冷却喷嘴和电缆被集成在一起的部件的光源单元。光源单元包括包含冷却喷嘴54A和容纳于冷却喷嘴54A中的电缆53A的部件56(遮光部件)。图9B示出沿由箭头表示的方向从线IXB-1XB观看的光源单元。由于冷却喷嘴和电缆被集成在一起，因此，沿其截面被椭球镜50反射的光束的光强度分布包含该集成部件的单个阴影。因此，与冷却喷嘴和电缆相互分开且形成两个阴影的情况相比，来自光源单元的光量的损失可减少。在这种情况下，与第一和第二例子中同样，光源单元也被布置为使得在有效光源分布中各光源单元的其中冷却喷嘴和电缆集成在一起的遮光部件的阴影的位置与包含于其它光源单元中的遮光部件的阴影的位置分开。
[0051]即使当冷却喷嘴和电缆是分开的部件时，冷却喷嘴和电缆也可被布置于各光源单元中，使得冷却喷嘴的阴影和电缆的阴影在有效光源分布中重叠。例如，如图10A和图10B所示，冷却喷嘴54A和电缆53A可被布置为使得冷却喷嘴54A的阴影和电缆53A的阴影重叠以形成单个阴影65。形成阴影的冷却喷嘴54A和电缆53A可具有相同的宽度。当冷却喷嘴54A和电缆53A不能被构建为具有相同的宽度时，沿光行进方向的冷却喷嘴54A和电缆53A之间的相对位置可被事先调整，使得冷却喷嘴54A的阴影和电缆53A的阴影在有效光源分布中具有相同的宽度。光行进方向是与连接椭球镜50的一次焦点和二次焦点的线平行的方向。
[0052]第二实施例
[0053]图11是示出根据第二实施例的曝光装置的示意图。根据本实施例的曝光装置与根据第一实施例的曝光装置的不同在于，设置测量单元500和调整单元(控制器600以及调整机构700A、700B和700C)。与第一实施例中的结构类似的结构的描述被省略。
[0054]在本实施例中，视野光阑6包含具有测量有效光源分布的测量单元500的遮光板。测量单元500用二维布置的图像拾取元件(CCD等)测量穿过视野光阑6的遮光板中的针孔(开口)的光。根据入射于针孔上的光的角度分布(对于各入射角的光束强度)在图像拾取元件上形成光强度分布。因此，由图像拾取器件测量的光强度分布与有效光源分布对应。根据本实施例的照明器件还包括控制器600和调整机构700A、700B和700C，所述调整机构700A、700B和700C调整光源单元1A、1B和1C的角度和位置。调整机构根据由控制器600发出的控制命令被驱动。
[0055]现在描述用于调整照明器件的方法。图12是调整方法的流程图。首先，在步骤S102中，通过使用测量单元500测量有效光源分布。然后，在步骤S104中，控制器600评价由测量单元500测量的有效光源分布。控制器600获取由测量单元500执行的有效光源分布的测量结果的数据，并且，确定有效光源分布中的光强度低的区域的位置，即包含于光源单元中的遮光部件的阴影的位置。
[0056]然后，在步骤S106中，基于在步骤S104中执行的评价的结果调整光源单元的遮光部件的布置。例如，假定在步骤S104中确定光源单元的遮光部件的多个阴影在有效光源分布中重叠。在这种情况下，对于包含与重叠阴影对应的遮光部件的光源单元，调整相应椭球镜的主轴周围的光源单元的旋转角度和遮光部件的位置。更具体而言，当作为由控制器600执行的评价的结果确定包含于光源单元1A中的遮光部件的阴影与包含于光源单元1B中的遮光部件的阴影重叠时，调整光源单元1A的遮光部件与光源单元1B的遮光部件之间的相对位置。例如，控制器600向调整机构700A发出命令，使得光源单元1A的遮光部件的阴影的位置与光源单元1B的遮光部件的阴影的位置分开，并且，调整机构700A调整相对应的椭球镜的主轴周围的光源单元1A的旋转角度。作为替代方案，光源单元1A中的布置遮光部件的位置可被调整。
[0057]作为替代方案，在步骤S104中执行的评价处理中，可在有效光源分布中沿两个垂直的方向累积各位置处的光强度，以计算累积的强度值。然后，在步骤S106中，基于累积的强度值调整光源单元的布置，以减少有效光源分布中的两个垂直方向之间的强度差。作为替代方案，在步骤S104中执行的评价处理中，可对有效光源分布分成的各区域计算总光强度，并且，可确定各区域中的光强度分布之间的差值。然后，在步骤S106中，可基于光强度分布之间的差值调整光源单元的布置。
[0058]然后，在步骤S108中，通过使用调整的有效光源分布执行曝光处理。在曝光处理中，用光照射掩模8，并且，通过投影光学系统9将掩模8的图案投影到基板10上。
[0059]上述的调整方法可在曝光装置中被周期性地实施，或者在装置装运之前作为校准处理被执行。根据本实施例，由于可测量并且高精度地调整有效光源分布，因此，有效光源分布中的光强度的均匀性得到提高。作为结果，可更可靠地抑制由于光源单元的遮光部件的阴影导致的掩模图案的分辨率下降。
[0060]第三实施例
[0061]根据第三实施例的曝光装置的结构与第二实施例中的类似，于是省略其描述。在本实施例中，调整方法与第二实施例中不同。图13是根据第三实施例的调整方法的流程图。
[0062]首先，在步骤S202，曝光装置的控制器600获取掩模8的图案的信息。可由用户通过输入装置输入或者从外部装置自动输入掩模8的图案的信息。然后，在步骤S204中，控制器600基于掩模8的图案的信息确定掩模8上的至少一个图案要素的方向。图14A和图14B示出掩模8的图案的例子。图14A所示的掩模包括包含沿X方向周期性布置且沿y方向延伸的线的线图案要素P11和P13、以及包含沿y方向周期性布置且沿X方向延伸的线的线图案要素P12和P14。图14B所示的掩模包括包含关于X方向和y方向以45°角周期性布置和延伸的线的图案要素P21?P24。各图案要素中的周期性方向或线延伸的方向被定义为掩模上的图案要素的方向。
[0063]然后，基于在步骤S206中确定的方向的信息调整包含于光源单元中的遮光部件的布置。在掩模包含沿X方向或y方向具有周期性的图案要素的情况下，与图14A所示的掩模同样，从掩模向投影光学系统9发射沿X方向或y方向衍射的光，并且，衍射光聚焦于基板10上。因此，与用具有图15B所示的有效光源分布的光照射掩模相比，更希望用具有图15A所示的包含沿X方向或y方向延伸的遮光部件的阴影的有效光源分布的光照射掩模。在图15A和图15B中，有效光源分布中的黑色区域是包含于光源单元中的遮光部件的阴影。在掩模包含沿斜方向具有周期性的图案要素的情况下，与图14B所示的掩模同样，从掩模向投影光学系统9发射沿斜方向衍射的光，并且，衍射光聚焦于基板10上。因此，与用具有图15A所示的有效光源分布的光照射掩模相比，更希望用具有图15B所示的包含沿斜方向延伸的遮光部件的阴影的有效光源分布的光照射掩模。这是由于，当光强度或阴影在有效光源分布中不均勾时，衍射光的成像性能根据产生衍射光的方向改变，基板上的分辨率因此改变。为了用包含具有不同的周期性方向的多个周期性图案要素的掩模获得令人满意的分辨率，可用具有即使当周期性图案要素具有不同的周期性方向(即，产生衍射光的方向)时衍射光的成像性能也不改变的有效光源分布的光照射掩模。
[0064]通过例如用调整机构调整光源单元1A、1B和1C的附接位置和角度，调整光源单元的遮光部件的布置。因此，根据掩模的图案，有效光源分布中的光源单元的遮光部件的阴影的位置改变，使得可以实现希望的分辨率。例如，当掩模具有图14A所示的图案时，光源单元的遮光部件的布置被调整，使得获得图15A所示的有效光源分布。当掩模具有图14B所示的图案时，光源单元的遮光部件的布置被调整，使得获得图15B所示的有效光源分布。为了确认光源单元1A、1B和1C的调整的结果，可另外执行根据第二实施例的有效光源分布的测量和有效光源分布的调整。
[0065]在本实施例中，对掩模包含具有不同的周期性方向的两种类型的图案要素的情况执行调整。但是，本实施例也适用于各种其它类型的图案要素。
[0066]根据本实施例，即使