电子照相感光构件及其制造方法、处理盒和电子照相设备的制造方法
【专利摘要】本发明涉及一种电子照相感光构件、其制造方法、处理盒和电子照相设备。电子照相感光构件依次具有支承体、电荷产生层和电荷输送层，所述电荷输送层含有电荷输送材料。所述电荷输送层为所述电子照相感光构件的表面层，且含有具有选自A组的结构单元和选自B组的结构单元的聚碳酸酯树脂(说明书中定义A组和B组)。
【专利说明】
电子照相感光构件及其制造方法、处理盒和电子照相设备
技术领域
[0001] 本发明涉及电子照相感光构件，该电子照相感光构件的制造方法，和包括该电子 照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
【背景技术】
[0002] 要求具有电荷输送层作为表面层的电子照相感光构件足够耐磨损的以经得住重 复使用。为了改进电荷输送层的耐磨损性，研究人员已经在研究用作所述电荷输送层中的 粘结剂的树脂的结构，特别是聚碳酸酯树脂（日本专利公开号2011-26574、5-113680、4_ 149557、6-11877和2005-338446)。
【发明内容】
[0003] 本发明的一方面提供能够非常有效地减少雾化的电子照相感光构件。本发明的其 它方面提供所述电子照相感光构件的制造方法和包括所述电子照相感光构件的处理盒和 电子照相设备。
[0004] 根据本发明一方面的电子照相感光构件依次具有支承体、电荷产生层和电荷输送 层，所述电荷输送层含有电荷输送材料。所述电荷输送层为所述电子照相感光构件的表面 层，且含有具有选自A组的结构单元和选自B组的结构单元的聚碳酸酯树脂。
[0005 ] 所述A组包括由式（101)和（102)表示的结构单元。
[0007](在式（101)中，R211至R214各自独立地表示氢原子或烷基、芳基或烷氧基。R 215表示 烷基、芳基或烷氧基。R216和R217各自独立地表示含有1-9个碳原子的烷基。i211表示0-3的整 数。R 215和(CH2) iCHR216R217为不同的基团）
[0009] (在式（102)中，R221至R224各自独立地表示氢原子或烷基、芳基或烷氧基。R 225和R226 各自独立地表示含有1-9个碳原子的烷基。R225和R226为不同的基团。i221表示0-3的整数。）
[0010] 所述B组包括由式（104)、（105)和（106)表示的结构单元。
[0012](在式（104)中，R241至R244各自独立地表示氢原子或烷基、芳基或烷氧基。X表示单 键、氧原子、硫原子或磺酰基。）
[0014](在式（105)中，R251至R254各自独立地表示氢原子或烷基、芳基或烷氧基。R 256和R257 各自独立地表亦氣原子或烷基、芳基或卤代烷基)
[0016] (在式（106)中，R261至R264各自独立地表示氢原子或烷基、芳基或烷氧基。W表示含 有5-12个碳原子的环烷叉基。）
[0017] 参考所述附图，从下述示例性实施方式的描述，本发明进一步的特征将变得明显。
【附图说明】
[0018] 图1示出设置有包括电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的示意性结构的 实例。
[0019] 图2为实施例中使用的羟基镓酞菁晶体的粉末X射线衍射图。
[0020] 图3为实施例中使用的氯镓酞菁晶体的粉末X射线衍射图。
[0021 ]图4为实施例中使用的羟基镓酞菁晶体的粉末X射线衍射图。
[0022] 图5为描述单点"象棋中马移动"图案图像的图。
【具体实施方式】
[0023] 通过研究，本发明人发现下述事实。即，当重复使用具有电荷输送层作为表面层的 电子照相感光构件时，所述电荷输送层由于磨损而变得较薄。这导致增大的电场强度，在图 像上引起称为〃雾化〃的技术问题，即少量调色剂在图像的非预定区域内显影的缺陷。
[0024] 根据上述公开文献，具有含有聚碳酸酯树脂作为粘结剂的电荷输送层的已知电子 照相感光构件有助于减少雾化，但达不到完全满足对长寿命电子照相感光构件的最新的高 要求的程度。
[0025] 因此，本发明的一方面提供能够非常有效地减少雾化的电子照相感光构件。本发 明的一些其它方面提供此类电子照相感光构件的制造方法和包括此类电子照相感光构件 的处理盒和电子照相设备。
[0026] 以下通过提供一些优选的实施方式来描述本发明的一些方面。本发明人进行的研 究已经显示，在电子照相感光构件的电荷输送层组中使用特定种类的聚碳酸酯树脂，显著 改进所述感光构件的机械强度，并导致雾化的有效减少。更具体地，根据本发明的一方面的 电子照相感光构件依次具有支承体、电荷产生层和电荷输送层，所述电荷输送层含有电荷 输送材料。所述电荷输送层为所述电子照相感光构件的表面层，且含有具有选自A组的结构 单元和选自B组的结构单元的聚碳酸酯树脂。
[0027] 所述A组包括由式（101)和（102)表示的结构单元。
[0029]在式（101)中，R211至R214各自独立地表示氢原子或烷基、芳基或烷氧基。R 215表示烷 基、芳基或烷氧基。R216和R217各自独立地表示含有1-9个碳原子的取代的或未取代的烷基。 i211表示0-3的整数。当i211为0时，该位点为单键。R215和(CH 2)iCHR216Rm为不同的基团。
[0031] 在式（102)中，R221至R224各自独立地表示氢原子或烷基、芳基或烷氧基。R225和R 226 各自独立地表示含有1-9个碳原子的取代的或未取代的烷基。R225和R226为不同的基团。i 221 表示0-3的整数。当i221为0时，该位点为单键。
[0032] 所述B组包括由式（104)、（105)和（106)表示的结构单元。
[0034]在式（104)中，R241至R244各自独立地表示氢原子或烷基、芳基或烷氧基。X表示单 键、氧原子、硫原子或磺酰基。
[0036] 在式（105)中，R251至R254各自独立地表示氢原子或烷基、芳基或烷氧基。R256和R 257 各自独立地表示氢原子或烷基、芳基或卤代烷基。所述芳基可以是烷基或烷氧基或卤素原 子取代的。
[0038] 在式（106)中，R261至R264各自独立地表示氢原子或烷基、芳基或烷氧基。W表示含有 5-12个碳原子的环烷叉基。所述环烷叉基可以是烷基取代的。
[0039] 该具有选自A组的结构单元和选自B组的结构单元的聚碳酸酯树脂可使用例如下 述两种方法之一来合成。第一种，使至少一种选自式（107)和（108)的双酚化合物和至少一 种选自式（110)至（112)的双酚化合物直接与光气反应(光气法）。第二种，使至少两种双酚 化合物和二芳基碳酸酯如碳酸二苯酯、二对甲苯基碳酸酯、苯基-对甲苯基碳酸酯、二对氯 苯基碳酸酯或二萘基碳酸酯进行酯交换(酯交换法）。
[0040] 在所述光气法中，所述至少两种双酚化合物和光气通常在酸结合剂和溶剂存在下 反应。所述酸结合剂可以是吡啶、如氢氧化钾或氢氧化钠等的碱金属氢氧化物，或类似物。 所述溶剂可以是二氯甲烷、氯仿或类似物。为了促进所述缩聚，可添加催化剂和/或分子量 调节剂。所述催化剂可以是三乙胺或任何其它叔胺、季铵盐或类似物。所述分子量调节剂可 以是苯酚、对枯基苯酚、叔丁基苯酚、被长链烷基取代的苯酚或类似的单官能化合物。
[0041 ]聚碳酸酯树脂的合成可包括抗氧剂如亚硫酸钠或亚硫酸氢盐、和/或支化剂如间 苯三酚或靛红双酚。聚碳酸酯树脂可在〇°C至150°C、优选5°C至40°C的温度下合成。反应的 持续时间取决于反应温度，但通常可以在0.5分钟至10小时、优选1分钟至2小时的范围内。 在反应期间，反应体系的pH可以为10以上。
[0042]下面是可用于合成的双酚化合物的一些具体实例。
[0043] (1)至少一种选自式（107)和（108)的双酚化合物
[0045]在式（107)中，R211至R214各自独立地表示氢原子或烷基、芳基或烷氧基。R 215表示烷 基、芳基或烷氧基。R216和R217各自独立地表示含有1-9个碳原子的取代的或未取代的烷基。 i211表示0-3的整数。当i211为0时，该位点为单键。R215和(CH 2)iCHR216Rm为不同的基团。
[0047] 在式（108)中，R221至R224各自独立地表示氢原子或烷基、芳基或烷氧基。R225和R 226 各自独立地表示含有1-9个碳原子的取代的或未取代的烷基。R225和R226是不同的基团。i 221 表示0-3的整数。当i221为0时，该位点为单键。
[0048]由通式（107)和（108)表示的双酚化合物的实例包括2，2_双(4-羟苯基)_4_甲基戊 烷、2，2-双(4-羟苯基)-5-甲基己烷、3，3-双(4-羟苯基)-5-甲基庚烷、2，2-双(4-羟苯基)-3_甲基丁烷、1，1_双(4-羟苯基)-1_苯基-2-甲基丙烷、1，1_双(4-羟苯基)-1_苯基-3-甲基 丁烷、2，2_双(4-羟苯基）-6_甲基庚烷、1，1_双(4-羟苯基）-2_乙基己烷和1，1_双(4-羟苯 基)-1-苯基-2-甲基戊烷。也可以使用两种以上这些化合物的组合。
[0049] (2)至少一种选自式（110)至（112)的双酚化合物
[0051 ]在式（110)中，R241至R244各自独立地表示氢原子或烷基、芳基或烷氧基。X表示单 键、氧原子、硫原子或磺酰基。
[0053] 在式（111)中，R251至R254各自独立地表示氢原子或烷基、芳基或烷氧基。R256和R 257 各自独立地表示氢原子或烷基、芳基或卤代烷基。所述芳基可以是烷基或烷氧基或卤素原 子取代的。
[0055] 在式（112)中，R261至R264各自独立地表示氢原子或烷基、芳基或烷氧基。W表示含有 5-12个碳原子的环烷叉基。所述环烷叉基可以是烷基取代的。
[0056] 由式（110)至（112)表示的双酚化合物的实例包括4，4 二羟基联苯、4，4 二羟 基_3，3 二甲基联苯基、4，4二羟基_2，2 '-二甲基联苯基、4，4二羟基_3，3 '，5_二甲基 联苯基、4,4二羟基_3，3 '，5，5 四甲基联苯基、4，4'_二羟基_3，3二丁基联苯基、4，4 二羟基_3，3 ' -二环己基联苯基、3，3 ' -二氣_4，4 ' -二羟基联苯、4，4 ' -二羟基_3，3 ' -二苯基 联苯基、1，1_双(4_轻苯基）乙烧、1，1_双(3_甲基_4_轻苯基）乙烧、1，1_双(3_氣_4_轻苯基） 乙烷、1，1-双(2-叔丁基-4-羟基-3-甲基苯基）乙烷、1，2-双(4-羟苯基）乙烷、1，2-双(3-甲 基-4-羟苯基）乙烷、2，2-双(4-羟苯基)丙烷、2，2-双(3-甲基-4-羟苯基)丙烷、2，2-双(3-环 己基-4-羟苯基)丙烷、2，2-双(3-苯基-4-羟苯基)丙烷、2，2-双(3，5-二甲基-4-羟苯基)丙 烧、2，2_双(3_氣_4_轻苯基)丙烷、2，2_双(3_氣_4_轻苯基)丙烷、2，2_双(3_漠_4_轻苯基） 丙烷、2，2-双(3，5-二氟-4-羟苯基)丙烷、2，2-双(3，5-二氯-4-羟苯基)丙烷、2，2-双(3，5-二溴-4-轻苯基)丙烷、2，2-双(2-叔丁基_4_羟基_3_甲基苯基)丙烷、2，2-双(4-轻苯基)六 氣丙烷、2，2_双(3_甲基_4_轻苯基)六氣丙烷、2，2_双(3，5_二甲基_4_轻苯基)六氣丙烷、2， 2_双(3_苯基_4_轻苯基)六氣丙烷、2，2_双(3_氣_4_轻苯基)六氣丙烷、2，2_双(3_氣_4_轻 苯基)六氟丙烷、1，1_双(4-羟苯基)环己烷、1，1_双(3-甲基-4-羟苯基)环己烷、1，1_双(3-环-4-羟苯基)环己烷、1，1-双(3-苯基-4-羟苯基)环己烷、1，1-双（3,5-二甲基-4-羟苯基） 环己烷、1，1-双(3-氟-4-羟苯基)环己烷、1，1-双(3-氯-4-羟苯基)环己烷、1，1-双(3-溴-4-羟苯基）环己烷、1，1-双（3,5_二氟-4-羟苯基）环己烷、1，1_双（3,5_二氯-4-羟苯基）环己 烷、1，1-双(3，5_二溴-4-羟苯基)环己烷、1，1-双(2-叔丁基-4-羟基-3-甲基苯基)环己烷、 双(4-羟苯基)砜、1，1_双(4-羟苯基)-3,3,5_三甲基环己烷、1，1_双(4-羟苯基)环戊烷、1， 1 -双(4-羟苯基)-1-苯基乙烷、双(4-羟苯基)二苯甲烷、9，9-双(4-羟苯基)-芴和2，2-双(4-羟苯基)丁烷。也可以使用两种以上这些化合物的组合。
[0057] 选自A组的结构单元
[0058]与选自A组的其它相比，使用具有任何由式(A-101)至(A-105)表示的结构单元的 聚碳酸酯树脂导致更有效的雾化减少和更好的电特性。在电荷输送层中时，具有任何这些 结构单元的聚碳酸酯树脂将保持恒定的分子间距和与电荷输送材料的恒定距离，改进机械 强度和电特性。
[0060]与选自A组的其它相比，使用具有任何由（A-201)至(A-205)表示的结构单元的聚 碳酸酯树脂有效地改进电荷输送层形成用涂布液电荷输送层形成用涂布液的储存稳定性、 光存储的预防和重复使用后的电特性。具有任何这些结构单元的聚碳酸酯树脂将显示出电 荷输送层形成用涂布液在电荷输送层形成用涂布液的溶剂中的改进溶解性。此外，在电荷 输送层中时，具有任何这些结构单元的聚碳酸酯树脂将保持与电荷输送材料的恒定距离， 改进电特性。光存储是由光产生载体在电子照相感光构件的感光层中滞留所引起的缺陷， 并且在电子照相感光构件暴露于光如来自荧光灯的光时出现，与处理盒或电子照相设备重 复使用后的维持有关。如果使用该状态中的电子照相感光构件产生图像时，则曝光与未曝 光区域之间的电位差表现为所得到的图像的不均匀浓度。
[0062]与选自A组的其它相比，使用具有任何由（A-401)至(A-405)表示的结构单元的聚 碳酸酯树脂有效地改进电荷输送层形成用涂布液电荷输送层形成用涂布液的储存稳定性 和光存储的预防。具有任何这些结构单元的聚碳酸酯树脂将显示出电荷输送层形成用涂布 液在电荷输送层形成用涂布液的溶剂中的改进的溶解性。
[0064] 选自B组的结构单元
[0065]与选自B组的其它相比，使用具有任何由式(B-101)至(B-105)表示的结构单元的 聚碳酸酯树脂导致更有效的雾化减少和更好的电特性。在电荷输送层中时，具有任何这些 结构单元的聚碳酸酯树脂将保持恒定的分子间距和与电荷输送材料的恒定距离，改进机械 强度和电特性。
[0067]与选自B组的其它相比，使用具有任何由式(B-201)至(B-205)表示的结构单元的 聚碳酸酯树脂导致更有效的雾化减少。在电荷输送层中时，具有任何这些结构单元的聚碳 酸酯树脂将具有短的分子间距地密集堆积，，改进机械强度。
[0069]与选自B组的其它相比，使用具有任何由（B-301)至(B-308)表示的结构单元的聚 碳酸酯树脂有效地改进电荷输送层形成用涂布液电荷输送层形成用涂布液的储存稳定性、 光存储的预防和重复使用后的电特性。具有任何这些结构单元的聚碳酸酯树脂将显示出电 荷输送层形成用涂布液在电荷输送层形成用涂布液的溶剂中的改进溶解性。此外，在电荷 输送层中时，具有任何这些结构单元的聚碳酸酯树脂将保持与电荷输送材料的恒定距离， 改进电特性。
[0071]与选自B组的其它相比，使用具有任何由（B-401)至(B-405)表示的结构单元的聚 碳酸酯树脂有效地改进电荷输送层形成用涂布液电荷输送层形成用涂布液的储存稳定性、 光存储的预防和重复使用后的电特性。具有任何这些结构单元的聚碳酸酯树脂将显示出电 荷输送层形成用涂布液在电荷输送层形成用涂布液的溶剂中的改进溶解性。此外，在电荷 输送层中时，具有任何这些结构单元的聚碳酸酯树脂将保持与电荷输送材料的恒定距离， 改进电特性。
[0073] 在聚碳酸酯树脂中，选自A组的结构单元的比例可以为20mol%以上且70mol%以 下，优选25mol %以上且49mol %以下。
[0074] 在本发明的一个实施方式中，所述聚碳酸酯树脂的重均分子量(Mw)可以为30,000 以上且100,000以下，优选40,000以上且80,000以下。如果所述聚碳酸酯的重均分子量小于 30,000,则由于低机械强度，雾化的减少可能不够。如果所述聚碳酸酯树脂的重均分子量大 于100,000,则电荷输送层形成用涂布液电荷输送层形成用涂布液的储存稳定性可能不足。 在以下实施例中，所述树脂的重均分子量为使用凝胶渗透色谱(GPC)[在Al 1 iance HPLC系 统（Waters)上]在下述条件下测得的聚苯乙稀等效值：两根Shodex KF-805L柱（Showa Denko)，0.25w/v%氯仿溶液作为样品，lml/min的氯仿作为洗脱液，和在254nm下UV检测。 [0075]所述聚碳酸酯树脂的特性粘度可以在0.3dL/g至2.0dL/g的范围内。
[0076] 聚碳酸酯树脂的相对介电常数e可根据以下克劳修斯-莫索提方程来确定。
[0077] K=(4Ji/3)X(a/V)
[0078] e = (l+2K)/(l-K)
[0079]在该方程式中，V为分子在其使用密度泛函计算B3LYP/6_31G(d，p)的结构优化后 得到的稳定结构中的体积，和a为在该优化后稳定结构中根据受限Hartree-Fock计算(使用 基函数6-31G(d，p))的极化性。对于具有许多结构单元的聚碳酸酯树脂(例如，共聚物），单 个结构单元的相对介电常数值乘以它们的相应比例相加起来。例如，示例性化合物1 〇〇 1在 结构单元(A-101)和(B-101)中分别具有2.12和2.11的相对介电常数值。因此，基于所述结 构单元的比例，示例性化合物1001的相对介电常数为2.12。在本发明的一个实施方式中，相 对介电常数e可以为2.15以下，优选2.13以下。
[0080] 2.15以下的相对介电常数导致更好的高速响应性，大概因为下述原因。术语"高速 响应性〃表示，在成像过程中产生的图像的浓度在正常处理速度与更快处理速度之间是可 比较的。改变处理速度通常导致电子照相感光构件接收的光的量的改变。即使控制光的量 以获得电子照相感光构件的恒定曝光量，不同的处理速度也会导致不同的图像浓度。由于 从曝光到显影的时间随着处理速度增大而缩短，因而该浓度差在更快的处理中变得更显 著。一个原因是倒易失败(reciprocal failure)，这需要复杂的控制以使图像浓度均衡。然 而，本发明人推测倒易失败不是唯一原因。本发明人认为，另一个原因为，在显影期间出现 的电子照相感光构件的表面电位的光衰减速度的差异，在曝光和显影过程中电子照相感光 构件进行以形成图像的阶段。更具体地，即使电子照相感光构件在显影时具有相等的表面 电位，其表面电位的光衰减速度的差异也将导致感光构件显影调色剂的能力的差异，从而 导致产生的图像之间的浓度变化。电荷产生层中产生的电荷被注入到电荷输送层，然后通 过在电荷输送层中移动而被输送至所述电子照相感光构件的表面。一些电荷短时间内达到 所述电子照相感光构件的表面，但其它的电荷到达需要较长的时间（残留电荷）。鉴于显影 期间的光衰减在充电和曝光过程中的光响应后立即发生这一事实，光衰减的速度将受电荷 输送层中的电荷载体在低电场强度下朝向残留电荷的行为的影响。当聚碳酸酯树脂的相对 介电常数为2.15以下时，所述电子照相感光构件在低电场强度下放出残留电荷的能力将不 会随时间发生很大变化，因此其在显影期间的光衰减速度将低。此外，本发明人相信，当所 述聚碳酸酯树脂的相对介电常数为2.15以下时，电子照相感光构件显影调色剂的能力对所 述电子照相感光构件的表面电位的不均匀不是很敏感，因而在成像过程中产生的图像的浓 度在正常处理速度与更快处理速度之间是可比较的。
[0081] 此外，当所述聚碳酸酯树脂的相对介电常数为2.15以下时，施加到电荷输送层的 电场的强度将有利地作用于电荷通过所述电荷输送层的输送和电荷从电荷产生层到电荷 输送层中的注入，就重复使用后光存储的预防而言，这使得电子照相感光构件优异。
[0082] 聚碳酸酯树脂的具体实例
[0083] 表1至12给出了具有选自A组的结构单元和选自B组的结构单元的聚碳酸酯树脂的 具体实例以及它们的相对介电常数值。
[0108] 聚碳酸酯树脂的合成
[0109] 以下通过实例来描述示例性化合物1001的合成方法。其它聚碳酸酯树脂可在以下 示例性化合物1001的合成中描述的方法中，使用适合量的适合的A组和B组结构原材料(分 别生成选自A组和B组的结构单元的原材料)来合成。所述树脂的重均分子量可通过控制分 子量调节剂的量来调节。
[0110] 示例性化合物1001的合成
[0111] 将下述材料溶于1100ml的5质量％的氢氧化钠水溶液:53.0g(0.196mol)作为A组 结构原材料的2,2-双(4-轻苯基)-4_甲基戊烧(Tokyo Chemical Industry，产品码D3267)、 41 ? 2g(0? 204mol)作为13组结构原材料的双(4-轻苯基)醚(Tokyo Chemical Industry，产品 码D2121)，和O.lg亚硫酸氢盐。在添加500ml二氯甲烷后，在搅拌下，将60g光气通过60分钟 吹入所述溶液中，将温度维持在15 °C。
[0112]将已经吹入光气的反应溶液与1.3g作为分子量调节剂的对-叔丁基苯酚(Tokyo Chemical Industry，产品码B0383) -起搅拌，直到乳化。将所得到的乳液在23°C下与0.4ml 三乙胺一起搅拌1小时，进行聚合。
[0113] 在聚合完成后，将所述反应溶液分离成水相和有机相。用磷酸中和所述有机相，然 后用水重复洗涤，直到洗液(水相)的导电率为1 〇yS/cm以下。将所得到的聚合物溶液滴加到 保持在45 °C的温水中，并将溶剂蒸发掉。这得到白色粉状沉淀。通过过滤收集该沉淀，并在 110°C下干燥24小时。用这种方法，得到作为由A组结构单元A-101和B组结构单元B-101组成 的共聚物的示例性化合物1001聚碳酸酯树脂。
[0114] 使用红外吸收光谱分析所得到的聚碳酸酯树脂。所述光谱具有在1770CHT1左右的 羰基吸收和1240CHT 1左右的醚吸收，从而鉴定所述产物为聚碳酸酯树脂。
[0115] 电子照相感光构件
[0116] 根据本发明的一方面的电子照相感光构件依次具有支承体、电荷产生层和作为表 面层的电荷输送层。在所述支承体和电荷输送层之间可存在其它层。各层的细节如下。
[0117] 例如，该电子照相感光构件可通过制备用于形成以下描述的层的涂布液、随后以 期望的层顺序施涂并干燥这些液体来制造。可用于施涂所述涂布液的方法的实例包括浸 涂、喷涂、幕帘涂布和旋涂。特别是，浸涂提供优异的效率和生产率。
[om] 支承体
[0119]在本发明的一个实施方式中，所述支承体可以是导电性支承体，即具有导电性的 支承体。导电性支承体的实例包括由铝、铁、镍、铜、金或其它金属或合金制成的支承体和由 绝缘基材如聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚酰亚胺树脂或玻璃和在其上的任何下述薄膜组成 的支承体:铝、铬、银、金或类似金属的薄膜;氧化铟、氧化锡、氧化锌类似导电性材料的薄 膜;和含银纳米线的导电性油墨的薄膜。
[0120]为了改进电特性和减少干涉条纹，所述支承体的表面可以是已进行处理的。处理 的实例包括阳极氧化和其它电化学处理、湿式珩磨、喷砂和切割。
[0121] 关于形状，所述支承体可以例如是圆柱体或膜。
[0122] 导电层
[0123] 在本发明的一个实施方式中，在所述支承体上可存在导电层。此类导电层通过覆 盖支承体上的凹凸和缺陷来防止干涉条纹。所述导电层的平均厚度可以为5wii以上且40m 以下，优选l〇Mi以上且30wii以下。
[0124] 所述导电层可含有导电颗粒和粘结剂树脂。所述导电颗粒可以为炭黑、金属颗粒、 金属氧化物颗粒或类似物。
[0125]所述金属氧化物颗粒可以为氧化锌、铅白、氧化铝、氧化铟、氧化娃、氧化错、氧化 锡、氧化钛、氧化镁、氧化锑、氧化铋、锡掺杂的氧化铟、锑或钽掺杂的氧化锡或类似物的颗 粒。也可以使用两种以上这些颗粒的组合。氧化锌、氧化锡和氧化钛的颗粒是优选的。特别 是，吸收少许可见光和近红外光且颜色为白色的氧化钛颗粒提供高敏感性。氧化钛具有几 种晶形，如金红石、锐钛矿、板钛矿和无定形，可使用这些晶形的任一种，优选金红石。也可 以使用氧化钛的针状或粒状晶体。所述金属氧化物颗粒的数均一次粒径可以在0.05-lwn、 优选0.1-0.5mi的范围内。
[0126]所述粘结剂树脂可以为酚醛树脂、聚氨酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚酰胺-酰亚胺、聚 乙烯醇缩醛、环氧树脂、丙烯酸树脂、三聚氰胺树脂、聚酯或类似树脂。也可以使用两种以上 这些树脂的组合。特别是，可固化的树脂赋予导电层对可在形成其它层的涂布液中使用的 溶剂的高耐受性和对导电性支承体的高粘合性，而不损害金属氧化物颗粒的分散性和分散 稳定性。此类可固化树脂可以是热固性树脂。热固性树脂的实例包括热固性酚醛树脂和热 固性聚氨酯树脂。
[0127] 底涂层
[0128] 在本发明的一个实施方式中，在所述支承体或导电层上可存在底涂层。此类底涂 层提供增强的阻隔性和粘合性。所述底涂层的平均厚度可以为0.3WI1以上且5.0M1以下。
[0129] 所述底涂层可含有粘结剂树脂和电子输送材料或金属氧化物颗粒。此类结构提供 电荷产生层中产生的电子、电荷产生层中产生的两种电荷之一可输送至支承体的通道。这 防止电荷在电荷产生层中失活和捕获的发生率的任何增加，所述发生率与改进电荷输送层 输送电荷的能力有关。结果，改进初始电特性和重复使用后的电特性。
[0130]电子输送材料的实例包括醌、酰亚胺、苯并咪唑、亚环戊二烯基、芴酮、氧杂蒽酮、 二苯甲酮、氰基乙烯基、萘酰亚胺和茈酰亚胺化合物。所述电子输送材料可具有可聚合的官 能团，如羟基、巯基、氨基、羧基或甲氧基。
[0131] 对于金属氧化物颗粒和粘结剂树脂，所述细节与上述"导电层"部分中的相同。
[0132] 电荷产生层
[0133] 在本发明的一个实施方式中，在支承体与电荷输送层之间存在电荷产生层。所述 电荷产生层可与电荷输送层邻接。所述电荷产生层的厚度可以为0.05WI1以上且1M1以下，优 选0. lym以上且0.3wii以下。
[0134] 在本发明的一个实施方式中，所述电荷产生层可含有电荷产生材料和粘结剂树 脂。
[0135]所述电荷产生层中的电荷产生材料含量可以为40质量以上且85质量％以下，优选 60质量％以上且80质量％以下。
[0136] 电荷产生材料的实例包括:单偶氮、二偶氮和三偶氮颜料，和其它偶氮颜料;包括 金属酞菁配合物和不含金属的酞菁的酞菁颜料;靛青颜料;花颜料;多环醌颜料;方酸染料； 噻喃盐;喹吖啶酮颜料;奧鑰盐颜料;菁染料；占吨染料;醌亚胺染料;和苯乙烯基染料。所述 电荷产生材料优选为酞菁颜料，更优选镓酞菁晶体。
[0137] 与其它镓酞菁晶体相比，羟基镓酞菁晶体、氯镓酞菁晶体、溴镓酞菁晶体和碘镓酞 菁晶体具有优异的敏感性。羟基镓酞菁晶体和氯镓酞菁晶体是特别优选的。在羟基镓酞菁 晶体中，镓原子与作为轴向配体的羟基配位。在氯镓酞菁晶体中，镓原子与作为轴向配体的 氯原子配位。在溴镓酞菁晶体中，镓原子与作为轴向配体的溴原子配位。在碘镓酞菁晶体 中，镓原子与作为轴向配体的碘原子配位。通过使用在其CuKa X射线衍射图中显示出7.4± 0.3°和28.3° ±0.3°的布拉格角20处的峰的羟基镓酞菁晶体或在其X射线衍射图中显示出 在7.4°、16.6°、25.5°和28.3°的布拉格角20 ±0.2°处的峰的氯镓酞菁晶体，得到特别高的 敏感性。
[0138]所述镓酞菁晶体可在其晶体结构中含有由下式表示的酰胺化合物。
[0140](在该式中，R81表示甲基、丙基或乙烯基。）
[0141] 此类酰胺化合物的具体实例包括N-甲基甲酰胺、N-丙基甲酰胺和N-乙烯基甲酰 胺。
[0142] 相对于镓酞菁晶体中的镓酞菁配合物，所述酰胺化合物含量可以为0.1质量％以 上且1.9质量％以下，优选0.3质量％以上且1.5质量％以下。当所述酰胺化合物含量为0.1 质量％以上且1.9质量％以下时，本发明人认为，在增大的电场强度下，来自电荷产生层的 暗电流小，这使得根据本发明该实施方式的电荷输送层更有效地减少雾化。所述酰胺化合 物含量可使用h-NMR光谱来测定。
[0143] 在其晶体结构中含有酰胺化合物的镓酞菁晶体可通过转变方法来获得，其中在含 有所述酰胺化合物的溶剂中湿研磨酸涂(ac id-pas ted)或干研磨的镓酞菁。
[0144] 利用研磨设备如砂磨机或球磨机，使用分散剂如玻璃珠、钢珠或氧化铝球进行该 湿研磨方法。
[0145]至于粘结剂树脂，实例包括树脂如聚酯、丙烯酸树脂、聚碳酸酯、聚乙烯醇缩丁醛、 聚苯乙烯、聚乙酸乙烯酯、聚砜、丙烯腈共聚物和聚乙烯基亚苄基。特别是，聚乙烯醇缩丁醛 和聚乙烯基亚苄基能有效地分散镓酞菁晶体。
[0146]电荷输送层
[0147] 在本发明的一个实施方式中，所述电荷输送层含有电荷输送材料和具有选自A组 的结构单元和选自B组的结构单元的聚碳酸酯树脂。所述电荷输送层可任选含有添加剂，如 为了更有效转移调色剂的脱模剂、为了减少污染或类似的防指纹剂、为了减少擦伤的填料 和为了更高润滑性的润滑剂。
[0148] 在本发明的一个实施方式中，电荷输送层可通过将电荷输送材料和聚碳酸酯树脂 与溶剂混合制备电荷输送层形成用涂布液电荷输送层形成用涂布液，施涂该电荷输送层形 成用涂布液电荷输送层形成用涂布液以形成湿涂层，并干燥该湿涂层来形成。
[0149] 电荷输送层形成用涂布液电荷输送层形成用涂布液中使用的溶剂可以例如是酮 系溶剂，如丙酮或甲基乙基酮；酯系溶剂，如乙酸甲酯或乙酸乙酯；芳烃溶剂，如甲苯、二甲 苯或氯苯;醚系溶剂，如1，4-二噁烷或四氢呋喃;或卤代烃溶剂，如氯仿。也可以使用两种以 上这些溶剂的组合。偶极矩为1.0D以下的溶剂是优选的。偶极矩为1.0D以下的溶剂的实例 包括邻二甲苯(偶极矩= 〇.64D)和甲缩醛(偶极矩= 0.91D)。
[0150] 所述电荷输送层的厚度可以为5mi以上且40mi以下，优选7mi以上且25mi以下。
[0151] 为了电子照相感光构件更有效的减少雾化和更高的长期储存稳定性，所述电荷输 送层的电荷输送材料含量可以为20质量％以上且80质量％以下，优选40质量％以上且70质 量％以下。
[0152] 所述电荷输送材料的分子量可以为300以上且1，000以下。为了更好的重复使用后 的电特性和更高的长期储存稳定性，优选所述电荷输送材料的分子量为600以上且800以 下。为了更有效预防光存储和更高的长期储存稳定性，优选所述电荷输送材料的分子量为 350以上且600以下。
[0153] 所述电荷输送材料可以是，例如，三芳胺化合物、腙化合物、芪化合物、吡唑啉化合 物、噁唑化合物、噻唑化合物或三烯丙基胺化合物，优选三芳胺化合物。也可以使用两种以 上这些化合物的组合。下述是由通式表示的电荷输送材料的一些具体实例，以及各通式的 示例性化合物。
[0155] (在该式中，Ar1Q1和Ar1Q2各自独立地表示取代的或未取代的芳基。R1Q1和R 1Q2各自独 立地表示氢原子、烷基、或取代的或未取代的芳基。芳基的可行的取代基为烷基、烷氧基和 卤素原子。）
[0156] 下面是(CTM-1)的一些示例性化合物。
[0159](在该式中，Ar1Q3至Ar1Q6各自独立地表示取代的或未取代的芳基。Z 1Q1表示取代的 或未取代的亚芳基、或多个亚芳基通过亚乙烯基连接的二价基团。可存在由在Ar1()3至Ar1Q6 上的两个相邻的取代基形成的环。芳基或亚芳基的可行的取代基为烷基、烷氧基和卤素原 子。）
[0160]下面是(CTM-2)的一些示例性化合物。
[0162] (在该式中，R1()3表示烷基、环烷基，或取代的或未取代的芳基。R1()4表示氢原子、烷 基、或取代的或未取代的芳基。Ar 1()7表示取代的或未取代的芳基。Z1()2表示取代的或未取代 的亚芳基。n1Q1和m分别为1-3和0-2的整数，其中m+n 1()1 = 3。当m为2时，所述两个R1()3基团可以 是同类基团或不同的基团，并且可存在由在两个R1()3基团上的两个相邻的取代基形成的环。 可存在由R 1()3和Z1()2形成的环。此外，可存在由Ar1()7和R1()4形成的包括亚乙烯基连接基团的 环。芳基或亚芳基的可彳丁的取代基为烷基、烷氧基和卤素原子。）
[0163] 下面是(CTM-3)的一些示例性化合物。
[0165] (在该式中，Ar1()8至Ar111各自独立地表示取代的或未取代的芳基。芳基的可行的取 代基为烷基、烷氧基、卤素原子和4-苯基-1，3-丁二烯基。）
[0166] 下面是(CTM-4)的一些示例性化合物。
[0168] (在该式中，Ar112至Arm各自独立地表示取代的或未取代的芳基。Z1Q3表示亚苯基、 亚联苯基、或两个亚苯基通过亚烷基连接的二价基团。芳基的可行的取代基为烷基、烷氧基 和卤素原子。）
[0169] 下面是(CTM-5)的一些示例性化合物。
[0171](在该式中，R1()5至R1()8各自独立地表示根据下式的一价基团或烷基或取代的或未 取代的芳基，其中至少一个为根据下式的一价基团。Z1()4表示取代的或未取代的亚芳基、或 多个亚芳基通过亚乙烯基连接的二价基团。n 1()2为0或1。芳基或亚芳基的可行的取代基为烷 基、烷氧基和卤素原子。）
[0173] (在该式中，R1()9和R11()各自独立地表示氢原子、烷基，或取代的或未取代的芳基。 Ar118表示取代的或未取代的芳基。Z1()5表示取代的或未取代的亚芳基。1!2为1至3的整数。芳 基的可行的取代基为烷基、烷氧基、二烷氨基和二芳基氨基。亚芳基的可行的取代基为烷 基、烷氧基和卤素原子。）
[0174] 下面是(CTM-6)的一些示例性化合物。
[0176](在该式中，Ar119表示取代的或未取代的芳基，或根据式(7-1)或（7-2)的一价基 团。Ar12()和Ar121各自独立地表示取代的或未取代的芳基。芳基的可行的取代基为烷基、烷氧 基和卤素原子。）
[0178](在该式中，Ar122和Ar123各自独立地表示取代的或未取代的芳基、或取代的或未取 代的芳烷基。芳基或亚芳基的可行的取代基为烷基、烷氧基和卤素原子。）
[0180] (在该式中，R111和R112各自独立地表示取代的或未取代的芳基。Z1()6表示取代的或 未取代的亚芳基。芳基或亚芳基的可行的取代基为烷基、烷氧基和卤素原子。
[0181] 下面是(CTM-7)的一些示例性化合物。
[0183] 处理盒和电子照相设备
[0184] 图1示出设置有包括根据本发明一方面的电子照相感光构件的处理盒的电子照相 设备的示意性结构的实例。
[0185] 驱动圆筒形(鼓形）电子照相感光构件1，以绕轴2沿箭头方向以预定圆周速度(处 理速度)旋转。在旋转过程中，电子照相感光构件1的表面通过充电单元3充电至预定的正或 负电位。然后，用由曝光单元(未示出）发出的曝光光4辐照电子照相感光构件1的充电表面。 这生成对应于目标图像信息的静电潜像。例如，曝光光4为由图像曝光单元如狭缝曝光或激 光扫描曝光单元发出的光，根据目标图像信息的时间顺序电数字像素信号调节强度。
[0186] 然后，使用显影单元5中含有的调色剂，将形成在所述电子照相感光构件1的表面 上的静电潜像显影(常规显影或反转显影）。这在所述电子照相感光构件1的表面上生成调 色剂图像。将形成在电子照相感光构件1的表面上的调色剂图像通过转印单元6转印到转印 介质7。偏压电源(未示出）将具有相对于调色剂具有的电荷相反的极性的偏压施加至转印 单元6。当转印介质7为纸时，与所述电子照相感光构件1的旋转同步，从供给单元(未示出） 排出转印介质7,并供应至电子照相感光构件1与转印装置6之间的空隙。
[0187] 将携带从电子照相感光构件1转印的调色剂图像的转印介质7与电子照相感光构 件1的表面分开，并输送到定影单元8,在其中将调色剂图像定影。结果，载像制品(影印件或 复印件)打印输出至所述电子照相设备外。
[0188] 通过清洁单元9清洁将调色剂图像转印至转印介质7后的电子照相感光构件1的表 面，以除去任何粘附物质如调色剂(残留调色剂）。由于近年来无清洁装置系统的出现，也可 以直接用显影元件或任何其它组件收集所有残留调色剂。在通过用由预曝光单元(未示出） 发出的预曝光光10辐照除去电荷后，所述电子照相感光构件1的表面再用于形成图像。当所 述充电单元3为接触充电单元即辊型或类似的充电单元时，所述预曝光可以是不必要的。
[0189] 在本发明的一个实施方式中，可将两个以上包括电子照相感光构件1、充电单元3、 显影单元5和清洁单元9的这些结构元件一体化地支承于容器中，以形成处理盒。可将该处 理盒可拆卸地安装至电子照相设备的主体。例如，选自充电单元3、显影单元5、转印单元6和 清洁单元9和电子照相感光构件1的至少一个被一体化地支承并安装在盒中，形成处理盒 11，使用引导单元12如电子照相设备主体上的轨道，可将所述处理盒11可拆卸地安装至所 述电子照相设备的主体。
[0190] 当所述电子照相设备为复印机或打印机时，曝光光4可以是从原始文件反射或透 射过原始文件的光，也可以是由于用激光束扫描、LED阵列或液晶快门阵列驱动，或根据通 过用传感器扫描原始文件并将其转换成数字图像而得到的信号进行的类似过程而发出的 光。
[0191] 根据本发明的实施方式的电子照相感光构件1还在应用电子照相的领域中具有广 泛的应用，包括激光束打印机、CRT打印机、LED打印机、传真机、液晶打印机和激光制版。
[0192] 实施例
[0193] 以下使用实施例和比较例进一步详细描述本发明的某些方面。虽然这些实施例在 本发明的范围内，但本发明的任何方面不限于这些实施例。除非另作说明，以下实施例和比 较例中的术语"份"是基于质量。
[0194] 聚碳酸酯树脂的合成
[0195] 如下合成聚碳酸酯树脂。表13汇总了各结构单元的比例(mol%)和重均分子量。
[0196] 聚碳酸酯合成实施例1
[0197] 将下述材料溶于1100ml的5质量％的氢氧化钠水溶液:53.0g(0.196mol )2，2-双 (4-轻苯基）_4_甲基戊烧（BPMP;Tokyo Chemical Industry，产品码D3267)、41.2g (0? 204mol)双（4-轻苯基）酿(DHPE;Tokyo Chemical Industry，产品码D2121)，和0? lg亚硫 酸氢盐。在添加500ml二氯甲烷后，在搅拌下，将60g光气通过60分钟吹入所述溶液中，并将 温度维持在15 °C。
[0198] 将已经吹入光气的反应溶液与1.3g作为分子量调节剂的对-叔丁基苯酚(PTBP; Tokyo Chemical Indus try，产品码B0383) -起搅拌，直到乳化。将所得到的乳液在23 °C下 与0.4ml三乙胺一起搅拌1小时，进行聚合。
[0199] 在聚合完成后，将所述反应溶液分离成水相和有机相。用磷酸中和所述有机相，然 后用水重复洗涤，直到洗液(水相)的导电率为1 〇yS/cm以下。将所得到的聚合物溶液滴加到 保持在45 °C的温水中，并将溶剂蒸发掉。这得到白色粉状沉淀。通过过滤收集该沉淀，并在 110°C下干燥24小时。这得到具有根据式(A-101)和(B-101)的结构单元的聚碳酸酯树脂 (PC-l) 〇
[0200] 通过GPC测定的该聚碳酸酯树脂的分子量为Mw = 63000。此外，使用红外吸收光谱 分析所得到的聚碳酸酯树脂，所述光谱具有在1770CHT1左右的羰基吸收和1240CHT 1左右的 醚吸收，从而鉴定所述产物为聚碳酸酯树脂。
[0201]聚碳酸酯合成实施例2
[0202]除所述分子量调节剂PTBP的量为l.Og以外，以与聚碳酸酯合成实施例1同样的方 式合成聚碳酸酯树脂。这得到Mw = 78000的聚碳酸酯树脂(PC-2)。
[0203]聚碳酸酯合成实施例3
[0204]除所述分子量调节剂PTBP的量为1.7g以外，以与聚碳酸酯合成实施例1同样的方 式合成聚碳酸酯树脂。这得到Mw = 50000的聚碳酸酯树脂(PC-3)。
[0205]聚碳酸酯合成实施例4
[0206]除所述分子量调节剂PTBP的量为l.lg以外，以与聚碳酸酯合成实施例1同样的方 式合成聚碳酸酯树脂。这得到MW = 72000的聚碳酸酯树脂(PC-4)。
[0207]聚碳酸酯合成实施例5
[0208]除所述分子量调节剂PTBP的量为2.7g以外，以与聚碳酸酯合成实施例1同样的方 式合成聚碳酸酯树脂。这得到Mw = 34000的聚碳酸酯树脂(PC-5)。
[0209]聚碳酸酯合成实施例6
[0210]除所述分子量调节剂PTBP的量为0.8g以外，以与聚碳酸酯合成实施例1同样的方 式合成聚碳酸酯树脂。这得到Mw = 94000的聚碳酸酯树脂(PC-6)。
[0211] 聚碳酸酯合成实施例7
[0212] 除BPMP、DHPE和分子量调节剂PTBP的量分别为43.3g、48.5g和1.4g以外，以与聚碳 酸酯合成实施例1同样的方式合成聚碳酸酯树脂。这得到Mw = 59000的聚碳酸酯树脂(PC- 7) 。
[0213]聚碳酸酯合成实施例8
[0214] 除BPMP、DHPE和分子量调节剂PTBP的量分别为27.0g、60.6g和1.6g以外，以与聚碳 酸酯合成实施例1同样的方式合成聚碳酸酯树脂。这得到Mw = 53000的聚碳酸酯树脂(PC- 8) 〇
[0215]聚碳酸酯合成实施例9
[0216] 除BPMP、DHPE和分子量调节剂PTBP的量分别为21.6g、64.7g和1.6g以外，以与聚碳 酸酯合成实施例1同样的方式合成聚碳酸酯树脂。这得到Mw = 52000的聚碳酸酯树脂(PC-9)〇
[0217] 聚碳酸酯合成实施例1〇
[0218] 除BPMP、DHPE和分子量调节剂PTBP的量分别为75.7g、24.3g和1.0g以外，以与聚碳 酸酯合成实施例1同样的方式合成聚碳酸酯树脂。这得到Mw = 79000的聚碳酸酯树脂(PC-10)〇
[0219]聚碳酸酯合成实施例11
[0220]除将DHPE换成38.0g 4,4'_二羟基联苯（Tokyo Chemical Industry，产品码 B0464)以外，以与聚碳酸酯合成实施例1同样的方式合成聚碳酸酯树脂。这得到Mw = 60000 的聚碳酸酯树脂(PC-11)。该聚碳酸酯树脂具有根据式(A-101)和(B-201)的结构单元。 [0221]聚碳酸酯合成实施例12
[0222]除所述分子量调节剂PTBP的量为l.Og以外，以与聚碳酸酯合成实施例11同样的方 式合成聚碳酸酯树脂。这得到Mw = 75000的聚碳酸酯树脂(PC-12)。
[0223]聚碳酸酯合成实施例13
[0224]除所述分子量调节剂PTBP的量为1.6g以外，以与聚碳酸酯合成实施例11同样的方 式合成聚碳酸酯树脂。这得到MW = 50000的聚碳酸酯树脂(PC-13)。
[0225]聚碳酸酯合成实施例14
[0226]除所述分子量调节剂PTBP的量为l.lg以外，以与聚碳酸酯合成实施例11同样的方 式合成聚碳酸酯树脂。这得到MW = 69000的聚碳酸酯树脂(PC-14)。
[0227]聚碳酸酯合成实施例15
[0228]除所述分子量调节剂PTBP的量为2.7g以外，以与聚碳酸酯合成实施例11同样的方 式合成聚碳酸酯树脂。得到Mw = 33000的聚碳酸酯树脂(PC-15)。
[0229]聚碳酸酯合成实施例16
[0230]除所述分子量调节剂PTBP的量为0.8g以外，以与聚碳酸酯合成实施例11同样的方 式合成聚碳酸酯树脂。这得到Mw = 91000的聚碳酸酯树脂(PC-16)。
[0231] 聚碳酸酯合成实施例17
[0232] 除BPMP、4,4'_二羟基联苯和分子量调节剂PTBP的量分别为43.3g、44.7g和1.2g以 外，以与聚碳酸酯合成实施例11同样的方式合成聚碳酸酯树脂。这得到Mw = 65000的聚碳酸 酯树脂(PC-17)。
[0233]聚碳酸酯合成实施例18
[0234] 除BPMP、4，4 ' -二羟基联苯和分子量调节剂PTBP的量分别为27.0g、55.9g和1.5g以 外，以与聚碳酸酯合成实施例11同样的方式合成聚碳酸酯树脂。这得到Mw = 54000的聚碳酸 酯树脂(PC-18)。
[0235]聚碳酸酯合成实施例19
[0236] 除BPMP、4，4 ' -二羟基联苯和分子量调节剂PTBP的量分别为21.6g、59.7g和1.6g以 外，以与聚碳酸酯合成实施例11同样的方式合成聚碳酸酯树脂。这得到Mw = 50000的聚碳酸 酯树脂(PC-19)。
[0237]聚碳酸酯合成实施例20
[0238] 除BPMP、4，4 ' -二羟基联苯和分子量调节剂PTBP的量分别为75.7g、22.4g和1.0g以 外，以与聚碳酸酯合成实施例11同样的方式合成聚碳酸酯树脂。这得到Mw = 75000的聚碳酸 酯树脂(PC-20)。
[0239] 聚碳酸酯合成实施例21
[0240] 除将DHPE换成52.3g 2,2-双（3-甲基-4-羟苯基）丙烷（BPC;Honshu Chemical Industry)以外，以与聚碳酸酯合成实施例1同样的方式合成聚碳酸酯树脂。这得到Mw = 64000的聚碳酸酯树脂(PC-21)。该聚碳酸酯树脂具有根据式(A-101)和(B-307)的结构单 J L 〇
[0241] 聚碳酸酯合成实施例22
[0242]除所述分子量调节剂PTBP的量为l.Og以外，以与聚碳酸酯合成实施例21同样的方 式合成聚碳酸酯树脂。这得到MW = 80000的聚碳酸酯树脂(PC-22)。
[0243]聚碳酸酯合成实施例23
[0244]除所述分子量调节剂PTBP的量为1.6g以外，以与聚碳酸酯合成实施例21同样的方 式合成聚碳酸酯树脂。这得到MW = 54000的聚碳酸酯树脂(PC-23)。
[0245]聚碳酸酯合成实施例24
[0246]除所述分子量调节剂PTBP的量为l.lg以外，以与聚碳酸酯合成实施例21同样的方 式合成聚碳酸酯树脂。这得到MW = 74000的聚碳酸酯树脂(PC-24)。
[0247]聚碳酸酯合成实施例25
[0248]除所述分子量调节剂PTBP的量为2.7g以外，以与聚碳酸酯合成实施例21同样的方 式合成聚碳酸酯树脂。这得到Mw = 35000的聚碳酸酯树脂(PC-25)。
[0249]聚碳酸酯合成实施例26
[0250]除所述分子量调节剂PTBP的量为0.8g以外，以与聚碳酸酯合成实施例21同样的方 式合成聚碳酸酯树脂。这得到MW = 96000的聚碳酸酯树脂(PC-26)。
[0251] 聚碳酸酯合成实施例27
[0252] 除BPMP、BPC和分子量调节剂PTBP的量分别为43.3g、61.5g和1.2g以外，以与聚碳 酸酯合成实施例21同样的方式合成聚碳酸酯树脂。这得到Mw = 69000的聚碳酸酯树脂(PC- 27) 。
[0253]聚碳酸酯合成实施例28
[0254] 除BPMP、BPC和分子量调节剂PTBP的量分别为27.0g、76.9g和1.5g以外，以与聚碳 酸酯合成实施例21同样的方式合成聚碳酸酯树脂。这得到Mw = 57000的聚碳酸酯树脂(PC- 28) 〇
[0255]聚碳酸酯合成实施例29
[0256] 除BPMP、BPC和分子量调节剂PTBP的量分别为21.6g、82.0g和1.6g以外，以与聚碳 酸酯合成实施例21同样的方式合成聚碳酸酯树脂。这得到Mw = 54000的聚碳酸酯树脂(PC- 29) 〇
[0257]聚碳酸酯合成实施例30
[0258] 除BPMP、BPC和分子量调节剂PTBP的量分别为75.7g、30.8g和1.0g以外，以与聚碳 酸酯合成实施例21同样的方式合成聚碳酸酯树脂。这得到Mw = 80000的聚碳酸酯树脂(PC- 30) 〇
[0259]聚碳酸酯合成实施例31
[0260]除将 BPMP 换成 55.7g 衍生自 5_ 甲基 _2_ 己酮（Tokyo Chemical Industry，产品码 10087)的2,2_双(4-羟苯基）5_甲基己烷以外，以与聚碳酸酯合成实施例1同样的方式合成 聚碳酸酯树脂。这得到MW = 66000的聚碳酸酯树脂(PC-31)。该聚碳酸酯树脂具有根据式(A-102)和(B-101)的结构单元。
[0261] 聚碳酸酯合成实施例32
[0262] 除将 BPMP 换成 57.31g 衍生自 5-甲基-3-庚酮（Tokyo Chemical Industry，产品码 M0335)的3，3_双(4-羟苯基）5_甲基庚烷以外，以与聚碳酸酯合成实施例1同样的方式合成 聚碳酸酯树脂。这得到M W = 68000的聚碳酸酯树脂(PC-32)。该聚碳酸酯树脂具有根据式(A-201)和(B-101)的结构单元。
[0263]聚碳酸酯合成实施例33
[0264] 除将BPMP换成65.2g衍生自异丁基苯基酮（Tokyo Chemical Industry，产品码 10296)的1，1_双(4-羟苯基)-1_苯基-3-甲基丁烷以外，以与聚碳酸酯合成实施例1同样的 方式合成聚碳酸酯树脂。这得到Mw = 77000的聚碳酸酯树脂(PC-33)。该聚碳酸酯树脂具有 根据式(A-103)和(B-101)的结构单元。
[0265]聚碳酸酯合成比较例1
[0266]除将BPMP换成56? 9g 1，1_双（4_轻苯基）_1_苯乙烧(Honshu Chemical Industry) 以外，以与聚碳酸酯合成实施例1同样的方式合成聚碳酸酯树脂。这得到Mw = 65000的聚碳 酸酯树脂(PC-34)。该聚碳酸酯树脂具有由下式表示的结构单元（比较结构）和根据式(B-101)的结构单元。
[0268]聚碳酸酯合成比较例2
[0269]除不使用BPMP和DHPE的量为80.8g以外，以与聚碳酸酯合成实施例1同样的方式合 成聚碳酸酯树脂。这得到聚碳酸酯树脂(PC-35)。该聚碳酸酯树脂具有根据式(B-101)的结 构单元。
[0270]表13
[0271 ]聚碳酸酯树脂的特性
[0273] 镓酞菁晶体的合成
[0274] 如下合成用作电荷产生材料的镓酞菁晶体。
[0275] 羟基镓酞菁Ga-0的合成
[0276] 在反应器中，在氮气流下，将5.46份苯二甲腈和45份a-氯萘加热至30°C，并维持在 该温度。在相同温度(30 °C)下，添加3.75份三氯化镓。在添加三氯化镓时，所述液体混合物 的水含量为150ppm。然后将所述温度提高至200°C。在氮气流下，使所述混合物在200°C温度 下反应4.5小时，然后冷却。当所述温度达到150°C时，过滤所述含有产物的混合物。通过在 140°C温度下分散在N，N-二甲基甲酰胺中2小时，洗涤所述滤取物，并过滤得到的液体分散 物。用乙醇洗涤所述滤取物，并干燥。这得到4.65份(71%产率)氯镓酞菁(CIGa)。
[0277] 将得到的4.65份CIGa在10°C温度下溶于139.5份浓硫酸。将所得到的溶液滴加至 620份冰水以进行再沉淀，并使用压滤器过滤所得到的混合物。通过分散在2%氨水中洗涤 得到的湿滤饼(滤取物），并使用压滤器过滤所得到的液体分散物。然后，通过在离子交换水 中分散、洗涤并使用压滤器过滤的三个循环纯化得到的湿滤饼(滤取物），由此得到固含量 为23%的羟基镓酞菁颜料(湿羟基镓酞菁颜料）。
[0278] 然后，如下使用HYPER-DRY HD-06R干燥箱（Biocon(日本）；频率（振荡频率）， 2455MHz ± 15MHz )，干燥6.6kg所得到的羟基镓酞菁颜料(湿羟基镓酞菁颜料）。
[0279] 将刚从压滤器移开的羟基镓酞菁颜料滤饼(湿滤饼的厚度为4cm以下)放到专用的 圆形塑料托盘上。关闭远红外辐射，所述干燥箱内壁的温度设置为50°C。在所述微波照射过 程中，调节真空栗和放气阀以将真空度保持在4.0至10.OkPa的范围内。
[0280]在步骤1中，用4.8kW的微波照射所述羟基镓酞菁颜料50分钟。然后关掉微波，并关 闭放气阀，以形成2kPa以下的高度真空。此时，羟基镓酞菁颜料的固含量为88 %。在步骤2 中，调节放气阀以使真空度(干燥箱内的压力)落在上述参数范围(4.0至10.OkPa)内。然后， 用1.2kW的微波照射所述羟基镓酞菁颜料5分钟。关掉微波，并关闭放气阀，以形成2kPa以下 的高度真空。再次重复步骤2(总共两次）。此时，羟基镓酞菁颜料的固含量为98%。在步骤3 中，除将微波输出功率从1.2kW变为0.8kW以外，以与步骤2同样的方式进行微波照射。再次 重复步骤3(总共两次）。在步骤4中，调节放气阀以使真空度(干燥箱内的压力）重新落在上 述参数范围（4.0至10.OkPa)内。然后，用0.4kW的微波照射所述羟基镓酞菁颜料3分钟。关掉 微波，并关闭放气阀，以形成2kPa以下的高度真空。将步骤4再重复7次（总共8次）。这得到 1.52kg含1 %以下水的羟基镓酞菁颜料(Ga-0)，总共花费3小时。
[0281] 镓酞菁晶体Ga-1的合成
[0282] 在球磨机中，在室温(23°C)和120rpm下，将0.5份所得到的羟基镓酞菁Ga-0和10份 N-甲基甲酰胺用20份0.8mm直径玻璃珠研磨300小时。通过过滤收集使用N，N-二甲基甲酰胺 从该液体分散物移出的镓酞菁晶体，并用四氢呋喃充分洗涤所述过滤物的表面。在真空中 干燥所述滤取物，得到〇 . 45份羟基镓酞菁晶体Ga-1。图2为所得到的晶体的粉末X射线衍射 图。
[0283] 使用氘化硫酸作为溶剂进行h-NMR光谱[通过AVANCE III 500分光计(Bruker)]， 确认晶体Ga-1含有0.9质量％的^甲基甲酰胺。
[0284] 镓酞菁晶体Ga-2的合成
[0285] 除将10份N-甲基甲酰胺换成10份N，N_二甲基甲酰胺和将研磨时间由300小时变成 400小时以外，以与镓酞菁晶体Ga-1的合成同样的方式合成镓酞菁晶体。这得到0.40份羟基 镓酞菁晶体Ga-2 Aa-2的粉末X射线衍射图与图2中的类似。NMR测量表明，如由质子的相对 丰度换算的，晶体Ga-2含有1.4质量％的~，N-二甲基甲酰胺。
[0286]镓酞菁晶体Ga-3的合成
[0287]除将10份N-甲基甲酰胺换成10份N，N_丙基甲酰胺和将研磨时间由300小时变成 500小时以外，以与镓酞菁晶体Ga-1的合成同样的方式合成镓酞菁晶体。这得到0.40份羟基 镓酞菁晶体Ga-3 Aa-3的粉末X射线衍射图与图2中的类似。NMR测量表明，如由质子的相对 丰度换算的，晶体Ga-3含有1.4质量％的^丙基甲酰胺。
[0288]镓酞菁晶体Ga-4的合成
[0289]除将10份N-甲基甲酰胺换成10份N，N_乙烯基甲酰胺和将研磨时间由300小时变成 100小时以外，以与镓酞菁晶体Ga-1的合成同样的方式合成镓酞菁晶体。这得到0.40份羟基 镓酞菁晶体Ga-4 Aa-4的粉末X射线衍射图与图2中的类似。NMR测量表明，如由质子的相对 丰度换算的，晶体Ga-4含有1.8质量％的^乙烯基甲酰胺。
[0290] 镓酞菁晶体Ga-5的合成
[0291] 在球磨机中，在室温(23°C)下，将0.5份以上得到的氯镓酞菁(CIGa)用20份0.8mm 直径玻璃珠干研磨40小时。添加10份N，N-二甲基甲酰胺，并在室温(23 °C)下进行湿研磨100 小时。通过过滤收集使用N，N-二甲基甲酰胺从该液体分散物移出的结晶性镓酞菁，并用四 氢呋喃充分洗涤所述过滤物的表面。在真空中干燥所述滤取物，得到0.44份氯镓酞菁晶体 Ga-5。图3为所得到的晶体的粉末X射线衍射图。
[0292] 使用氘化硫酸作为溶剂进行h-NMR光谱[通过AVANCE III 500分光计(Bruker)]， 确认晶体Ga-5含有1.0质量％的~，N-二甲基甲酰胺。
[0293]镓酞菁晶体Ga-6的合成
[0294]除将研磨时间由400小时变成48小时以外，以与镓酞菁晶体Ga-2的合成同样的方 式合成镓酞菁晶体。这得到0.46份羟基镓酞菁晶体Ga-6 AMR测量表明，如由质子的相对丰 度换算的，晶体Ga-6含有2.1质量％的叱1二甲基甲酰胺。
[0295]镓酞菁晶体Ga-7的合成
[0296] 除将10份N-甲基甲酰胺换成10份N，N-二甲基甲酰胺和将研磨时间由300小时变成 100小时以外，以与镓酞菁晶体Ga-1的合成同样的方式合成羟基镓酞菁晶体。这得到0.40份 羟基镓酞菁晶体Ga-7。图4为所得到的晶体的粉末X射线衍射图。匪R测量表明，如由质子的 相对丰度换算的，晶体Ga-7含有2.2质量％的~，N-二甲基甲酰胺。
[0297] 电子照相感光构件的制造
[0298]在下文中，电子照相感光构件的各层的厚度是使用Fischerscope祸流涂层厚度测 量仪(Fischer Instruments)得到的测量值或基于单位面积上的质量和比重的计算结果。
[0299] 实施例1-1至1-37和比较例1-1至1-3
[0300] 实施例1-1
[0301] 在球磨机中，将由下述材料组成的溶液进行20小时分散:60份涂有氧化锡的硫酸 钡颗粒（商品名，Passtran PCl;Mitsui Mining&Smelting)、15份氧化钛颗粒（商品名， HTANIX JR;Tayca Corporation)、43份甲阶型酚醛树脂（商品名，PHENOLITE J-325;DIC Corporation;固含量，70质量％ )、0.015份硅油（商品名，SH28PA;Dow Corning Toray)、3 ? 6 份娃酮树脂（商品名，Tospearl 120;Toshiba Silicones)、50份1-甲氧基-2-丙醇和50份甲 醇。用这种方法，制得导电层形成用涂布液。
[0302] 通过浸涂，将该导电层形成用涂布液施涂至用作支承体的长261.5mm且直径24mm 的铝圆筒体(JIS-A3003铝合金），并在140°C下干燥所得到的湿涂层30分钟。用这种方法，形 成15wii厚的导电层。
[0303] 然后，将10份共聚尼龙树脂(商品名，AMILAN CM8000;Toray)和30份甲氧基甲基化 尼龙6树脂（商品名，Toresin EF_30T;Teikoku Kagaku Sangyo K.K.)溶于400份甲醇和200 份正丁醇的溶剂混合物，制得底涂层形成用涂布液。通过浸涂，将该底涂层形成用涂布液施 涂至所述导电层，并干燥所得到的湿涂层。用这种方法，形成〇. 7wii厚的底涂层(UCL-1)。 [0304]然后，在砂磨机中，将10份镓酞菁晶体Ga_l(电荷产生材料）、5份聚乙烯醇缩丁醛 (商品名，S-LEC BX-l;Sekisui Chemical)和250份环己酮与1.0mm直径的玻璃珠一起进行6 小时分散。用250份乙酸乙酯稀释该液体分散物，制得电荷产生层形成用涂布液。通过浸涂， 将该电荷产生层形成用涂布液施涂至所述底涂层，并在l〇〇°C下干燥所得到的湿涂层10分 钟。用这种方法，形成0.22m厚的电荷产生层。
[0305]然后，将10份聚碳酸酯树脂PC-1和9份作为电荷输送材料的根据式（102)和下式的 化合物的混合物(6:3的混合比）溶于70份邻二甲苯(Xy)和20份二甲氧基甲烷(DMM)，制得电 荷输送层形成用涂布液电荷输送层形成用涂布液。通过浸涂，将该电荷输送层形成用涂布 液电荷输送层形成用涂布液施涂至所述电荷产生层，并在125°C下干燥所得到的湿涂层1小 时。用这种方法，形成15.5wii厚的电荷输送层。
[0307] 实施例1-2至1-37和比较例1-1至1-3
[0308]根据表14,在下述条件方面对上述方法(实施例1-1)进行改变，制造电子照相感光 构件：电荷产生层中电荷产生材料的种类；电荷输送层中树脂的种类以及溶剂的种类和量 (份）。对于比较例1-3,由于电荷输送层形成用涂布液电荷输送层形成用涂布液中的未溶解 固体，电子照相感光构件的下述测试是不可能的。在所述表中，THF表示四氢呋喃。
[0309] 测试
[0310] 在制造的电子照相感光构件上进行下述测试。所述测试结果汇总在表14中。
[0311] 雾化减少的效果
[0312] 在改变至允许调节随其使用的电子照相感光构件的带电电位(暗部电位)之后，将 CP-4525激光束打印机(Hewlett Packard)用作测试设备。所述带电电位(暗部电位)设置 为-600V〇
[0313]将所制得的电子照相感光构件各自安装到测试设备的处理盒(青色）中。在温度23 °C和相对湿度50%的条件下，在30，000张 A4普通纸上连续打印具有1 %图像记录区域的测 试图表，分3个批次，每个批次之间间隔6秒。
[0314] 在该30,000张耐久性测试后，使用反射计(TC-6DS反射计，Tokyo Denshoku co.， Ltd.)进行反射法，以测定所述图像的白色背景内的最差反射浓度F1和普通纸上的平均基 线反射浓度FCLFl-FO差值定义为雾化水平，雾化水平越小表示更有效的雾化减少。在本发 明的这些实施例中，所述标准中的等级AA至E构成良好的水平，而F和G构成不可接受的水 平。
[0315] AA:雾化水平小于1.0。
[0316] A:雾化水平为1.0以上且小于1.5。
[0317] B:雾化水平为1.5以上且小于2.0。
[0318] C:雾化水平为2.0以上且小于2.5。
[0319] D:雾化水平为2.5以上且小于3.0。
[0320] E:雾化水平为3.0以上且小于4.0。
[0321] F:雾化水平为4.0以上且小于5.0。
[0322] G:雾化水平为5.0以上。
[0323] 表14
[0324]电子照相感光构件的制造条件和测试结果
[0326] 实施例2-1至2-287和比较例2-1至2-8
[0327] 实施例2-1
[0328] 在球磨机中，将由下述材料组成的溶液进行20小时分散:60份涂有氧化锡的硫酸 钡颗粒（商品名，Passtran PCl;Mitsui Mining&Smelting)、15份氧化钛颗粒（商品名， HTANIX JR;Tayca Corporation)、43份甲阶型酚醛树脂（商品名，PHENOLITE J-325;DIC Corporation;固含量，70质量％ )、0.015份硅油（商品名，SH28PA;Dow Corning Toray)、3 ? 6 份娃酮树脂（商品名，Tospearl 120;Toshiba Silicones)、50份1-甲氧基-2-丙醇和50份甲 醇。用这种方法，制得导电层形成用涂布液。
[0329] 通过浸涂，将该导电层形成用涂布液施涂至用作支承体的长261.5mm且直径24mm 的铝圆筒体(JIS-A3003铝合金），并在140°C下干燥所得到的湿涂层30分钟。用这种方法，形 成30M1厚的导电层。
[0330] 然后，将10份共聚尼龙树脂(商品名，AMILAN CM8000;Toray)和30份甲氧基甲基化 尼龙6树脂（商品名，Toresin EF_30T;Teikoku Kagaku Sangyo K.K.)溶于400份甲醇和200 份正丁醇的溶剂混合物，制得底涂层形成用涂布液。通过浸涂，将该底涂层形成用涂布液施 涂至所述导电层，并干燥所得到的湿涂层。用这种方法，形成〇. 8wii厚的底涂层(UCL-1)。
[0331] 然后，在砂磨机中，将10份镓酞菁晶体Ga_l(电荷产生材料）、5份聚乙烯醇缩丁醛 (商品名，S-LEC BX-l;Sekisui Chemical)和250份环己酮与1.0mm直径的玻璃珠一起进行6 小时分散。用250份乙酸乙酯稀释该液体分散物，制得电荷产生层形成用涂布液。通过浸涂， 将该电荷产生层形成用涂布液施涂至所述底涂层，并在l〇〇°C下干燥所得到的湿涂层10分 钟。用这种方法，形成〇. 23m厚的电荷产生层。
[0332]然后，将10份作为聚碳酸酯树脂的示例性化合物1001(Mw:63,000)和9份作为电荷 输送材料的根据式（102)和(205)的化合物的混合物(9:1的混合比）溶于70份邻二甲苯(Xy) 和20份二甲氧基甲烷(DMM)，制得电荷输送层形成用涂布液电荷输送层形成用涂布液。通过 浸涂，将该电荷输送层形成用涂布液电荷输送层形成用涂布液施涂至所述电荷产生层，并 在125°C下干燥所得到的湿涂层1小时。用这种方法，形成20wii厚的电荷输送层。
[0333] 实施例2-2至2-287和比较例2-1至2-8
[0334] 根据表15-20,在下述条件方面对上述方法(实施例2-1)进行改变，制造电子照相 感光构件:使用或省略导电层;底涂层的种类；电荷产生层中的电荷产生材料的种类；电荷 输送层中的树脂的种类和重均分子量Mw，电荷输送材料的种类(如果组合使用两个材料时 的质量比），电荷输送材料和树脂的量(份），以及溶剂的种类和量(份）。示例性化合物3001 为B组结构单元B-101的聚合物(重均分子量为63，000)(介电常数为2.11)。示例性化合物 3002为B组结构单元B-201的聚合物(重均分子量为53，000)(介电常数为2.20)。示例性化合 物3003为B组结构单元B-403的聚合物(重均分子量为36，000)(介电常数为2.41)。如下制备 底涂层UCL-2和UCL-3以及含有电荷产生材料CGM-1或CGM-2的电荷产生层。
[0335] 底涂层 UCL-2
[0336 ]将10份根据下式(ETM-1)的电子输送化合物、
[0338] 17份作为交联剂的根据下式的封端异氰酸酯化合物(商品名，Sumidur 3175;固含 量，75质量％ ;Sumitomo Bayer Urethane)、
[0340] 2份聚乙烯醇缩丁醛（商品名，S-LEC BX_l;Sekisui Chemical)和0.2份作为添加 剂的丁酸锌（II)溶于100份四氢呋喃和100份1-甲氧基-2-丙醇的溶剂混合物，制得底涂层 形成用涂布液。通过浸涂，将该底涂层形成用涂布液施涂至所述导电层，并在160°C下加热 所得到的湿涂层30分钟以干燥并固化。用这种方法，形成0.7m厚的底涂层UCL-2。
[0341 ]底涂层 UCL-3
[0342]在搅拌下，将100份氧化锌颗粒（平均一次粒径，50nm;比表面积，19m2/g;粉末电 阻，4.7X106Q ? cm;Tayca Corporation)混合到500份甲苯中。将所得到的混合物与1.25 份作为表面处理剂的N-2-(氨乙基）-3_氨丙基甲基二甲氧基硅烷(商SS，KBM602;Shin-Etsu Chemical) -起搅拌6小时。然后，在减压下除去甲苯，并在130°C下干燥滤取物6小时， 制得表面处理过的氧化锌颗粒。然后，将75份这些表面处理过的氧化锌颗粒、16份上述封端 异氰酸酯化合物（商品名，Sumidur 3175;固含量，75质量％;Sumitomo Bayer Urethane)、9 份聚乙烯醇缩丁醛(商品名，S-LEC BM-l;Sekisui Chemical)和1份2,3,4_三羟基二苯甲酮 (Tokyo Chemical Industry)添加到60份甲基乙基酮和60份环己酮的溶剂混合物中，制得 液体分散物。在垂直球磨机中，在23°C的气氛和1，500rpm的转速下，将该液体分散物与平均 粒径为1. 〇mm的玻璃珠一起进行3小时分散。在分散完成后，将所述液体分散物与5份交联的 甲基丙稀酸甲酯颗粒(商品名，SSX-103;平均粒径3ym; Sekisui Chemical)和0.01份硅油 (商品名，SH28PA;Dow Corning Toray) -起搅拌，制得底涂层形成用涂布液。通过浸涂，将 该底涂层形成用涂布液施涂至所述支承体，并在160°C下加热所得到的湿涂层40分钟以聚 合。用这种方法，形成30wii厚的底涂层(UCL-3)。
[0343] 含有电荷产生材料CGM-1的电荷产生层
[0344] 在使用1.0mm直径玻璃珠的球磨机中，将12份在其CuKa特征X射线衍射图中27.3° 布拉格角(20±〇.2°)处具有峰的Y-型氧钛酞菁晶体(电荷产生材料）、10份聚乙烯醇缩丁醛 (商品名，S-LEC BX-1;Sekisui Chemical)和250份环己酮进行3小时分散，制得液体分散 物。用500份乙酸乙酯稀释该液体分散物，制得电荷产生层形成用涂布液。通过浸涂，将该电 荷产生层形成用涂布液施涂至所述底涂层，并在80°C下干燥所得到的湿涂层10分钟。用这 种方法，形成0.20wii厚的电荷产生层。
[0345] 含有电荷产生材料CGM-2的电荷产生层
[0346] 在使用1.0mm直径玻璃珠的球磨机中，将15份电荷产生材料CGM_2(其为根据下式 的双偶氮颜料)、
[0348] 10份聚乙烯醇缩丁醛(商品名，S-LEC BX_l;Sekisui Chemical)和250份四氢呋喃 进行3小时分散，制得液体分散物。用100份环己酮和500份四氢呋喃稀释该液体分散物，制 得电荷产生层形成用涂布液。通过浸涂，将该电荷产生层形成用涂布液施涂至所述底涂层， 并在110°C下干燥所得到的湿涂层30分钟。用这种方法，形成0.30wii厚的电荷产生层。
[0349] 表 15
[0350]感光构件的制造条件
[0352] 表16
[0353] 感光构件的制造条件
[0355] 表17
[0356] 感光构件的制造条件
[0367] 测试
[0368] 在制造的电子照相感光构件或电荷输送层形成用涂布液电荷输送层形成用涂布 液上进行下述测试。所述测试结果汇总在表21-26中。
[0369] 电荷输送层形成用涂布液电荷输送层形成用涂布液的测试 [0370]储存稳定性
[0371] 在制备后搅拌24小时之后，将电荷输送层形成用涂布液电荷输送层形成用涂布液 在温度23°C和相对湿度50%的条件下储存在紧密密封容器中1个月。目测检查储存的电荷 输送层形成用涂布液电荷输送层形成用涂布液，并根据下述标准评价储存稳定性。
[0372] A:没有不溶解的固体，且涂布液透明。
[0373] B:没有不溶解的固体，但涂布液轻微不透明。
[0374] C:没有不溶解的固体，但涂布液显著不透明。
[0375] D:存在不溶解的固体。
[0376] 对于具有等级D储存稳定性的电荷输送层形成用涂布液电荷输送层形成用涂布 液，电子照相感光构件的下述测试是不可能的。
[0377] 电子照相感光构件的测试 [0378]雾化减少的效果
[0379]在改变至允许调节随其使用的电子照相感光构件的带电电位(暗部电位)之后，将 CP-4525激光束打印机(Hewlett Packard)用作测试设备。所述带电电位(暗部电位)设置 为-600V〇
[0380]将所制得的电子照相感光构件各自安装到测试设备的处理盒(青色）中。在温度23 °C和相对湿度50%的条件下，分3个批次，每个批次之间间隔6秒，在10,000张 A4普通纸上连 续打印具有1 %图像记录区域的测试图表。
[0381] 在该30,000张耐久性测试后，使用反射计(TC-6DS反射计，Tokyo Denshoku co.， Ltd.)进行反射法，以测定所述图像的白色背景内的最差反射浓度F1和普通纸上的平均基 线反射浓度FCLFl-FO差值定义为雾化水平，雾化水平越小表示更有效的雾化减少。在本发 明的这些实施例中，所述标准中的等级AA至E构成良好的水平，而F和G构成不可接受的水 平。
[0382] AA:雾化水平小于1.0。
[0383] A:雾化水平为1.0以上且小于1.5。
[0384] B:雾化水平为1.5以上且小于2.0。
[0385] C:雾化水平为2.0以上且小于2.5。
[0386] D:雾化水平为2.5以上且小于3.0。
[0387] E:雾化水平为3.0以上且小于4.0。
[0388] F:雾化水平为4.0以上且小于5.0。
[0389] G:雾化水平为5.0以上。
[0390]重复使用后的敏感度和电特性
[0391]在改变至允许调节随其使用的电子照相感光构件的带电电位(暗部电位)和曝光 量之后，将CP-4525激光束打印机(Hewlett Packard)用作测试设备。
[0392]将所制得的电子照相感光构件各自安装到测试设备的处理盒(青色）中。在温度23 °C和相对湿度50%的条件下，在10，000张 A4普通纸上连续打印具有4%图像记录区域的测 试图表。调节充电偏压，以使所述电子照相感光构件带电至-600V(暗部电位）。调节曝光条 件，以使曝光量将为〇 ? 4yJ/cm2 〇
[0393]在该过程重复使用前后，如下测量所述电子照相感光构件的亮部电位。将显影元 件从所述测试设备的处理盒移开，并使用放置在显影端的具有电位测量探针（商品名， Model 6000B-8;Trek)的表面电位计(Model 344，Trek)，测量所述电子照相感光构件的亮 部电位。将电位测量探针放置在所述电子照相感光构件的轴向中间，其测量表面与所述感 光构件的表面之间具有3mm的间隙。
[0394] 使用得到的重复使用之前的电子照相感光构件的亮部电位评价所述感光构件的 敏感度。重复使用之前的电子照相感光构件的亮部电位越高，所述感光构件越敏感。
[0395] 此外，使用所述电子照相感光构件的亮部电位在重复使用前至重复使用后的变化 (差值)评价所述电子照相感光构件在重复使用后的电特性。亮部电位变化越小，所述电子 照相感光构件重复使用后的电特性越好。
[0396] 快速记录响应性
[0397] 准备两个测试设备X和Y。改造 CP-4525激光束打印机(Hewlett Packard)，以允许 调节随其使用的电子照相感光构件的带电电位(暗部电位)和曝光量以及显影偏压(测试设 备X)。进一步改造测试设备X，以将其处理速度（电子照相感光构件的转速)增大1.5倍(测试 设备Y)。
[0398]将所制得的电子照相感光构件各自安装到测试设备X和Y的处理盒(青色）中。在温 度23°C和相对湿度50%条件下，在A4普通纸上打印图4所示的单点〃象棋中马移动〃图案半 色调图像，分别产生测试图像X和Y。调节充电偏压，以使所述电子照相感光构件将被充电 至-600V(暗部电位）。调节曝光条件，以使曝光量将为0.4iiJ/cm 2。调节显影条件，以使显影 偏压为-350V。
[0399] 将使用RD-918浓度计(Macbeth)测定的测试图像X与Y之间的图像浓度(Macbeth浓 度)之差用于评价快速记录响应性。更具体地，在每个测试图像上，在对应于电子照相感光 构件的一个旋转的图像区内的10个点处，使用SPI滤光器测量5mm直径圆内的反射浓度，并 将所述10个点之间的平均值用作测试图像的图像浓度。图像浓度之差越小，快速记录响应 性越快。评价标准如下。
[0400] A:图像浓度之差小于0.02。
[0401 ] B:图像浓度之差为0.02以上且小于0.04。
[0402] C:图像浓度之差为0.04以上且小于0.06。
[0403] D:图像浓度之差为0.06以上。
[0404] 长期储存稳定性
[0405] 将制得的电子照相感光构件各自安装到CP-4525激光束打印机（Hewlett Packard)的处理盒(青色）中，并在温度60°C和相对湿度50%的条件下储存14天。使用光学 显微镜观察储存的电子照相感光构件的表面，并目测检查测试图像。使用所述结果评价长 期稳定性。使用另一个CP-4525激光束打印机，将所述储存的电子照相感光构件安装到其处 理盒(青色）中，打印测试图像。评价标准如下。
[0406] A:在表面上未观察到沉积。
[0407] B:在表面上观察到一些沉积，但没有影响到图像质量。
[0408] C:在表面上观察到许多沉积，但没有影响到图像质量。
[0409]光存储预防的效果
[0410]在改变至允许调节随其使用的电子照相感光构件的带电电位(暗部电位)之后，将 CP-4525激光束打印机(Hewlett Packard)用作测试设备。所述带电电位(暗部电位)设置 为-600V〇
[0411] 将所制得的电子照相感光构件各自安装到测试设备的处理盒(青色）中。在温度23 °C和相对湿度50%的条件下，在10,000张 A4普通纸上连续打印半色调图像。然后，将电子照 相感光构件从处理盒移开。然后，使用白色荧光灯的2,0001ux光照射所述电子照相感光构 件的表面10分钟，其中部分表面屏蔽了来自沿圆周方向的光。将该电子照相感光构件安装 到另一处理盒(青色）中，并在用荧光灯照射完成之后，打印图4所示单点〃象棋中马移动〃图 案半色调图像30分钟。目测检查所述半色调图像的对应于光屏蔽(未曝光)和非光屏蔽(曝 光)部分的区域，使用图像浓度之差评价光存储预防的效果。评价标准如下。
[0412] A:未观察到浓度差。
[0413] B:存在微小的浓度差。
[0414] C:存在浓度差，但在实际使用中没引起问题。
[0415] D:存在浓度差，但在所述区域之间没有清晰的界限。
[0416] E:存在显著的浓度差，且所述区域之间的界限至少部分是清晰的。
[0417] 表21 [0418]测试结果
[0435]虽然参考示例性的实施方式已描述了本发明，但将理解本发明不局限于所公开的 示例性的实施方式。将给予权利要求的范围最宽泛的解释，以包括所有此类变型以及等同 的结构和功能。
【主权项】
1. 一种电子照相感光构件，其特征在于，依次包括支承体、电荷产生层和电荷输送层， 所述电荷输送层含有电荷输送材料， 所述电荷输送层为所述电子照相感光构件的表面层， 所述电荷输送层含有具有选自A组的结构单元和选自B组的结构单元的聚碳酸酯树脂， 所述A组包括由式（101)和（102)表示的结构单元：其中，R211至R214各自独立地表示氢原子或烷基、芳基或烷氧基，R215表示烷基、芳基或烷 氧基，R216和R217各自独立地表示含有1-9个碳原子的烷基，i211表示0-3的整数，且R 215和 (CH2) iCHR216Rm为不同的基团；其中，R221至R224各自独立地表示氢原子或烷基、芳基或烷氧基，R225和R 226各自独立地表 示含有1-9个碳原子的烷基，R225和R226为不同的基团，和i221表示0-3的整数； 所述B组包括由式（104)、（105)和（106)表示的结构单元：其中，R241至R244各自独立地表示氢原子或烷基、芳基或烷氧基，和X表示单键、氧原子、 硫原子或磺酰基；其中，R251至R254各自独立地表示氢原子或烷基、芳基或烷氧基，和R256和R 257各自独立地 表示氢原子或烷基、芳基或卤代烷基；其中，R261至R264各自独立地表示氢原子或烷基、芳基或烷氧基，和W表示含有5-12个碳 原子的环烷叉基。2. 根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述聚碳酸酯树脂的重均分子量为 40,000以上且80,000以下。3. 根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件，其中在所述聚碳酸酯树脂中，选自A组 的结构单元的比例为20mol%以上且70mol%以下。4. 根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件，其中在所述电荷输送层中，所述电荷 输送材料的量为所述聚碳酸酯树脂的量的70质量％以下。5. -种根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件的制造方法，其特征在于，所述方 法包含： 通过形成电荷输送层形成用涂布液的湿涂层来制备所述电荷输送层，所述涂布液含有 所述电荷输送材料、所述聚碳酸酯树脂和偶极矩为1.0D以下的溶剂;和 干燥所述湿涂层。6. 根据权利要求5所述的电子照相感光构件的制造方法，其中所述偶极矩为1.0D以下 的溶剂为选自二甲苯和甲缩醛的溶剂。7. -种处理盒，其特征在于，包括根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件和选自 由充电单元、显影单元、转印单元和清洁单元组成的组的至少一种单元，所述处理盒一体化 地支承所述电子照相感光构件和所述至少一种单元，并设置为可拆卸地安装至电子照相设 备的主体。8. -种电子照相设备，其特征在于，包括根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件、 充电单元、曝光单元、显影单元和转印单元。
【文档编号】G03G5/04GK105929642SQ201610109106
【公开日】2016年9月7日
【申请日】2016年2月26日
【发明人】伊藤阳太, 三浦大祐, 日当翔马, 友野宽之, 姉崎隆志, 山合达也, 杉山和道, 川原正隆, 上杉浩敏, 丸山晃洋, 云井郭文, 田中正人
【申请人】佳能株式会社