1.一种曝光装置，对在彼此正交之第1方向及第2方向移动之移动体所保持之物体，在前述移动体往前述第1方向之移动中经由光学系照射照明光，其具有：
第1被测量部，根据前述移动体往前述第1方向之移动而被测量；
第1测量部，根据前述移动体往前述第1方向之移动，一边相对前述第1被测量部往前述第1方向相对移动一边测量前述第1被测量部；
多个第2被测量部，根据前述移动体往前述第2方向之移动而被测量，配置于在前述第1方向彼此不同之位置；以及
多个第2测量部，对应前述多个第2被测量部之各个设置，且根据前述物体往前述第2方向之移动，一边相对前述第2被测量部往前述第2方向相对移动一边测量前述第2被测量部。
2.如权利要求1所述的曝光装置，其中，根据前述第1测量部之输出与前述第2测量部之输出，求出前述移动体在前述第1方向及前述第2方向之位置信息。
3.如权利要求1或2所述的曝光装置，其中，前述第1测量部与前述第2测量部一体移动；
基于前述移动体往前述第1方向之移动，根据相对前述第1被测量部在前述相对移动时之前述第1测量部及前述第2测量部之输出求出前述第1方向之位置信息；
基于前述移动体往前述第2方向之移动，根据相对前述第2被测量部在前述相对移动时之前述第1测量部及前述第2测量部之输出求出前述第2方向之位置信息。
4.如权利要求3所述的曝光装置，其中，前述第1被测量部，包含在前述第1方向上多个格子区域彼此分离配置之第1格子构件；
前述第1测量部，包含对前述第1格子构件照射测量光束之读头；
前述第2被测量部，包含在前述第2方向上多个格子区域彼此分离配置之第2格子构件；
前述第2测量部，包含对前述第2格子构件照射测量光束之读头。
5.如权利要求1至4中任一项所述的曝光装置，其中，前述第1被测量部设于前述移动体上。
6.如权利要求1至5中任一项所述的曝光装置，其中，前述第2被测量部设于保持前述光学系之保持构件。
7.如权利要求1至6中任一项所述的曝光装置，其中，前述多个第2被测量部，配置于在前述第1方向彼此分离之位置。
8.如权利要求1至7中任一项所述的曝光装置，其中，前述光学系，具备多个透镜模组，该多个透镜模组分别包含对基板照射前述照明光之在前述第2方向排列配置之多个投影透镜；
前述多个透镜模组，在前述第1方向分离配置；
前述多个第2被测量部，配置成在前述第1方向之位置重叠于前述多个透镜模组之各个。
9.如权利要求1至7中任一项所述的曝光装置，其具有测量形成于前述基板上之标记之标记测量系；
前述光学系包含对基板照射前述照明光之投影光学系；
前述多个第2被测量部，配置成在前述第1方向之位置重叠于前述测量系与前述投影光学系之各个。
10.如权利要求9所述的曝光装置，其中，前述多个第2被测量部中对应前述测量系之第2被测量部，构成为在前述第2方向之长度较对应前述投影光学系之第2测量部短。
11.如权利要求9或10所述的曝光装置，其中，前述标记测量系，设成在前述第2方向分离设有多个且能变更在前述第2方向之至少两个标记测量系之相对间隔。
12.一种曝光装置，对在彼此正交之第1方向及第2方向移动之移动体所保持之物体，在前述移动体往前述第1方向之移动中经由光学系照射照明光，其具有：
多个被测量部，根据前述移动体往前述第2方向之移动而被测量，配置于在前述第1方向彼此不同之位置，以取得前述移动体在前述第2方向之位置信息；以及
多个测量部，对应前述多个被测量部之各个设置，且根据前述物体往前述第2方向之移动，一边相对前述被测量部往前述第2方向相对移动一边测量前述被测量部。
13.一种曝光装置，在对被保持成能在包含彼此正交之第1方向及第2方向之面内往前述第1及第2方向移动之物体往前述第1方向之移动中，经由光学系对前述物体照射照明光，其具有：
多个被测量部，根据前述物体往前述第2方向之移动而被测量，配置于在前述第1方向彼此不同之位置，以取得前述物体在前述第2方向之位置信息；以及
多个测量部，对应前述多个被测量部之各个设置，且根据前述物体往前述第2方向之移动，一边相对前述被测量部往前述第2方向相对移动一边测量前述被测量部。
14.一种曝光装置，对在彼此正交之第1方向及第2方向移动之移动体所保持之物体，在前述移动体往前述第1方向之移动中经由光学系照射照明光，其具备：
第1被测量部，根据前述移动体往前述第1方向之移动而被测量；以及
第1测量部，在与前述第1被测量部对向配置时，根据前述移动体往前述第1方向之移动，一边相对前述第1被测量部往前述第1方向相对移动一边测量前述第1被测量部；
前述第1测量部，包含多个第1测量部，其根据前述移动体往前述第2方向之移动而往前述第2方向移动，且在前述第2方向彼此不同之位置与前述第1被测量部对向配置。
15.如权利要求14所述的曝光装置，其中，前述第1被测量部包含多个第1被测量部，其根据前述移动体往前述第1方向之移动而被测量，配置于在前述第2方向彼此不同之位置；
前述多个第1测量部之各个，在维持与前述多个第1被测量部中对应之第1被测量部对向配置之状态下，根据前述移动体往前述第1方向之移动，一边相对前述第1被测量部往前述第1方向相对移动一边测量前述各第1被测量部。
16.如权利要求15所述的曝光装置，其中，前述多个第1测量部，根据前述移动体往前述第2方向之移动，在维持前述各第1测量部在前述第2方向之相对位置关系之状态下往前述第2方向移动。
17.如权利要求14所述的曝光装置，其中，前述多个第1测量部在前述第2方向之可动范围彼此不同。
18.如权利要求17所述的曝光装置，其中，前述多个第1测量部在前述第2方向之可动范围连续。
19.如权利要求17或18所述的曝光装置，其中，前述多个第1测量部均测量移动至在前述第2方向之既定位置之前述第2被测量部。
20.如权利要求19所述的曝光装置，其中，前述多个第1测量部同时测量位于前述既定位置之前述第1被测量部。
21.如权利要求17所述的曝光装置，其中，前述多个第1测量部在前述第2方向之可动范围，在前述第2方向不连续。
22.如权利要求21所述的曝光装置，其进一步具有位置测量系，其测量在前述不连续区间之前述移动体在前述第2方向之位置。
23.如权利要求22所述的曝光装置，其中，前述测量系包含干涉仪；
前述移动体在前述第2方向之位置，根据前述第1测量部之输出与前述位置测量系之输出求出。
24.一种曝光装置，对在彼此正交之第1方向及第2方向移动之移动体所保持之物体，在前述移动体往前述第1方向之移动中经由光学系照射照明光，其具有：
第1被测量部，根据前述移动体往前述第1方向之移动而被测量，彼此配置于在前述第2方向之不同位置；以及
多个第1测量部，在测量前述多个第1被测量部之位置，根据前述移动体往前述第1方向之移动，一边相对前述第1被测量部往前述第1方向相对移动一边测量前述第1被测量部。
25.一种曝光装置，对在彼此正交之第1方向及第2方向移动之移动体所保持之物体，在前述移动体往前述第1方向之移动中经由光学系照射照明光，其具备：
被测量部，根据前述移动体往前述第1方向之移动而被测量；以及
测量部，在与前述被测量部对向配置时，根据前述移动体往前述第1方向之移动，一边相对前述被测量部往前述第1方向相对移动一边测量前述被测量部；
前述被测量部，能往在前述第2方向彼此不同之第1位置及第2位置移动；
前述测量部，包含与移动至第1位置之前述被测量部对向配置之第1测量部及与移动至第2位置之前述被测量部对向配置之第2测量部。
26.如权利要求14至25中任一项所述的曝光装置，其具有：第2被测量部，根据前述移动体往前述第2方向之移动而被测量；以及
多个第2测量部，根据前述移动体往前述第2方向之移动，一边相对前述第2被测量部往前述第2方向相对移动一边测量前述第2被测量部；
前述第1测量部与前述第2测量部一体移动；
基于前述移动体往前述第1方向之移动，根据相对前述第1被测量部在前述相对移动时之前述第1测量部及前述第2测量部之输出求出前述第1方向之位置信息；
基于前述移动体往前述第2方向之移动，根据相对前述第2被测量部在前述相对移动时之前述第1测量部及前述第2测量部之输出求出前述第2方向之位置信息。
27.如权利要求26所述的曝光装置，其中，前述第1被测量部，包含在前述第1方向上多个格子区域彼此分离配置之第1格子构件；
前述第1测量部，包含对前述第1格子构件照射测量光束之读头；
前述第2被测量部，包含在前述第2方向上多个格子区域彼此分离配置之第2格子构件；
前述第2测量部，包含对前述第2格子构件照射测量光束之读头。
28.如权利要求26或27所述的曝光装置，其中，前述第1被测量部设于前述移动体上。
29.如权利要求26至28中任一项所述的曝光装置，其中，前述第2被测量部设于保持前述光学系之保持构件。
30.如权利要求1至29中任一项所述的曝光装置，其中，使用能量光束作为前述照明光于前述物体形成既定图案。
31.如权利要求1至30中任一项所述的曝光装置，其中，前述物体用于平面显示器之基板。
32.如权利要求31之曝光装置，其中，前述基板，其至少一边之长度或对角长为500mm以上。
33.一种平面显示器制造方法，其包含：
使用权利要求1至32中任一项所述的曝光装置使前述物体曝光之动作；以及
使曝光后之前述物体显影之动作。
34.一种元件制造方法，其包含：
使用权利要求1至32中任一项所述的曝光装置使前述物体曝光之动作；以及
使曝光后之前述物体显影之动作。