汇聚外部光线至正对的色阻单元上，各微透镜单元131之间还设置有第二黑矩阵16，通过该第二黑矩阵16将透镜层13上的各微透镜单元131相互分隔，从而实现显示面板中各子像素之间的相互分隔。
[0044]参见图4，图4是本发明实施方式提供的又一种彩膜基板的示意图，该彩膜基板包括衬底基板11、色阻层12、与色阻层12层叠设置的透镜层13以及设置在透镜层13上的保护层14 ；
[0045]其中，色阻层12包括多种颜色的色阻单元121，每一个色阻单元对应于显示面板的一个子像素，各色阻单元之间设置有第一黑矩阵15，通过该第一黑矩阵15将色阻层12上的各色阻单元相互分隔；
[0046]透镜层13包括与每一个色阻单元121--正对的微透镜单元131，每一个微透镜单元131用于汇聚外部光线至正对的色阻单元上，各微透镜单元131之间设置有第二黑矩阵16，通过该第二黑矩阵16将透镜层13上的各微透镜单元131相互分隔；
[0047]在本发明实施方式提供的彩膜基板中，色组层中的第一黑矩阵与透镜层的第二黑矩阵相互正对设置，通过该第一黑矩阵和该第二黑矩阵共同实现显示面板上子像素之间的分隔，并且相对于图1和图2中只设置一层黑矩阵的方式，本发明实施方式提供的彩膜基板能够进一步地防止相邻子像素之间的相互串扰。
[0048]此外，本发明实施方式还提供了一种显示装置，包括上述的彩膜基板。其中，本发明实施方式提供的显示装置可以是笔记本电脑显示屏、液晶显示器、液晶电视、数码相框、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或部件。
[0049]参见图5，图5是本发明实施方式提供的一种显示装置的示意图，该显示装置为反射式显示装置，其包括上述的彩膜基板I以及阵列基板2，其中，彩膜基板上的每一个色阻单元121与阵列基板上的一个子像素区域正对设置，如图5所示，通过透镜层13可以实现显示面板中每一个子像素外部光线的聚集，减少外部光线透过色阻单元后直接进入以及反射后进入相邻子像素的光量，从而提高光线的出射率，减少相邻子像素之间的相互串扰，从而提高显示的对比度和色域。
[0050]此外，本发明实施方式还提供了一种彩膜基板的制作方法，包括:在衬底基板上形成色阻层以及与所述色阻层层叠设置的透镜层，所述色阻层包括多个色阻单元，所述透镜层包括与每一个色阻单元一一正对的微透镜单元，每一个所述微透镜单元用于汇聚外部光线至正对的色阻单元上；
[0051]其中，在衬底基板上形成色阻层以及与色阻层层叠设置的透镜层具体包括:
[0052]S1:在衬底基板上形成色阻层，所述色阻层包括多个色阻单元；
[0053]S2:在所述衬底基板背向所述色阻层的一侧形成光刻胶层，具体地，参见图6，可以在衬底基板的背面(即衬底基板背向色阻层12的一侧)涂覆一层透明的光刻胶层1310，其厚度可以为4um_8um，例如可以为5um、6um、7um等；
[0054]S3:对所述光刻胶层进行图案化处理以形成与每一个色阻单元一一正对的透明单元，且每一个所述透明单元的边缘呈阶梯状结构，具体地，参见图7，可以采用灰色调掩膜(Gray Tone Mask)工艺对光刻胶层1310进行图案化处理，从而形成与每一个色阻单元121--正对的透明单元1311，并使每一个透明单元1311的边缘呈阶梯状结构；
[0055]S4:进行灰化处理使每一个透明单元形成透镜状结构，参见图8，每一个透明单元1311在灰化处理后形成微透镜单元131。
[0056]优选地，在步骤SI之前还包括:
[0057]在所述衬底基板用于形成所述色阻层的一侧形成第一黑矩阵，所述第一黑矩阵用于将所述多个色阻单元之间相互分隔。
[0058]优选地，在步骤S2之前还包括:
[0059]在所述衬底基板背向所述色阻层的一侧形成第二黑矩阵，所述第二黑矩阵用于将多个微透镜单元之间相互分隔。
[0060]优选地，在步骤S4之后还包括:在所述透镜层上形成保护层。
[0061]以上实施方式仅用于说明本发明，而并非对本发明的限制，有关技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，还可以做出各种变化和变型，因此所有等同的技术方案也属于本发明的范畴，本发明的专利保护范围应由权利要求限定。
【主权项】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括衬底基板、设置在所述衬底基板上的色阻层以及与所述色阻层层叠设置的透镜层，所述色阻层包括多个色阻单元，所述透镜层包括与每一个色阻单元一一正对的微透镜单元，每一个所述微透镜单元用于汇聚外部光线至正对的色阻单元上。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括设置在所述多个色阻单元之间以将所述多个色阻单元相互分隔的第一黑矩阵。
3.根据权利要求1或2所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括设置在多个所述微透镜单元之间以将多个所述微透镜单元相互分隔的第二黑矩阵。
4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述透镜层设置在所述衬底基板背向所述色阻层的一侧，所述透镜层上还形成有保护层。
5.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述保护层的折射率小于所述透镜层的折射率。
6.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-5任一所述的彩膜基板。
7.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括:在衬底基板上形成色阻层以及与所述色阻层层叠设置的透镜层，所述色阻层包括多个色阻单元，所述透镜层包括与每一个色阻单元一一正对的微透镜单元，每一个所述微透镜单元用于汇聚外部光线至正对的色阻单元上。
8.根据权利要求7所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成色阻层以及与所述色阻层层叠设置的透镜层包括: 在衬底基板上形成色阻层，所述色阻层包括多个色阻单元； 在所述衬底基板背向所述色阻层的一侧形成光刻胶层； 对所述光刻胶层进行图案化处理以形成与每一个色阻单元一一正对的透明单元，且每一个所述透明单元的边缘呈阶梯状结构； 进行灰化处理使每一个透明单元形成透镜状结构。
9.根据权利要求8所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述光刻胶层的厚度为4um_8um0
10.根据权利要求8所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成色阻层之前还包括: 在所述衬底基板用于形成所述色阻层的一侧形成第一黑矩阵，所述第一黑矩阵用于将所述多个色阻单元之间相互分隔。
11.根据权利要求8或10所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述在所述衬底基板背向所述色阻层的一侧形成光刻胶层之前还包括: 在所述衬底基板背向所述色阻层的一侧形成第二黑矩阵，所述第二黑矩阵用于将多个微透镜单元之间相互分隔。
12.根据权利要求8所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述进行灰化处理使每一个透明单元形成透镜状结构之后还包括:在所述透镜层上形成保护层。
【专利摘要】本发明提供了一种彩膜基板及其制作方法、显示装置，该彩膜基板包括衬底基板、设置在所述衬底基板上的色阻层以及与所述色阻层层叠设置的透镜层，所述色阻层包括多个色阻单元，所述透镜层包括与每一个色阻单元一一正对的微透镜单元，每一个所述微透镜单元用于汇聚外部光线至正对的色阻单元上。本发明提供的彩膜基板，通过在彩膜基板中增设与色阻层层叠设置的透镜层，通过该透镜层可以实现显示面板中每一个子像素外部光线的聚集，减少外部光线透过色阻单元后直接进入以及反射后进入相邻子像素的光量，从而提高光线的出射率，减少相邻子像素之间的相互串扰，提高显示的对比度和色域。
【IPC分类】G02F1-1335
【公开号】CN104678641
【申请号】CN201510117050
【发明人】何晓龙, 曹占锋, 姚琪, 孔祥春, 张斌, 高锦成, 张伟, 李正亮, 孙雪菲
【申请人】京东方科技集团股份有限公司
【公开日】2015年6月3日
【申请日】2015年3月17日