的实际线宽与预设线宽相比是增大或者是减小时，还可以通过对放大设备所显示的测试结构进行测量，得到功能结构的实际线宽与预设线宽的差值大小。例如，可以手动测量图8中第一区块311a1和第二区块312a1中重叠部分的长度，得到功能结构的实际线宽比预设线宽大多少，或者可以手动测量图10中第一区块311a3和第二区块312a3之间的距离，得到功能结构的实际线宽比预设线宽小多少。然后可以根据实测到的差值，调整后续基板(后续基板同样具有多个片格区)制作过程中的相应工艺参数，从而使后续基板中制作的功能结构实际线宽与预设线宽尽量相等。

需要说明的是，本实施例中，测试结构制作在非屏幕区310中，后续非屏幕区310可以切割去除。而屏幕区320中，如果屏幕区320上的各功能结构和其它部分均满足要求，可以切割成为彩色滤光基板产品。

本实施例所提供的彩色滤光基板的制作方法中，在当前基板30的第一区域300中，在屏幕区320制作功能结构时，同时在第一区域300内的非屏幕区310形成测试结构，从而可以利用所述测试结构的线宽变化情况，得到所述功能结构的实际线宽与预设线宽的大小关系。所述方法巧妙地将对功能结构的线宽测试，转移到对测试结构的线宽测试，提高了测试效率，缩短了观察和测量和时间，并且降低现场操作人员的工作难度。

进一步，所述制作方法通过对测试开口图案的巧妙设计，能够形成易于直接观察的测试结构，从而方便人眼直接观察得到相应功能结构的线宽是否符合预设值，再次降低了测试难度，提高测试效率。

本发明实施例提供另一种彩色滤光基板的制作方法，请结合参考图11至图16。

本实施例的制作方法同样包括步骤一至三。

步骤一，提供当前基板，当前基板包括多个片格区，曝光设备一次曝光所覆盖到的片格区为一个第一区域。在一个第一区域内，至少一个片格区为非屏幕区，其它片格区为屏幕区。步骤二，在一个第一区域内，在屏幕区形成功能结构时，同时在非屏幕区形成测试结构。步骤三，利用测试结构，得到功能结构的实际线宽与预设线宽的大小关系。

在步骤二(也就是：在一个第一区域内，在屏幕区形成功能结构时，同时在非屏幕区形成测试结构)中，可以包括以下步骤21至步骤23。

步骤21，在光罩上形成功能开口图案和测试开口图案。

在光罩上形成功能开口图案是为了后续形成功能结构。本实施例同时还在光罩上形成测试开口图案，以用于后续形成测试结构。

步骤22，在屏幕区形成功能结构材料层时，同时在非屏幕区形成测试结构材料层。

在屏幕区形成功能结构材料层是制作功能结构的过程，本实施例还在非屏幕区形成测试结构材料层，功能结构材料层和测试结构材料层通常为同一工艺形成的相同材料层，只是形成位置不同。

步骤23，在利用功能开口图案对功能结构材料层进行图案化，以形成功能结构时，同时利用测试开口图案对测试结构材料层进行图案化，以形成测试结构。

本实施例中，功能结构为红色子像素色阻层。因此，形成功能结构的过程即形成红色子像素色阻层的过程。本实施例中，由于功能结构为红色子像素色阻层，因此上述步骤22，对应的就是：在屏幕区形成红色子像素色阻材料层时，同时在非屏幕区形成测试结构材料层，即两个材料层只需要采用同一个工艺形成。测试结构材料层事实上也是红色子像素色阻材料层，只不过测试结构材料层位于非屏幕区。

上述步骤23，对应的就是：在利用功能开口图案对红色子像素色阻材料层进行图案化，以形成红色子像素色阻层时，同时利用测试开口图案对测试结构材料层进行图案化，以形成测试结构。

上述内容可参考前述实施例相应内容。

本实施例中，显示了一种测试开口图案，如图11所示。本实施例中的测试开口图案包括基准开口组合410。基准开口组合410包括：沿第一直线的第一方向交替出现的第一开口401和第二开口402。相邻的第一开口401和第二开口402之间有且仅有一个重合点，重合点落在第一直线上。第一直线为图11所示虚线段a所在的直线。第一方向为图11中箭头所示方向。

图11所示基准开口组合410中，第一开口401和第二开口402的俯视形状均为长方形。第一开口401和第二开口402各有一条侧边落在第一直线上。第一开口401的个数为三个，第二开口402的个数也为三个。本实施例中，第一开口401和第二开口402各有一条侧边落在第一直线上，并且这条落在第一直线的侧边大小等于功能结构的预设线宽。

由于本实施例中的测试开口图案包括基准开口组合410，因此，利用测试开口图案对测试结构材料层进行图案化的过程，就是利用基准开口组合410对测试结构材料层进行图案化的过程。而由基准开口组合对测试结构材料层进行图案化，能够得到的测试结构包括对应于基准开口组合的基准块状组合(如图12至图16中位于中间位置的基准块状组合410a至基准块状组合410e)，基准块状组合包括对应于第一开口的第一区块(未标注)，以及对应于第二开口的第二区块(未标注)。

本实施例中，图11所示测试开口图案除了包括一个基准开口组合410，还包括两个扩大开口组合(未标注)和两个缩小开口组合(未标注)。

其中，基准开口组合往左第一个开口组合为第一个扩大开口组合，第一个扩大开口组合由基准开口组合的以下变换得到：各个第一开口和第二开口在第一直线上的跨度均增加1×1μm(即1μm)，一个第一开口与一个相邻第二开口之间在第一直线上的重合跨度等于0.5×1×1μm(即0.5μm)。

其中，基准开口组合往左第二个开口组合为第二个扩大开口组合，第二个扩大开口组合由基准开口组合的以下变换得到：各个第一开口和第二开口在第一直线上的跨度均增加2×1μm(即2μm)，一个第一开口与一个相邻第二开口之间在第一直线上的重合跨度等于0.5×2×1μm(即1μm)。

其中，基准开口组合往右第一个开口组合为第一个缩小开口组合，第一个缩小开口组合由基准开口组合的以下变换得到：各个第一开口和第二开口在第一直线上的跨度均减小1×1μm(即1μm)，一个第一开口与一个相邻第二开口之间在第一直线上的重合跨度等于0.5×1×1μm(即0.5μm)。

其中，基准开口组合往左第二个开口组合为第二个缩小开口组合，第二个缩小开口组合由基准开口组合的以下变换得到：各个第一开口和第二开口在第一直线上的跨度均减小2×1μm(即2μm)，一个第一开口与一个相邻第二开口之间在第一直线上的重合跨度等于0.5×2×1μm(即1μm)。

其它实施例中，测试开口图案可以还包括n个扩大开口组合和n个缩小开口组合，n为1至20之间的任意整数。第n个扩大开口组合由基准开口组合的以下变换得到：各个第一开口和第二开口在第一直线上的跨度均增加n×mμm，一个第一开口与一个相邻第二开口之间在第一直线上的重合跨度等于0.5n×mμm。第n个缩小开口组合由基准开口组合的以下变换得到：各个第一开口和第二开口在第一直线上的跨度均减小n×mμm，一个第一开口与一个相邻第二开口之间在第一直线上的相距距离等于0.5n×mμm。m为0.1～2.0之间的一位小数。测试结构还包括对应于n个扩大开口组合的n个扩大块状组合，以及对应于n个缩小开口组合的n个缩小块状组合。本实施例为n等于2且m等于0.5的情况。其它实施例中，n和m可以等于其它值。

由于测试开口图案具有五个开口组合，因此，相应的测试结构中也具有五个区块组合。即除了基准块状组合，测试结构还包括对应于n个扩大开口组合的n个扩大块状组合，以及对应于n个缩小开口组合的n个缩小块状组合。本实施例具体为对应于第一个扩大开口组合的第一个扩大块状组合，对应于第二个扩大开口组合的第二个扩大块状组合，对应于第一个缩小开口组合的第一个缩小块状组合，对应于第二个缩小开口组合的第二个缩小块状组合。

图12至图16为由图11所示测试开口图案得到的五种可能的相应测试结构。

后续将结合步骤三，说明图12至图16中所显示的各相应测试结构(每个测试结构均包括五个块状组合)如何用来判断功能结构的实际线宽与预设线宽的大小关系。

在步骤三(也就是：利用测试结构，得到功能结构的实际线宽与预设线宽的大小关系)中，可以包括以下步骤31至步骤33。

步骤31，利用放大设备放大测试结构。

本实施例中，放大设备可以为自动可视检查机。自动可视检查机有成像倍率放大的功能。本实施例通过自动可视检查机放大相应的测试结构，可以直观地进行判断。图12至图10可视为测试结构放大后的示意图。

步骤32，通过人眼直接观察放大后的测试结构。

自动可视检查机将测试结构放大后通常可以直接显示在屏幕上，因此，人眼可以直接观察放大后的测试结构。

步骤33，根据测试结构与测试开口图案的俯视形状变化，得到功能结构的实际线宽与预设线宽的大小关系。

在步骤33(即：根据测试结构与测试开口图案的俯视形状变化，得到功能结构的实际线宽与预设线宽的大小关系)中，具体可以包括以下五种情况的判断(这些判断都是人眼直接观察后可以马上得出的判断)。

第一种，测试结构中，当与基准开口组合最接近的是第二个缩小块状组合时，判断功能结构的实际线宽大于预设线宽，并且认定功能结构的实际线宽比预设线宽大2μm。

在第一种情况下，由图11所示测试开口图案得到的测试结构如图12所示，此时，从图11和图12直观看出，与基准开口组合410最接近的是第二个缩小块状组合411。而原本应该是中间的基准块状组合410a与基准开口组合410最接近，说明此时测试结构的线宽增大了(即测试结构的实际线宽大于预设线宽)。而由前面的步骤可知，测试结构和功能结构的制作过程基本上是完全相同的，因此可知，此时功能结构的实际线宽也大于预设线宽。而且，从前面提到的基准开口组合与第二个缩小开口组合之间的关系可知，此时测试结构的实际线宽比预设线宽大2μm，也就相当于，功能结构的实际线宽比预设线宽大2μm。

第二种，测试结构中，当与基准开口组合最接近的是第一个缩小块状组合时，判断功能结构的实际线宽大于预设线宽，并且认定功能结构的实际线宽比预设线宽大1μm。

在第二种情况下，由图11所示测试开口图案得到的测试结构如图13所示，此时，从图11和图13直观看出，与基准开口组合410最接近的是第一个缩小块状组合412。而原本应该是中间的基准块状组合410b与基准开口组合410最接近，说明此时测试结构的线宽增大了(即测试结构的实际线宽大于预设线宽)。而由前面的步骤可知，测试结构和功能结构的制作过程基本上是完全相同的，因此可知，此时功能结构的实际线宽也大于预设线宽。而且，从前面提到的基准开口组合与第一个缩小开口组合之间的关系可知，此时测试结构的实际线宽比预设线宽大1μm，也就相当于，功能结构的实际线宽比预设线宽大1μm。

第三种，测试结构中，当与基准开口组合最接近的是基准块状组合时，判断功能结构的实际线宽与预设线宽的差值小于预设线宽差值。

在第三种情况下，由图11所示测试开口图案得到的测试结构如图14所示，此时，从图11和图14直观看出，与基准开口组合410最接近的正是基准块状组合410c。说明此时测试结构的线宽基本不变(即测试结构的实际线宽大致等于预设线宽)。而由前面的步骤可知，测试结构和功能结构的制作过程基本上是完全相同的，因此可知，此时功能结构的实际线宽也大致等于预设线宽。而且，从前面提到的基准开口组合与第一个缩小开口组合之间的关系可知，此时测试结构的实际线宽与预设线宽的差值小于预设线宽差值，也就相当于，功能结构的实际线宽与预设线宽的差值小于预设线宽差值。本实施例中，所述差值可以为0.5μm。

第四种，测试结构中，当与基准开口组合最接近的是第一个扩大块状组合时，判断功能结构的实际线宽小于预设线宽，并且认定功能结构的实际线宽比预设线宽小1μm。

在第四种情况下，由图11所示测试开口图案得到的测试结构如图15所示，此时，从图11和图15直观看出，与基准开口组合410最接近的是第一个扩大块状组合414。而原本应该是中间的基准块状组合410d与基准开口组合410最接近，说明此时测试结构的线宽减小了(即测试结构的实际线宽小于预设线宽)。而由前面的步骤可知，测试结构和功能结构的制作过程基本上是完全相同的，因此可知，此时功能结构的实际线宽也小于预设线宽。而且，从前面提到的基准开口组合与第一个扩大开口组合之间的关系可知，此时测试结构的实际线宽比预设线宽小1μm，也就相当于，功能结构的实际线宽比预设线宽小1μm。

第五种，测试结构中，当与基准开口组合最接近的是第二个扩大块状组合时，判断功能结构的实际线宽小于预设线宽，并且认定功能结构的实际线宽比预设线宽小2μm。

在第五种情况下，由图11所示测试开口图案得到的测试结构如图16所示，此时，从图11和图16直观看出，与基准开口组合410最接近的是第二个扩大块状组合415。而原本应该是中间的基准块状组合410e与基准开口组合410最接近，说明此时测试结构的线宽减小了(即测试结构的实际线宽小于预设线宽)。而由前面的步骤可知，测试结构和功能结构的制作过程基本上是完全相同的，因此可知，此时功能结构的实际线宽也小于预设线宽。而且，从前面提到的基准开口组合与第一个扩大开口组合之间的关系可知，此时测试结构的实际线宽比预设线宽小2μm，也就相当于，功能结构的实际线宽比预设线宽小2μm。

上述五种情况中，“最接近”是指两个结构的俯视形状最相近，可以从图11与图12-16各图中对比直接得到。

需要说明的是，上述偏差的具体数据(即扩大2μm、扩大1μm、缩小1μm和缩小2μm等数值)只是一个具体举例，在其它实施例中，这些具体数据可以变化为数据范围，例如可以改变成：扩大1.5～2.5μm、扩大0.5～1.5μm、缩小0.5～1.5μm和缩小1.5～2.5μm等。

本实施例中，当判断出功能结构的实际线宽与预设线宽相比是增大或者减小时，调整后续基板在制作功能结构时的工艺条件，从而使得后续基板中，功能结构的实际线宽与预设线宽的差值小于一个阈值，阈值等于0.5μm。

其它实施例中，当判断出功能结构的实际线宽与预设线宽相比是增大或者减小时，调整后续基板在制作功能结构时的工艺条件，从而使得后续基板中，功能结构的实际线宽与预设线宽的差值小于一个阈值，阈值等于kμm，k为0.1～1.0的一位小数。

本实施例所提供的彩色滤光基板的制作方法中，除了具有前述实施例的优点以外，由于在光罩的测试开口图案中增加了两个扩大开口组合和两个缩小开口组合，因此，对应形成的测试结构中，相应增加了两个扩大块状组合和两个缩小块状组合，并且这些开口组合与基准开口组合之间有着直接的尺寸变化关系，因此，测试开口图案和测试结构配合起来，就能够直接判断出功能结构的线宽变化的大小范围，从而更加有利于控制功能结构的线宽。

虽然本发明披露如上，但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。