曝光设备、曝光方法及器件制造方法与流程

文档序号:14056247阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明涉及曝光设备、曝光方法及器件制造方法。曝光设备包括偏振照明光的偏振构件和具有至少一个开口的滤光器。所述偏振构件包括第一偏振单元和第二偏振单元,所述第二偏振单元围绕所述第一偏振单元布置。所述第二偏振单元被构成为偏振在沿着第一偏振单元的外周的周向方向上进入第二偏振单元的照明光。第一偏振单元的至少一部分被构成为在与第二偏振单元的下述部分中的偏振方向正交的方向上偏振照明光,第二偏振单元的所述部分位于第一偏振单元的中央部分的相反侧。开口布置在滤光器中,使得在滤光器和偏振构件的后级处的照明光包括由第一和第二偏振单元所偏振的照明光。

技术研发人员:松浦诚司
受保护的技术使用者:瑞萨电子株式会社
技术研发日:2017.08.16
技术公布日:2018.03.30
当前第2页1 2 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1