显示面板和显示装置的制作方法

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板和一种显示装置。

背景技术

现有显示面板厂在显示面板如液晶面板组合时所使用的常见技术为odf(onedropfilling，滴下式注入法)技术。此技术主要是在真空环境下，将胶材涂布于基板上，定义出各区所需液晶分区范围，并将液晶材料分批分点分散滴入该基板上，再与另一基板相互对组，压合并进行紫外光固化，则完成液晶cell(液晶面板)制作。为了方便控制液晶cell盒厚度，利用制作不同高度的间隔物来调控、固定整体液晶cell盒厚度，获得稳定的光学显示效果。而在该液晶cell盒内，液晶盒cell厚度并非只由间隔物的高度来决定，液晶盒cell厚度与填充的液晶量、间隔物高度、各层金属膜的厚度和间隔物所在位置的高度差异有关。填充液晶量过多，会使得液晶盒cell产生重力mura(即在高温通电时液晶显示屏下边缘出现色不均的现象)，填充的液晶量不足，则容易产生空气气泡。而间隔物的高度也会影响液晶盒cell厚度。

目前比较常见的是使用两种不同高度的间隔物，按一定比例均匀分布在显示器显示区内的彩色滤光片基板上。此设计因具有不同间隔物高度，可实现支撑、耐压和调控液晶量的功能。但这种方式下的间隔物高度差仅为不同高度间隔物的高度差，所能调控的液晶调控盈余量仍然不够大。若间隔物间的相对高度差异越大，则液晶量的调控越有弹性，液晶盈余量也越大。因此，如何获得更大的间隔物高度差来增加液晶盈余量是目前液晶显示技术中的一个难题。

技术实现要素：

因此，本发明的实施例提供一种显示面板，以获得更大的间隔物高度差，提高液晶量的调控能力，增加液晶盈余量。

具体地，本发明实施例提供的一种显示面板，包括：开关阵列基板，包括扫描线；对向基板，与所述开关阵列基板相对设置，所述对向基板包括色阻层和多个间隔物，所述色阻层包括第一颜色色阻和第二颜色色阻，所述第一颜色色阻在所述开关阵列基板上的投影与所述扫描线具有第一重叠区域，所述第二颜色色阻在所述开关阵列基板上的投影与所述扫描线具有第二重叠区域，所述多个间隔物位于所述色阻层的邻近所述开关阵列基板的一侧且包括第一间隔物和第二间隔物；以及显示介质层，设置在所述开关阵列基板和所述对向基板之间；其中，所述第一间隔物位于所述第一颜色色阻的所述第一重叠区域内并由所述第一颜色色阻支撑，所述第二颜色色阻的所述第二重叠区域内形成有第一开孔、且所述第二间隔物位于所述第一开孔内，以及所述第一颜色色阻到所述开关阵列基板的第一距离小于所述第二颜色色阻到所述开关阵列基板的第二距离。

在本发明的一个实施例中，所述第一间隔物与所述第二间隔物的高度差大于或等于所述第二颜色色阻形成所述第一开孔之前在所述第二重叠区域的初始厚度。

在本发明的一个实施例中，所述第一间隔物的高度大于所述第二间隔物的高度。

在本发明的一个实施例中，所述对向基板还包括：黑色矩阵，位于所述色阻层的远离所述开关阵列基板的一侧；所述黑色矩阵在所述第二重叠区域内设置有第二开孔，且所述第二开孔与所述第一开孔相连通，所述第二间隔物位于所述第二开孔内以由所述第二开孔环绕。

在本发明的一个实施例中，所述第二开孔与所述第一开孔的形状相同且所述第一开孔的开孔尺寸大于所述第二开孔的开孔尺寸。

在本发明的一个实施例中，所述第一间隔物与所述第二间隔物的高度差大于或等于所述第二颜色色阻形成所述第一开孔之前在所述第二重叠区域的初始厚度与所述黑色矩阵形成所述第二开孔之前在所述第二重叠区域的初始厚度之和。

在本发明的一个实施例中，所述第一颜色色阻在所述第一重叠区域内沿所述扫描线长度方向上的两侧边界上设置有开口。

在本发明的一个实施例中，所述对向基板还包括透明电极层，所述透明电极层位于所述色阻层的邻近所述开关阵列基板的一侧并覆盖所述第一颜色色阻和所述第二颜色色阻，且所述透明电极层还位于所述第一开孔和所述第二开孔内；所述第一间隔物和所述第二间隔物位于所述透明电极层的邻近所述开关阵列基板的一侧。

在本发明的一个实施例中，所述对向基板还包括黑色矩阵和透明电极层，所述黑色矩阵位于所述色阻层的远离所述开关阵列基板的一侧，所述透明电极层位于所述色阻层的邻近所述开关阵列基板的一侧并覆盖所述第一颜色色阻和所述第二颜色色阻，且所述透明电极层还位于所述第一开孔内；所述第一间隔物和所述第二间隔物位于所述透明电极层的邻近所述开关阵列基板的一侧。

本发明实施例提供的一种显示装置，包括第一偏振片、第二偏振片以及如前述任意一种显示面板，所述第一偏振片和所述第二偏振片分设于所示显示面板的相对两侧。

上述技术方案可以具有如下一个或多个优点：本发明实施例通过在第一颜色色阻在开关阵列基板上的投影与扫描线形成的第一重叠区域内设置第一间隔物，在第二颜色色阻在开关阵列基板上的投影与扫描线形成的第二重叠区域内形成第一开孔并在第一开孔内设置第二间隔物，以在第一间隔物和第二间隔物之间形成更大的高度差，提高液晶量的调控能力，增加液晶盈余量。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明一个实施例的一种显示面板的截面示意图；

图2为色阻层在开关阵列基板上的投影与扫描线、间隔物的位置关系的平面示意图；

图3为本发明另一个实施例的一种显示面板的截面示意图；

图4为色阻层和黑色矩阵分别在开关阵列基板上的投影与扫描线、间隔物的位置关系的平面示意图；

图5为一种颜色色阻边界开口的显示面板的的截面示意图；

图6为颜色色阻边界开口的平面示意图；

图7为本发明又一个实施例的一种显示装置的截面示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

参见图1和图2，其中图1为本发明一个实施例的一种显示面板10的截面示意图，图2为色阻层在开关阵列基板上的投影与扫描线、间隔物之间的位置关系的示意图。

具体地，本发明一个实施例提供一种显示面板10，包括：开关阵列基板110、对向基板120以及显示介质层130。

开关阵列基板110可以是如薄膜晶体管(thinfilmtransistor,tft)阵列基板等阵列基板，用于传输和控制电信号。如图1所示，开关阵列基板110包括基底b1。基底b1可由例如玻璃、石英、有机聚合物或是其它可适用的材料制成。开关阵列基板110还包括扫描线gl，扫描线gl形成于基底b2上。扫描线gl的材料可为钼、铝、铜、钛、钨等。开关阵列基板110还包括绝缘层gn，绝缘层gn位于扫描线gl远离基底b1的一侧。开关阵列基板110还包括钝化层pn，钝化层pn位于绝缘层gn远离基底b1的一侧。

另外，如图1所示，对向基板120与开关阵列基板110相对设置。对向基板120可例如为彩色滤光片基板之类的基板，用于实现色彩的显示。对向基板120包括色阻层cr。色阻层cr的材料可例如为树脂类颜料分散型彩色光刻胶等。色阻层cr包括多个不同颜色的色阻，例如红色色阻、绿色色阻或者蓝色色阻，当然也可以是其它颜色色阻，例如黄色色阻、白色色阻等。如图2所示，色阻层cr包括多个条状排列的颜色色阻，例如颜色色阻cr1(第一颜色色阻)和颜色色阻cr2(第二颜色色阻)。颜色色阻cr1在开关阵列基板110上的投影与扫描线gl具有重叠区域or1(第一重叠区域)，颜色色阻cr2在开关阵列基板110上的投影与扫描线gl具有重叠区域or2(第二重叠区域)。

如图1所示，对向基板120还包括多个间隔物ps。间隔物ps的材料可以例如为光阻材料。间隔物ps位于色阻层cr邻近开关阵列基板110的一侧。间隔物ps包括间隔物ps1(第一间隔物)和间隔物ps2(第二间隔物)。间隔物ps1的高度(即图1中竖直方向上间隔物ps1上、下两端之间的距离)为h1，间隔物ps2的高度(即图1中竖直方向上间隔物ps2上、下两端之间的距离)为h2。可选地，间隔物ps1的高度h1大于间隔物ps2的高度h2。

如图2所示，间隔物ps1位于颜色色阻cr1的重叠区域or1内并由颜色色阻cr1支撑，颜色色阻cr2的重叠区域or2内形成有开孔k1(第一开孔)，并且间隔物ps2位于开孔k1内。值得一提的是，重叠区域or2内的开孔k1可以为在颜色色阻cr2的宽度方向(图2中的水平方向)上贯穿颜色色阻cr2。间隔物ps1邻近开关阵列基板110的一端到开关阵列基板110的距离为间隔物ps1到开关阵列基板110的第一距离d1，间隔物ps2邻近开关阵列基板110的一端到开关阵列基板110的距离为间隔物ps2到开关阵列基板110的第二距离d2，且d1小于d2。d2与d1的差值用间隔物ps1与间隔物ps2的高度差d表示，即d＝d2-d1。当间隔物ps1的高度h1等于间隔物ps2的高度h2时，间隔物ps1与间隔物ps2的高度差d等于颜色色阻cr2上形成开孔k1之前在重叠区域or2的初始厚度。当间隔物ps1的高度h1大于间隔物ps2的高度h2时，间隔物ps1与间隔物ps2的高度差d大于颜色色阻cr2上形成开孔k1之前在重叠区域or2的初始厚度。这样一来使得间隔物ps1与间隔物ps2间形成了较大的高度差，可获得较大的显示介质调控盈余量。

此外，对向基板120还包括黑色矩阵bm。黑色矩阵bm位于色阻层cr远离开关阵列基板110的一侧。黑色矩阵bm的材料可例如为含碳黑的黑色光阻等不透明材料。黑色矩阵bm的主要作用是防止漏光、增大对比度。进一步地，对向基板120还可包括透明电极层ce。透明电极层ce位于色阻层cr邻近开关阵列基板110的一侧并覆盖色阻层cr1和色阻cr2。另外，透明电极层ce还位于开孔k1内。间隔物ps1和间隔物ps2位于透明电极层ce的邻近开关阵列基板110的一侧。透明电极层ce可例如为氧化锡铟(indium-tin-oxide，ito)等透明氧化物材料。此处值得一提的是，对于透明电极层ce，其可以是一整片透明导电层，或者也可以是多个条状透明导电层，又或者为呈行列排布的多个透明导电块。

再者，如图1所示，显示介质层30例如液晶层设置于开关阵列基板110和对向基板120之间。

值得一提的是，对向基板120还包括基底b2。基底b2位于黑色矩阵bm远离开关阵列基板110的一侧。基底b2的材料可例如为玻璃、石英、有机聚合物或是其它可适用的材料。

参见图3和图4，其中图3为本发明另一实施例的一种显示面板10的截面示意图，图4为色阻层和黑色矩阵分别在开关阵列基板上的投影与扫描线、间隔物之间的位置关系的示意图。

具体地，本发明另一个实施例提供一种显示面板10，包括：开关阵列基板110、对向基板120以及显示介质层130。

开关阵列基板110可以是如薄膜晶体管(thinfilmtransistor,tft)阵列基板等阵列基板，用于传输和控制电信号。如图3所示，开关阵列基板110包括基底b1。基底b1可由例如玻璃、石英、有机聚合物或是其它可适用的材料制成。开关阵列基板110还包括扫描线gl，扫描线gl形成于基底b1上，扫描线gl的材料可为钼、铝、铜、钛、钨等。开关阵列基板110还包括绝缘层gn，绝缘层gn位于扫描线gl远离基底b2的一侧。开关阵列基板110还包括钝化层pn，钝化层pn位于绝缘层gn远离基底b2的一侧。

如图3所示，对向基板120与开关阵列基板110相对设置。对向基板120可例如为彩色滤光片基板之类的基板，用于实现色彩的显示。对向基板120包括色阻层cr。色阻层cr的材料可例如为树脂类颜料分散型彩色光刻胶等。色阻层cr包括多个不同颜色的颜色色阻，例如红色色阻、绿色色阻或者蓝色色阻，当然也可以是其它颜色色阻，例如黄色色阻、白色色阻等。如图4所示，色阻层cr包括多个呈行列分布的条状的颜色色阻，例如颜色色阻cr1(第一颜色色阻)和颜色色阻cr2(第二颜色色阻)。颜色色阻cr1在开关阵列基板110上的投影与扫描线gl具有重叠区域or1(第一重叠区域)，颜色色阻cr2在开关阵列基板110上的投影与扫描线gl具有重叠区域or2(第二重叠区域)。

如图3所示，对向基板120还包括多个间隔物ps。间隔物ps的材料可以例如为光阻材料。间隔物ps位于色阻层cr邻近开关阵列基板110的一侧。间隔物ps包括间隔物ps1(第一间隔物)和间隔物ps2(第二间隔物)。间隔物ps1的高度(即图3中竖直方向上间隔物ps1上、下两端之间的距离)为h1，间隔物ps2的高度(即图3中竖直方向上间隔物ps2上、下两端之间的距离)为h2。可选地，间隔物ps1的高度h1大于间隔物ps2的高度h2。

如图4所示，间隔物ps1位于颜色色阻cr1的重叠区域or1内并由颜色色阻cr1支撑，颜色色阻cr2的重叠区域or2内形成有开孔k1(第一开孔)，并且间隔物ps2位于开孔k1内。值得一提的是，重叠区域or2内的开孔k1可以为在颜色色阻cr2的宽度方向(图2中的水平方向)上贯穿颜色色阻cr2。间隔物ps1邻近开关阵列基板110的一端到开关阵列基板110的距离为间隔物ps1到开关阵列基板110的第一距离d1，间隔物ps2邻近开关阵列基板110的一端到开关阵列基板110的距离为间隔物ps2到开关阵列基板110的第二距离d2，且d1小于d2。d2与d1的差值用间隔物ps1与间隔物ps2的高度差d表示，即d＝d2-d1。当间隔物ps1的高度h1等于间隔物ps2的高度h2时，间隔物ps1与间隔物ps2的高度差d等于颜色色阻cr2上形成开孔k1之前在重叠区域or2的初始厚度。当间隔物ps1的高度h1大于间隔物ps2的高度h2时，间隔物ps1与间隔物ps2的高度差d大于颜色色阻cr2上形成开孔k1之前在重叠区域or2的初始厚度。这样一来使得间隔物ps1与间隔物ps2间形成了高度差，可获得较大的显示介质调控盈余量。

再者，对向基板120还包括透明电极层ce。透明电极层ce位于色阻层cr邻近开关阵列基板110的一侧并覆盖色阻层cr1和色阻cr2。透明电极层ce可例如为氧化锡铟(indium-tin-oxide，ito)等透明氧化物材料。此处值得一提的是，对于透明电极层ce，其可以是一整片透明导电层，或者也可以是多个条状透明导电层，又或者为呈行列排布的多个透明导电块。

此外，对向基板120还包括黑色矩阵bm。黑色矩阵bm的材料可例如为含碳黑的黑色光阻等不透明材料。黑色矩阵bm的主要作用是防止漏光、增大对比度。如图4所示，黑色矩阵bm位于色阻层cr远离开关阵列基板110的一侧。黑色矩阵bm在重叠区域or2内设置有开孔k2(第二开孔)，开孔k2与开孔k1相连通。间隔物ps2位于开孔k2内以由开孔k2环绕。因此，当h1等于h2时，间隔物ps1与间隔物ps2的高度差d等于颜色色阻cr2上形成开孔k1之前在重叠区域or2的初始厚度与黑色矩阵bm形成开孔k2之前在重叠区域or2的初始厚度之和。当间隔物ps1的高度h1大于间隔物ps2的高度h2时，距离d2与距离d1的差值d大于颜色色阻cr2上形成开孔k1之前在重叠区域or2的初始厚度与黑色矩阵bm形成开孔k2之前在重叠区域or2的初始厚度之和。这样一来，间隔物ps1与间隔物ps2的高度差d进一步增大，可进一步获得更大的显示介质调控盈余量。

可选地，开孔k2与开孔k1的形状相同，例如开孔k2和开孔k1的形状均为方形、圆形或者其他形状。

进一步可选地，开孔k2和开孔k1的开孔尺寸不相同，例如开孔k1的开孔尺寸大于开孔k2的开孔尺寸，即开孔k2和开孔k1的形状均为圆形时，开孔k1的圆形直径大于开孔k2的圆形直径。

更进一步可选地，如图5和图6所示，颜色色阻cr1在重叠区域or1内沿扫描线gl长度方向(图6中水平x方向)上的两侧边界上设置有开口gp，如此一来，开关阵列基板110上的扫描线gl与对向基板120上的透明电极层ce之间的距离较远，可以降低扫描线gl与透明电极层ce之间的电容，从而降低扫描线gl的驱动负载。

另外，对向基板120还包括基底b2。基底b2位于黑色矩阵bm远离开关阵列基板110的一侧。基底b2的材料可例如为玻璃、石英、有机聚合物或是其它可适用的材料。

如图3所示，显示介质层30例如液晶层设置于开关阵列基板110和对向基板120之间。

此外，值得一提的是，显示面板100还可以设置环绕显示介质层30并位于开关阵列基板110和对向基板120之间的框胶(图中未示出)，从而所述框胶和开关阵列基板110及对向基板120共同形成一个容置空间以容纳显示介质层30。

综上所述，本发明实施例通过在颜色色阻cr1在开关阵列基板110上的投影与扫描线gl形成的重叠区域or1内设置间隔物ps1，在颜色色阻cr2在开关阵列基板110上的投影与扫描线gl形成的重叠区域or2内形成开孔k1并在开孔k1内设置间隔物ps2，以获取间隔物ps1与间隔物ps2之间更大的高度差d，提高液晶量的调控能力，增加液晶盈余量。进一步的，黑色矩阵bm在重叠区域or2内的设置开孔k2，并将间隔物ps2设置于开孔k2内以由开孔k2环绕，以进一步获取间隔物ps1与间隔物ps2之间更大的高度差d，提高液晶量的调控能力，增加液晶盈余量。

如图7所示，本发明又一个实施例提供一种显示装置1包括显示面板10、第一偏振片20和第二偏振片30。显示面板10可以例如为前述实施例中的显示面板。第一偏振片20和所述第二偏振片30分设于显示面板10的相对两侧。第一偏振片20的偏振方向和第二偏振片30的偏振方向典型地相互垂直。

显示装置1的实施和技术效果可以参见上述显示面板10的实施例，在此不再赘述。

在本申请所提供的几个实施例中，应该理解到，所揭露的系统，装置和方法，可以通过其它的方式实现。例如，以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如，所述单元的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，例如多路单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统，或一些特征可以忽略，或不执行。另一点，所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通信连接可以是通过一些接口，装置或单元的间接耦合或通信连接，可以是电性，机械或其它的形式。

所述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多路网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例方案的目的。

最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。