本申请涉及显示技术领域，特别是涉及一种阵列基板、彩膜基板、显示面板及其制备方法。
背景技术：
随着TFT－LCD(thin film transistor-liquid crystal display，薄膜晶体管液晶显示器)技术不断发展与成熟，消费者对LCD显示器要求已不仅仅满足于色彩，亮度等特性的提升，更对其功能有了更高的需求。尤其随着OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管)显示器出现，因其具有目前LCD没有的柔性功能，LCD面临严峻挑战。
柔性LCD通常是在柔性基板上进行Array与CF制程，然后利用现有较成熟PI及ODF工艺完成Cell制程，后续进行黏结(bonding)制程，完成柔性基板制备。目前已有较多面板制造商及科研机构着手柔性LCD显示器相关研发，并开发相关产品。
但是，现有技术中的柔性LCD存在以下问题：阵列基板和彩膜基板黏结后无法保证厚度的均匀性，并且液晶会流动造成，显示效果不佳。
因此，提供一种改进的显示面板实为必要。
技术实现要素：
本申请主要解决的技术问题是提供一种阵列基板、彩膜基板、显示面板及其制备方法，能够维持柔性液晶显示器在弯折时的厚度均匀，防止液晶随意流动，维持显示效果。
为解决上述技术问题，本申请采用的第一个技术方案是：提供一种显示面板，包括相对设置的第一基板和第二基板，第一基板包括第一连接层，第一连接层朝向第二基板的一侧表面设有多个收容部；第二基板包括第二连接层，第二连接层朝向第一基板的一侧表面设有多个凸起部；多个收容部与多个凸起部互相卡合，并在第一基板与第二基板之间形成有多个由凸起部与收容部围成的密封空间。
为解决上述技术问题，本申请采用的第二个技术方案是：提供一种阵列基板，阵列基板包括第一连接层，第一连接层的一侧表面设有多个收容部或凸起部，多个收容部或凸起部用于与彩膜基板连接。
为解决上述技术问题，本申请采用的第三个技术方案是：提供一种彩膜基板，彩膜基板包括第二连接层，第二连接层的一侧表面设有多个凸起部或收容部，多个凸起部或收容部用于与阵列基板连接。
为解决上述技术问题，本申请采用的第四个技术方案是：提供一种显示面板的制备方法，包括：获取阵列基板，其中，阵列基板包括第一连接层，第一连接层朝向一侧表面设有多个第一收容部或第二凸起部；获取彩膜基板，其中，彩膜基板包括第二连接层，第二连接层朝向阵列基板的一侧表面设有多个第一凸起部或第二收容部；在多个第一收容部或第二收容部内滴入液晶；将多个第一凸起部与多个第一收容部卡合连接，或将多个第二凸起部与多个第二收容部卡合连接，以密封液晶。
本申请的有益效果是：区别于现有技术，本申请阵列基板上设置多个凸起部或收容部，对应地，在彩膜基板上设置多个收容部或凸起部，通过多个收容部和多个凸起部的卡合连接阵列基板和彩膜基板。一方面，由于多个收容部和多个凸起部卡合连接，可以使得显示面板在弯折时厚度保持均匀；另一方面，由于多个收容部和多个凸起部卡合形成多个空间容纳液晶，有效防止液晶流动。本申请通过多个收容部和多个凸起部卡合连接，从而连接阵列基板和彩膜基板，提高了显示面板弯折时的厚度均匀度，防止液晶随意流动，维持了显示效果。
附图说明
图1是本申请第一实施方式中阵列基板的结构示意图；
图2是本申请第二实施方式中彩膜基板的结构示意图；
图3是本申请第三实施方式中显示面板的结构示意图；
图4是本申请第四实施方式中显示面板的制备方法的流程示意图；
图5是本申请第五实施方式中显示面板的制备方法的流程示意图；
图6a是图5中步骤501的示意图；
图6b是图5中步骤502的示意图；
图6c是图5中步骤503的示意图；
图6d是图5中步骤504的第一子步骤示意图；
图6e是图5中步骤504的第二子步骤示意图；
图6f是图5中步骤504的第三子步骤示意图；
图6g是图5中步骤505的示意图；
图6h是图5中步骤506的示意图；
图6i是图5中步骤507的示意图；
图6j是图5中步骤508的示意图；
图6k是图5中步骤509的示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，均属于本申请保护的范围。
参阅图1，图1是本申请第一实施方式中阵列基板的结构示意图。
如图1所示，阵列基板11包括依次叠置的第一柔性基板111、薄膜晶体管层112、第一连接层113、像素层114以及第一配向膜层115。第一连接层113的一侧表面设有多个收容部1131，多个收容部1131用于与彩膜基板连接。在其他实施方式中，阵列基板11上的膜层可以根据实际情况确定，例如阵列基板11上不包括像素层114；第一连接层的一侧表面也可以设有多个凸起部用于与彩膜基板连接，本申请对此均不做限定。
本实施方式中，第一连接层113的材料为光刻胶，光刻胶材料类型不限，正负性光刻胶均可，经过曝光，显影，烘烤等制程形成包括多个收容部1131的第一连接层113。多个收容部1131位于第一连接层113背向第一柔性基板111的一侧，多个收容部1131的形状为方形，多个收容部1131呈矩阵式分布在第一连接层113上。当把液晶置入收容部1131内时，多个收容部1131中的液晶彼此隔离，液晶被固定。当显示面板被弯折时，液晶无法随意流动，可以提高显示面板的显示效果。在其他实施方式中，第一连接层113的材料也可是其他材料，收容部1131也可以通过其他物理或化学等方式形成，收容部1131的形状也可以为矩形、六边形、圆形或者其他形状，收容部1131在第一连接层113上的排布方式也可以是三角排布等排布方式，本申请对此均不作限定。
本实施方式中，第一柔性基板111的材料为PI(Polyimide，聚酰亚胺),但不限于PI，也可以是PET(polyethylene terephthalate,聚对苯二甲酸乙二酯)等。像素层114包括红色像素、绿色像素、蓝色像素等。第一配向膜层115的材料为PI(Polyimide，聚酰亚胺)。像素层114和第一配向膜层115位于收容部1113内。收容部1113底部平坦，第一连接层113可以充当平坦层，使得后续像素层114和第一配向膜层115可以在一个平坦的表面上进行制作，有利于液晶在平坦表面进行偏转，提高显示器显示效果。
区别于现有技术，本申请阵列基板上设置多个凸起部或收容部，对应地，在彩膜基板上设置多个收容部或凸起部，通过多个收容部和多个凸起部的卡合连接阵列基板和彩膜基板。一方面，由于多个收容部和多个凸起部卡合连接，可以使得显示面板在弯折时厚度保持均匀；另一方面，由于多个收容部和多个凸起部卡合形成多个空间容纳液晶，有效防止液晶流动。本申请通过多个收容部和多个凸起部卡合连接，从而连接阵列基板和彩膜基板，提高了显示面板弯折时的厚度均匀度，防止液晶随意流动，维持了显示效果。
参阅图2，图2是本申请第二实施方式中彩膜基板的结构示意图。
如图2所示，彩膜基板22包括依次叠置的第二柔性基板221、黑矩阵层222、电极层223、第二连接层224以及第二配向膜层225。第二连接层224包括多个凸起部2241，多个凸起部2241用于与阵列基板连接。在其他实施方式中，阵列基板11上的膜层可以根据实际情况确定；第第二连接层224可以在一侧表面设有多个收容部或凸起部，多个收容部或凸起部位于第二连接层224背向第二柔性基板221的一侧，本申请对此均不做限定。
本实施方式中，第二连接层224的材料为光刻胶，光刻胶材料类型不限，正负性光刻胶均可。第二连接层224可透光，经过曝光，显影，烘烤等制程形成包括多个凸起部2241的第二连接层224。多个凸起部2241位于第二连接层224背向第二柔性基板221的一侧，多个凸起部2241的形状为方形，多个凸起部2241呈矩阵式分布在第二连接层224上。在其他实施方式中，第二连接层224的材料也可是其他材料，凸起部2241也可以通过其他物理或化学等方式形成，凸起部2241的形状也可以为矩形、六边形、圆形或者其他形状，凸起部2241在第二连接层224上的排布方式也可以是三角排布等排布方式，本申请对此均不作限定。
本实施方式中，第二柔性基板221的材料为PI(Polyimide，聚酰亚胺),但不限于PI，也可以是PET(polyethylene terephthalate,聚对苯二甲酸乙二酯)等。黑矩阵层222为黑色光刻胶，利用黄光制程，将光刻胶进行曝光、显影、烘烤等制程，形成具有矩阵结构的黑矩阵层222，用来进行遮光。在黑矩阵层222上制备电极层223，电极层223为ITO(Indium Tin Oxides，铟锡氧化物)等材料。第二配向膜层225的材料为PI(Polyimide，聚酰亚胺)。第二配向膜层225位于凸起部2241上，其他实施方式，在第二连接层224上制备一整层第二配向膜层225即可，由于第二配向膜层225厚度均匀，制备完毕后凸起部2241依然存在，足以与阵列基板卡合。本实施方式中的多个凸起部2241可以与图1中阵列基板11上多个收容部1131相互卡合，形成多个密封空间以收容液晶。
区别于现有技术，本申请阵列基板上设置多个凸起部或收容部，对应地，在彩膜基板上设置多个收容部或凸起部，通过多个收容部和多个凸起部的卡合连接阵列基板和彩膜基板。一方面，由于多个收容部和多个凸起部卡合连接，可以使得显示面板在弯折时厚度保持均匀；另一方面，由于多个收容部和多个凸起部卡合形成多个空间容纳液晶，有效防止液晶流动。本申请通过多个收容部和多个凸起部卡合连接，从而连接阵列基板和彩膜基板，提高了显示面板弯折时的厚度均匀度，防止液晶随意流动，维持了显示效果。
参阅图3，图3是本申请第三实施方式中显示面板的结构示意图。
如图3所示，显示面板3包括相对设置的第一基板、第二基板以及设置于第一基板与第二基板之间的液晶33。在本实施方式中，第一季版为阵列基板31，第二基板为彩膜基板32。阵列基板31包括依次叠置的第一柔性基板311、薄膜晶体管层312、第一连接层313、像素层314以及第一配向膜层315。彩膜基板32包括依次叠置的第二柔性基板321、黑矩阵层322、电极层323、第二连接层324以及第二配向膜层325。第一连接层313的一侧表面设有多个收容部3131，第二连接层324包括多个凸起部3241，多个收容部3131和多个凸起部3241相互卡合，并在阵列基板31和彩膜基板32之间形成有多个由收容部3131和凸起部3241围成的密封空间，密封空间用于容纳液晶33。在其他实施方式中，阵列基板31和彩膜基板32上的膜层可以根据实际情况确定，例如像素层位于彩膜基板上；阵列基板一侧包括凸起部，彩膜基板一侧包括收容部，凸起部和收容部卡合已形成密封空间，本申请对此均不做限定。
本实施方式中，第一连接层313的材料为光刻胶，光刻胶材料类型不限，正负性光刻胶均可，经过曝光，显影，烘烤等制程形成包括多个收容部3131的第一连接层313。多个收容部3131位于第一连接层313背向第一柔性基板311的一侧，多个收容部3131的形状为方形，多个收容部3131呈矩阵式分布在第二连接层313上。多个收容部3131呈矩阵式分布在第一连接层313上。在其他实施方式中，第一连接层313的材料也可是其他材料，收容部3131也可以通过其他物理或化学等方式形成，收容部3131的形状也可以为矩形、六边形、圆形或者其他形状，收容部3131在第一连接层313上的排布方式也可以是三角排布等排布方式，本申请对此均不作限定。
本实施方式中，第一柔性基板311的材料为PI(Polyimide，聚酰亚胺),但不限于PI，也可以是PET(polyethylene terephthalate,聚对苯二甲酸乙二酯)等。像素层314包括红色像素、绿色像素、蓝色像素等。第一配向膜层315的材料为PI(Polyimide，聚酰亚胺)。像素层314和第一配向膜层315位于收容部3113内。收容部3113底部平坦，第一连接层313可以充当平坦层，使得后续像素层314和第一配向膜层315可以在一个平坦的表面上进行制作，有利于液晶在平坦表面进行偏转，提高显示器显示效果。
本实施方式中，第二连接层324的材料为光刻胶，光刻胶材料类型不限，正负性光刻胶均可。第二连接层324可透光，经过曝光，显影，烘烤等制程形成包括多个凸起部3241的第二连接层324。多个凸起部3241位于第二连接层324背向第二柔性基板321的一侧，多个凸起部3241的形状为方形，多个凸起部3241呈矩阵式分布在第二连接层324上。在其他实施方式中，第二连接层324的材料也可是其他材料，凸起部3241也可以通过其他物理或化学等方式形成，凸起部3241的形状也可以为矩形、六边形、圆形或者其他形状，凸起部3241在第二连接层324上的排布方式也可以是三角排布等排布方式，本申请对此均不作限定。
本实施方式中，第二柔性基板321的材料为PI(Polyimide，聚酰亚胺),但不限于PI，也可以是PET(polyethylene terephthalate,聚对苯二甲酸乙二酯)等。黑矩阵层322为黑色光刻胶，利用黄光制程，将光刻胶进行曝光、显影、烘烤等制程，形成具有矩阵结构的黑矩阵层322，用来进行遮光。电极层323为ITO(Indium Tin Oxides，铟锡氧化物)等材料、在黑矩阵层322上制备电极层323。第二配向膜层325的材料为PI(Polyimide，聚酰亚胺)。第二配向膜层325位于凸起部3241上，其他实施方式，在第二连接层324上制备一整层第二配向膜层325即可，由于第二配向膜层325厚度均匀，制备完毕后凸起部3241依然存在，足以与阵列基板卡合。
在其他实施方式中，第一基板可以为彩膜基板，第二基板可以为阵列基板。各基板的膜层也可根据需要进行整改，只需要保证多个收容部与多个凸起部互相卡合，并在第一基板与第二基板之间形成有多个由凸起部与收容部围成的密封空间，便可实现本申请。
区别于现有技术，本申请阵列基板上设置多个凸起部或收容部，对应地，在彩膜基板上设置多个收容部或凸起部，通过多个收容部和多个凸起部的卡合连接阵列基板和彩膜基板。一方面，由于多个收容部和多个凸起部卡合连接，可以使得显示面板在弯折时厚度保持均匀；另一方面，由于多个收容部和多个凸起部卡合形成多个空间容纳液晶，有效防止液晶流动。本申请通过多个收容部和多个凸起部卡合连接，从而连接阵列基板和彩膜基板，提高了显示面板弯折时的厚度均匀度，防止液晶随意流动，维持了显示效果。
参阅4，图4是本申请第四实施方式中显示面板的制备方法的流程示意图。
本实施方式中，显示面板的制备方法包括以下步骤：
步骤401：准备阵列基板。其中，阵列基板可以包括第一连接层，第一连接层朝向彩膜基板的一侧表面设有多个第一收容部或第二凸起部。
在一个具体的实施方式中，在第二玻璃基板上依次制备第一柔性基板、薄膜晶体管层、第一连接层、像素层以及第一配向膜层，以形成阵列基板。第一连接层朝向一侧表面设有多个第一收容部。多个第一收容部位于第一连接层背向第一柔性基板的一侧，多个第一收容部的形状为方形，多个第一收容部呈矩阵式分布在第一连接层上。多个第一收容部呈矩阵式分布在第一连接层上。在其他实施方式中，第一连接层的材料也可是其他材料，收容部也可以通过其他物理或化学等方式形成，收容部的形状也可以为矩形、六边形、圆形或者其他形状，收容部在第一连接层上的排布方式也可以是三角排布等排布方式，本申请对此均不作限定。
步骤402：准备彩膜基板。其中，彩膜基板包括第二连接层，第二连接层朝向阵列基板的一侧表面设有多个第一凸起部或第二收容部。
在一个具体的实施方式中，在第一玻璃基板上依次制备第二柔性基板、黑矩阵层、电极层、第二连接层以及第二配向膜层，以形成彩膜基板。第二连接层的材料为光刻胶，光刻胶材料类型不限，正负性光刻胶均可。第二连接层可透光，经过曝光，显影，烘烤等制程形成包括多个第一凸起部的第二连接层。多个第一凸起部位于第二连接层背向第二柔性基板的一侧，多个第一凸起部的形状为方形，多个第一凸起部呈矩阵式分布在第二连接层上。在其他实施方式中，第二连接层的材料也可是其他材料，第一凸起部也可以通过其他物理或化学等方式形成，第一凸起部的形状也可以为矩形、六边形、圆形或者其他形状，第一凸起部在第二连接层上的排布方式也可以是三角排布等排布方式，本申请对此均不作限定。
步骤403：在多个第一收容部或第二收容部内滴入液晶。
在一个具体的实施方式中，第一收容部里滴入液晶。
步骤404：将多个第一凸起部与多个第一收容部卡合连接，或将多个第二凸起部与多个第二收容部卡合连接，以密封液晶。
在一个具体的实施方式中，将阵列基板上的多个第一收容部与彩膜基板上的多个第一凸起部相互卡合，在阵列基板与彩膜基板之间形成由多个第一收容部和多个第一凸起部围成的密封空间来容纳液晶，液晶位于第二配向膜层和第二配向膜层之间。在阵列基板和彩膜基板卡合后，剥离第一玻璃基板和第二玻璃基板。
为了说明本申请显示面板的制备方法的具体步骤，参阅图5，图6a至图6k。图5是本申请第五实施方式中显示面板的制备方法的流程示意图；图6a是图5中步骤501的示意图；图6b是图5中步骤502的示意图；图6c是图5中步骤503的示意图；图6d是图5中步骤504的第一子步骤示意图；图6e是图5中步骤504的第二子步骤示意图；图6f是图5中步骤504的第三子步骤示意图；图6g是图5中步骤505的示意图；图6h是图5中步骤506的示意图；图6i是图5中步骤507的示意图；图6j是图5中步骤508的示意图；图6k是图5中步骤509的示意图。
结合图5以及图6a-6k，本实施方式中，显示面板的制备方法包括以下步骤：
步骤501：在第一玻璃基板依次制备第一柔性基板、薄膜晶体层和第一连接层。
如图6a所示，在第一玻璃基板610上制备第一柔性基板611、薄膜晶体管层612以及第一连接层613，第一柔性基板611的材料可以是PI和PET等具有透明和柔性性能的材料。此时，第一连接层613上没有收容部。
步骤502：对第一连接层进行曝光，显影，烘烤等制程，形成包括多个收容部的第一连接层。
如图6b所示，利用具有不同透过率的Mask(掩模)对第一连接层613进行曝光，显影，烘烤等制程。Mask类型为Gray tone或者Half tone，在第一连接层613上形成多个收容部6131，多个收容部6131呈矩阵式排列。第一连接层613的造型也可以理解为一个平坦层上设有网格的结构，网格对应的凹槽即为收容部。收容部6131的底部平坦，可以为后续制备薄膜晶体层和像素层提供一个较为平坦的表面，有利于后续液晶在平坦表面进行偏转，提高显示器显示效果。
步骤503：在多个收容部内依次制备像素层和第一配向膜层，以形成阵列基板。
如图6c所示，首先在多个收容部6131上制备像素层614，像素层614包括红色像素、绿色像素以及蓝色像素。可以在一个收容部6131中制备单色像素，也可以在一个收容部6131上制备多种不同的像素，本申请对此不作限定。在制备完像素层614后，在像素层614的表面制备第一配向膜层615，第一配向膜层615的材料可以是PI等材料。
至此，在第一玻璃基板610上形成包括第一柔性基板611、薄膜晶体管层612、第一连接层613、像素层614以及第一配向膜层615的阵列基板61。
步骤504：在第二玻璃基板依次制备第二柔性基板和黑矩阵层、电极层以及第二连接层。
参阅图6d，在第二玻璃基板620上制备第二柔性基板621，第二柔性基板621的材料可以是PI和PET等具有透明和柔性性能的材料。在第二柔性基板621上制备黑色矩阵层622，黑色矩阵层622的材料为黑色光刻胶。
参阅图6e，利用黄光制程将图6d中的黑色矩阵层622进行曝光、显影、烘烤等制程，形成具有矩阵结构的黑色矩阵层622。黑色矩阵层622上形成有矩阵排列的网格6221，光可以透过网格6221射入显示面板，黑色矩阵层622用来进行遮光。
参阅图6f，在黑矩阵层622上制备电极层623。电极层623可以为ITO(Indium Tin Oxides，铟锡氧化物)等材料，电极层623用作彩膜基板上的电极。在电极层623上制备第二连接层624，第二连接层624的材料为透明光刻胶，此时第二连接层624上没有凸起部。
步骤505：对第二连接层进行曝光，显影，烘烤等制程，形成包括多个凸起部的第二连接层。
参阅图6g，对图6f中的第二连接层624进行黄光制程，经过曝光、显影、烘烤等制程形成包括多个凸起部6241的第二连接层624。
步骤506：在多个凸起部上制备第二配向膜层，以形成彩膜基板。
参阅图6h，在制备完第二连接层624后，在多个凸起部6241的表面制备第二配向膜层625，第二配向膜层625的材料可以是PI等材料。在其他实施方式中，为了制程简化，也可以直接在第二连接层624上涂布一整层厚度均匀的第二配向膜层625，由于第二配向膜层625厚度均匀，凸起部仍然存在，可以卡合阵列基板。
至此，在第二玻璃基板620上形成了包括第二柔性基板621、黑矩阵层622上、电极层623、第二连接层624以及第二配向膜层625的彩膜基板62。
步骤507：在阵列基板上的多个收容部内滴入液晶。
参阅图6i，在阵列基板61上的多个收容部6131内滴入液晶63。液晶63被分割在多个收容部6131内，每个收容部6131内的液晶63彼此隔开。
步骤508：多个收容部与多个凸起部互相卡合，在阵列基板和与彩膜基板之间形成有多个由凸起部与收容部围成的密封空间来容纳液晶。
参阅图6j，将阵列基板61上的多个收容部6131与彩膜基板62上的多个凸起部6241相互卡合，在阵列基板61与彩膜基板62之间形成多个由收容部6131和凸起部6241围成的密封空间来容纳液晶63。
步骤509：剥离第一玻璃基板和第二玻璃基板，以形成显示面板。
参阅图6k，在将阵列基板61与彩膜基板62卡合后，剥离阵列基板61上的第一玻璃基板610和彩膜基板62上的第二玻璃基板620，以形成显示面板6。
区别于现有技术，本申请阵列基板上设置多个凸起部或收容部，对应地，在彩膜基板上设置多个收容部或凸起部，通过多个收容部和多个凸起部的卡合连接阵列基板和彩膜基板。一方面，由于多个收容部和多个凸起部卡合连接，可以使得显示面板在弯折时厚度保持均匀；另一方面，由于多个收容部和多个凸起部卡合形成多个空间容纳液晶，有效防止液晶流动。本申请通过多个收容部和多个凸起部卡合连接，从而连接阵列基板和彩膜基板，提高了显示面板弯折时的厚度均匀度，防止液晶随意流动，维持了显示效果。
以上仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。