显示面板和显示装置的制作方法

本实用新型涉及显示领域，特别涉及一种显示面板和显示装置。

背景技术：

现有技术中的显示面板主要包括：相对设置的阵列基板和对向基板、以及位于阵列基板和对向基板之间的液晶分子层，对向基板主要包括：黑色矩阵层，填充于黑色矩阵层的开口区域内的彩色滤光层，彩色滤光层一般包括：红、绿、蓝三种颜色的像素单元，黑色矩阵层的作用是防止相邻像素单元之间的混色。

但是，黑色矩阵虽然能吸收大部分光线，但其会对光线形成反射，造成显示面板的显示对比度下降，影响画面质量。而且这种显示面板的反射率与黑色矩阵的面积大小相关，面积越大，反射率越大，所造成的显示对比度下降也就越明显。这一点在曲面液晶面板尤为明显，为了防止曲面液晶显示面板对盒后的漏光现象的发生，曲面液晶面板在设计时一般会对对向基板的黑色矩阵进行加宽处理，这样虽然能有效降低显示面板的漏光风险，但同时也会降低显示面板的对比度，影响显示面板显示画面品质。

技术实现要素：

本实用新型提供了一种显示面板和显示装置，用以减少由于黑色矩阵层反光造成的显示画面对比度下降现象的发生，提升显示效果。

为达到上述目的，本实用新型提供以下技术方案：

本实用新型提供了一种显示面板，包括：相对设置的第一基板和第二基板，设置在所述第一基板和第二基板之间的多个呈阵列排布的像素单元，设置于所述像素单元的非开口区域的黑色矩阵层，还包括：

漫反射层，所述漫反射层在所述第一基板上的正投影图案与所述黑色矩阵层在所述第一基板上的正投影图案相互重合，且所述漫反射层相对所述黑色矩阵层靠近所述显示面板的显示面。

本实用新型提供的显示面板，通过设置漫反射层，并将漫反射层在第一基板上的正投影图案与黑色矩阵层在第一基板上的正投影图案设置的相互重合，且漫反射层相对黑色矩阵层靠近显示面板的显示面，可以使得外界光线照射到漫反射层后向多个方向射出，减弱反射光的强度，故，本实用新型提供的显示面板，可以减少由于黑色矩阵层反光造成的显示画面对比度下降现象的发生，可以提升显示面板的显示效果。

在一些可选的实施方式中，所述第一基板背离所述第二基板的一面为所述显示面板的显示面，所述黑色矩阵层位于所述第一基板朝向所述第二基板的一侧，所述漫反射层位于所述第一基板背离所述第二基板的一侧。

在一些可选的实施方式中，所述漫反射层为第一透明材料层，且所述第一透明材料层背离所述黑色矩阵层的一面为粗糙面。

在一些可选的实施方式中，上述显示面板还包括：填充于所述漫反射层的开口区域内的第二透明材料层，且所述第二透明材料层为与所述第一透明材料层相同的透明导电材料层，所述第一透明材料层和所述第二透明材料层为一体式结构。

在一些可选的实施方式中，所述第二基板包括同层设置的第一透明电极和第二透明电极，所述第一基板背离所述第二基板的一侧设有屏蔽层，且所述屏蔽层为一体式结构的所述第一透明材料层和所述第二透明材料层。

在一些可选的实施方式中，所述黑色矩阵层为黑色树脂层或金属氧化物层。

本实用新型还提供了一种显示装置，包括：如上述任一项所述的显示面板。由于上述显示面板，可以减少由于黑色矩阵层反光造成的显示画面对比度下降现象的发生，故本实用新型提供的显示装置具有较好的显示效果。

附图说明

图1为本实用新型实施例提供的显示面板的部分结构示意图；

图2为本实用新型实施例提供的显示装置的制备方法流程图；

图3a～图3f为本实用新型实施例提供的显示装置制备过程结构示意图。

图中：

1-第一基板 2-黑色矩阵层

3-像素单元 4-漫反射层

5-屏蔽层 6-光刻胶层

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1所示，图1为本实用新型实施例提供的显示面板的部分结构示意图；本实用新型提供了一种显示面板，包括：相对设置的第一基板1和第二基板，设置在第一基板1和第二基板之间的多个呈阵列排布的像素单元3，设置于像素单元3的非开口区域的黑色矩阵层2，还包括：

漫反射层4，漫反射层4在第一基板1上的正投影图案与黑色矩阵层2在第一基板1上的正投影图案相互重合，且漫反射层4相对黑色矩阵层2靠近显示面板的显示面。

本实用新型提供的显示面板，通过设置漫反射层4，并将漫反射层4在第一基板1上的正投影图案与黑色矩阵层2在第一基板1上的正投影图案设置的相互重合，且漫反射层4相对黑色矩阵层2靠近显示面板的显示面，可以使得外界光线照射到漫反射层4后向多个方向射出(如图1中所示的箭头)，减弱反射光的强度，故，本实用新型提供的显示面板，可以减少由于黑色矩阵层2反光造成的显示画面对比度下降现象的发生，可以提升显示面板的显示效果。

上述黑色矩阵层2可以位于第一基板1也可以位于第二基板上，一种可选的实施方式中，第一基板1背离第二基板的一面为显示面板的显示面，黑色矩阵层2位于第一基板1朝向第二基板的一侧，漫反射层4位于第一基板1背离第二基板的一侧。

可选的，漫反射层4为第一透明材料层，且第一透明材料层背离黑色矩阵层2的一面为粗糙面。粗糙面的设置光线照射在上面发生散射。

一种具体的实施方式中，上述显示面板还包括：填充于漫反射层4的开口区域内的第二透明材料层，且第二透明材料层为与第一透明材料层相同的透明导电材料层，第一透明材料层和第二透明材料层为一体式结构。这样制作起来较方便，只需要制备一层层结构，然后在对相应的区域进行粗糙处理即可。

对于高级超维场转换技术(ADvanced Super Dimension Switc，简称ADS)模式的显示装置，第二基板包括同层设置的第一透明电极和第二透明电极，第一基板1背离第二基板的一侧设有屏蔽层5，且屏蔽层5为一体式结构的第一透明材料层和第二透明材料层。直接采用对现有的膜层进行处理一形成漫反射层，可以减少制备工序。

上述黑色矩阵层2为黑色树脂层或金属氧化物层。

本实用新型还提供了一种显示装置，包括：如上述任一项所述的显示面板。由于上述显示面板，可以减少由于黑色矩阵层2反光造成的显示画面对比度下降现象的发生，故本实用新型提供的显示装置具有较好的显示效果。

如图2所示，本实用新型还提供了一种显示面板的制备方法，包括：

步骤S201：形成相对设置的第一基板和第二基板；

步骤S202：形成设置于第一基板和第二基板之间的多个呈阵列排布的像素单元；

步骤S203：形成设置于像素单元的非开口区域的黑色矩阵层；

步骤S204：形成漫反射层，漫反射层在第一基板上的正投影图案与黑色矩阵层在第一基板上的正投影图案相互重合，且漫反射层相对黑色矩阵层靠近显示面板的显示面。

本实用新型提供的显示面板的制备方法，通过设置漫反射层，并将漫反射层在第一基板上的正投影图案与黑色矩阵层在第一基板上的正投影图案设置的相互重合，且漫反射层相对黑色矩阵层靠近显示面板的显示面，可以使得外界光线照射到漫反射层后向多个方向射出，减弱反射光的强度，故，本实用新型提供的显示面板制备方法，可以减少由于黑色矩阵层反光造成的显示画面对比度下降现象的发生，可以提升显示面板的显示效果。

上述步骤S202：形成设置于第一基板和第二基板之间的多个呈阵列排布的像素单元；具体包括：

将第一基板背离第二基板的一面作为显示面板的显示面，并在第一基板朝向第二基板的一面上形成黑色矩阵层。

如图3a～3f所示，上述步骤S204：形成漫反射层，漫反射层在第一基板上的正投影图案与黑色矩阵层在第一基板1上的正投影图案相互重合，且漫反射层相对黑色矩阵层靠近显示面板的显示面，具体包括：

如图3a所示，在第一基板1背离第二基板的一面上形成屏蔽层5；

如图3c所示，在屏蔽层5背离第二基板一面上涂覆光刻胶层6；

对光刻胶层6进行曝光处理，得到在第一基板1上的正投影图案与黑色矩阵层2在第一基板1上的正投影图案相互重合的光刻胶图案层；

如图3d所示，对屏蔽层5背离黑色矩阵层2的一面中：与黑色矩阵层2对应的区域进行等离子处理以形成漫反射层4；

如图3e所示，去除光刻胶图案层。如图3f所示，再在黑色矩阵层2的开口区域内形成彩色滤光层。

显然，本领域的技术人员可以对本实用新型实施例进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。