化学增幅正型抗蚀剂膜层叠体和图案形成方法与流程

技术总结
本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂膜层叠体和图案形成方法。提供层叠体，其包括热塑性膜和其上的化学增幅正型抗蚀剂膜，该抗蚀剂膜包含：(A)具有羟基苯基和保护基团的基础聚合物，该聚合物由于在酸的作用下保护基团被除去而变为碱可溶，(B)光致产酸剂，(C)有机溶剂，和(D)在其主链中具有酯键的聚合物。该抗蚀剂膜可被转印至台阶形支承体而不形成空隙。

技术研发人员：平野祯典;浅井聪;近藤和纪
受保护的技术使用者：信越化学工业株式会社
技术研发日：2017.11.24
技术公布日：2018.06.01