光配向掩膜版修复方法与流程

技术特征：

技术总结
本发明提供了一种光配向掩膜版修复方法，涉及半导体技术领域，用于对损伤后的掩膜版进行修补。其中，本发明实施例提供的光配向掩膜版修复方法，包括：先对待修复掩膜版的损伤位置涂抹第一遮光色阻，然后，在预设温度环境中对所述待修复掩膜版进行加热，最后，对所述待修复掩膜版进行清洗，以形成修复后掩膜版。

技术研发人员：戴明鑫;李林;刘聪聪;陈林;杨俊
受保护的技术使用者：成都中电熊猫显示科技有限公司
技术研发日：2019.01.07
技术公布日：2019.03.15