专利名称：晶片台角度调整装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种角度调整装置，尤其涉及一种晶片台角度调整装置。
背景技术：
离子注入机是半导体工艺中离子掺杂的典型设备，离子源产生需要掺杂的离子束，离子束再经过质量分析、校正、加速，传输到处于靶室终端工艺腔体的晶片表面。
在工艺过程中，需要将晶片进行不同角度的离子注入以满足不同工艺的要求。晶片装夹在晶片台的静电卡盘上，因此，晶片角度变换是通过调整晶片台角度来实现的。
如何实现精确的注入角度控制，是离子注入机靶室设计中的难点问题之一，特别是目前广泛使用的大角度离子注入机，其注入角度精度要求达到±0.1°以内，难度更加突出。
发明内容
针对上述情况，本实用新型提供一种晶片台角度调整装置，可以有效的实现晶片台角度调整，满足精确控制注入角度的工艺要求。
本实用新型通过以下技术方案实现晶片台角度调整装置，包括静电卡盘基座、晶片台基座、密封法兰、导向座、运动轴、微电机，其中所述可旋转静电卡盘基座在晶片台基座上，晶片台基座固定在可旋转运动轴的一端，运动轴穿过导向座、密封法兰，运动轴的另一端连接微电机。
本实用新型的有益效果是1.结构简单有效，控制容易；2.注入角度精度可以达到±0.1°。
图1是本实用新型的构造示意图。
图2是晶片台旋转到水平位置示意图。
其中1-静电卡盘基座2-晶片台基座3-密封法兰4-导向座5-运动轴6-直线电机连接座7-微电机具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步介绍，但不作为对本实用新型的限定。
其中所述可旋转静电卡盘基座在晶片台基座上，晶片台基座固定在可旋转运动轴的一端，运动轴穿过导向座、密封法兰，运动轴的另一端连接微电机。
如图1所示，静电卡盘基座1在晶片台基座2上，上面固定用于夹持晶片的静电卡盘(图中未示)，同时，静电卡盘基座1可以相对晶片台基座2作0到90度的旋转运动；密封法兰3实现垂直运动的动态密封，直线电机连接座6固定在运动轴5上，是与直线电机(图中未示)连接的部分；微电机7与运动轴5的另外一端相连接，用于驱动运动轴5作轴向旋转运动；图2是晶片台旋转到水平位置的示意图，通过控制运动轴5在轴向旋转的角度和晶片台静电卡盘基座在晶片台基座2上的旋转角度就可以实现晶片注入角度(0到60度)的任意调整。
本发明新型的特定实施例已对本实用新型的内容做了详尽说明。对本领域一般技术人员而言，在不背离本实用新型精神的前提下对它所做的任何显而易见的改动，都构成对本实用新型专利的侵犯，将承担相应的法律责任。
权利要求1.一种晶片台角度调整装置，其特征在于包括静电卡盘基座、晶片台基座、密封法兰、导向座、运动轴、微电机，其中所述可旋转静电卡盘基座在晶片台基座上，晶片台基座固定在可旋转运动轴的一端，运动轴穿过导向座、密封法兰，运动轴的另一端连接微电机。
专利摘要本实用新型公开了一种晶片台角度调整装置，包括静电卡盘基座、晶片台基座、密封法兰、导向座、运动轴、微电机，其中所述可旋转静电卡盘基座在晶片台基座上，晶片台基座固定在可旋转运动轴的一端，运动轴穿过导向座、密封法兰，运动轴的另一端连接微电机。本实用新型结构简单有效，控制容易，注入角度精度可以达到±0.1°。
文档编号H01J37/317GK2922117SQ20062000818
公开日2007年7月11日 申请日期2006年3月17日 优先权日2006年3月17日
发明者许波涛, 郭健辉, 易文杰 申请人:北京中科信电子装备有限公司