中的至少一者的最外层之上还具有疏水疏油膜，所述疏水疏油膜包含含有氟取代烷基的 有机硅化合物。
5. 根据权利要求4所述的光学元件，所述含有氟取代烷基的有机硅化合物为选自下述 通式⑴~（6)中的1种以上的含有氟取代烷基的有机硅化合物：
式（1)中，Rf表示碳原子数1~16的直链状或支链状全氟烷基，Y表示碘或氢，Y'表 示氢或碳原子数1~5的低级烷基，Y"表示氟或三氟甲基，R1表示可水解的基团，R2表示氢 或惰性的一价有机基团，a、b、c、d分别表不O~200的整数，e表不O或1，s和t分别表不 0~2的整数，w表示1~10的整数； F-(CF2)tr(OC3F6)m-(OC 2F4)n-(OCF2)tj(CH 2)pXX" Si (X，）3_k(R3)k …⑵ F- (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n- (OCF2) 0 (CH2) PXX " (X，）2_k (R3) kSiO (F_ (CF上-(OC3F6) ffl-(OC2F4)n-(OCF2) 0 (CH2)pXX " (X，）η (R3) kSiO) 2F- (CF2) (OC3F) m- (OC2F4) n- (OCF2)。(CH2) PXX" (X'）2_k (R3)kSi …（3) F- (CF2)(OC3F6) m- (OC2F4) n- (OCF2)。(CH2) PX (CH2) rSi (X，）3_k (R3) k …⑷ F- (CF2)(OC3F6) n- (OC2F4) n- (OCF2)。(CH2) PX (CH2) r (X'）2_k (R3) kSiO (F- (CF2) r (OC3F6) m- (OC2F4) n- (OCF2)。(CH2) PX (CH2) r (X，）η (R3) kSiO) ZF- (CH2)(OC3F6) m- (OC2F4) n- (OCF2)。(CH2) PX (CH2) r (X，）2_k (R3)kSi …（5) 式（2)~（5)中，X表示氧或二价有机基团，X'表示可水解的基团，X"表示二价有机硅 氧烷基团，R3表示碳原子数1~22的直链状或支链状亚烷基，q表示1~3的整数，m、n、〇 分别表示0~200的整数，p表示1或2, r表示2~20的整数，k表示0~2的整数，z在 k为0或1时表示0~10的整数；
式（6)中，Rf2表示2价直链状全氟聚醚基，R 4表示碳原子数1~4的烷基或苯基，R5 表示可水解的基团，i表示〇~2的整数，j表示1~5的整数，u表示2或3。
6. 根据权利要求1~5中任一项所述的光学元件，所述多层膜为4层以上的多层膜。
7. 根据权利要求1~6中任一项所述的光学元件，在所述塑料基材和所述多层膜之间 具有功能性薄膜。
8. 根据权利要求1~7中任一项所述的光学元件，在构建所述多层膜的高折射率材料 与低折射率材料之间具有厚度20nm以下的电介质膜或金属膜。
9. 根据权利要求8所述的光学元件，所述高折射率材料含有二氧化锆，所述低折射率 材料含有二氧化硅。
10. 根据权利要求1~9中任一项所述的光学元件，其用于眼镜透镜。
11. 根据权利要求1~10中任一项所述的光学元件的制造方法，所述光学元件具有塑 料基材、和配置于所述塑料基材的由面1和面2构成的两面的多层膜，所述制备方法的特征 在于，具备以下工序： 对所述塑料基材进行加热的工序，和在通过所述加热将所述塑料基材调节为规定温度 后，在所述塑料基材上形成所述多层膜的工序， 形成所述多层膜的工序具有以下步骤：将高折射率材料和低折射率材料交替层叠多层 而形成多层结构的高折射率层的步骤，和在所述高折射率层上形成由折射率比所述高折射 率层的折射率低的低折射率材料构成的低折射率层的步骤， 对于配置于所述塑料基材的所述面1的所述多层膜，示出波长与反射率关系的分光特 性曲线，在第1波长处具有一个极大值，并且在所述第2波长处具有一个极小值，所述第1 波长在380~780nm的波长范围，所述第2波长在下述波长范围：在所述第1波长的长波长 侧且距所述第1波长200nm以内，在所述第1波长前后25nm的波长范围，配置于所述面1 的所述多层膜的平均反射率为50%以下， 在所述第1波长前后25nm的所述波长范围，配置于所述塑料基材的所述面2的所述多 层膜的平均反射率为配置于所述面1的所述多层膜的平均反射率的40%以下， 对于配置于所述塑料基材的所述面2的所述多层膜，示出波长与反射率关系的分光特 性曲线，在所述第1波长前后25nm的所述波长范围不具有极大值。
12. 根据权利要求11所述的光学元件的制造方法，包含使用真空蒸镀法形成所述多层 膜的工序。
13. 根据权利要求11或12所述的光学元件的制造方法，形成所述多层膜的工序包含以 下工序：对构建所述多层膜的层中的至少一层，在实施离子束辅助处理的情况下进行成膜 的工序。
14. 根据权利要求13所述的光学元件的制造方法，所述离子束辅助处理使用选自惰性 气体、氧气或惰性气体与氧气的混合气体来进行。
15. 根据权利要求14所述的光学元件的制造方法，所述惰性气体为氩气。
16. -种重影光的定量方法，所述重影光是在具有塑料基材、和配置于所述塑料基材的 由面1和面2构成的两面的多层膜的光学元件内通过光的多重反射而产生的，所述定量方 法的特征在于， 由配置于所述面1的多层膜的分光反射率R1 ( λ )[%]、配置于所述面2的多层膜的分 光反射率馬（\)[%]和以下公式⑴求出Αη(λ)，
公式⑴中，η表示1以上的整数， 由所述R1 ( λ )、所述R2 ( λ )、所述An( λ )、所述塑料基材的吸光率F ( λ ) [% ]和以下公 式（2)，求出由光学元件内的多重反射产生的重影光的分光特性Tgn(X) [% ]，
公式⑵中，η表示1以上的整数， 使用所述Tgn(X),根据JIS8701，由标准光源（D65)的相对分光强度S(X)、等色函数 χ(λ)γ(λ)ζ(λ)和以下公式⑶求出K，
由所述Κ、所述SU)、所述等色函数χ(λ)γ(λ)ζ(λ)、所述Tgn(A)和以下公式⑷， 求出三刺激值XYZ的Y值，
将所述Y值的值作为重影光的强度。
【专利摘要】一种光学元件，配设于塑料基材的面1的多层膜的分光特性曲线在第1波长处具有一个极大值，并且在第2波长处具有一个极小值，所述第1波长在380～780nm的波长范围，所述第2波长在长波长侧距第1波长200nm以内的波长范围，在距第1波长前后25nm的波长范围，配设于面1的多层膜的平均反射率为50％以下，在距第1波长前后25nm的波长范围，配设于塑料基材的面2的多层膜的平均反射率为配设于面1的多层膜的平均反射率的40％以下，且配设于面2的多层膜的分光特性曲线在距第1波长前后25nm的波长范围不具有极大值。
【IPC分类】G02C7-02, G02B27-00
【公开号】CN104838305
【申请号】CN201380055532
【发明人】宫本聪, 友田政兴
【申请人】株式会社尼康依视路
【公开日】2015年8月12日
【申请日】2013年10月18日
【公告号】CA2889496A1, EP2916148A1, US20150234209, WO2014069250A1