专利名称：具有内磁屏蔽罩的彩色阴极射线管的制作方法
技术领域：
本发明涉及具有内磁屏蔽罩的彩色阴极射线管(CRT)，更具体地说所涉及的内磁屏蔽罩具有限制吸气剂材料薄膜沉积在其外表面的装置。
彩色CRT具有内抽真空的玻壳，玻壳由矩形面屏和与玻锥连接的管颈组成。电子枪位于管颈内，用以产生和导向若干电子束通过例如荫罩或聚焦荫罩的色选择电极的小孔，荫罩位置靠近涂复在面屏内表面的荧光屏。色选择电极固定在框架上，框架受到弹簧的支持，弹簧扣合在从管子玻屏向内凸出的固定玻柱上。在荧光屏上再涂上一层薄导电膜，最好为铝膜，构成在屏上施加均匀电位的装置。由冷轧薄钢材制成的内磁屏蔽罩扣紧在焊有色选择电极的框架上。内磁屏蔽罩的主要目的是当管子荧光屏受到电子束扫描时，减小磁场对电子束轨迹的影响。具体地说，电子束在荫罩上每个点的入射角必须与设计值没有明显偏离。否则，电子束就会偏离在屏上预定的着屏位置。内磁屏蔽罩设计为与玻锥配合，并尽可能地贴近锥壁，但不接触在锥壁内表面上的导电膜。
CRT使用蒸散型吸气剂，以提供吸气材料的内涂层或膜，用于得到CRT足够的寿命。希望吸气剂膜不要沉积在色选择电极的内表面或荧光屏上。在色选择电极内表面上不希望有吸气剂膜是因为这膜可能复盖在其上所有的散热和/或X射线抑制涂层上，因而影响这些涂层的效用。此外，向色选择电极内表面蒸散的吸气剂膜的部份会通过其上的孔，沉积在涂复在荧光屏上的部分铝层上。在铝层上的吸气材料从射在铝层上的电子束吸收能量，引起在下面的屏区域上屏亮度的降低。这造成屏的不适当的不均匀的外观。为了防止蒸散的吸气材料沉积在色选择电极的内表面和屏上，已知将吸气剂放在靠近内磁屏蔽罩的外表面，从而限制蒸散的吸气剂材料只沉积在内磁屏蔽罩的外表面上。
内磁屏蔽罩可以有包括无水结构或有开口区域的结构的各种构造。不管构造如何，其主要目的是内磁屏蔽罩为通过其内的电子束提供磁屏蔽。在内磁屏蔽罩的外表面也用于支持蒸散的吸气材料涂层的场合，必须采取措施确保没有蒸散的吸光材料进入内磁屏蔽罩的内部，因为它可能直接蒸散在色选择电极的内表面上和屏上。
为了限制吸气剂只沉积在内磁屏蔽层的外表面上，似乎希望使用无孔的内磁屏蔽罩，但已测定为屏蔽罩是无孔时，沉积在外表面上的吸气剂膜不易为管子内部的气体分子所触及。因此，发生局部气体压强上升，由电子束和管内气体分子碰撞产生带正电的离子。带正电的离子受到朝向电子枪阴极的加速，从而轰去和耗尽阴极涂层，造成阴极发射的降低。这样，希望的内磁屏蔽结构能提供可以沉积蒸散吸气材料的外表面，但又不容许吸气材料进入屏蔽罩和沉积在色选择电极的内表面上和屏上。该内磁屏蔽罩也必须容许管内气体分子易于触及其外表面上的吸气剂层，因此对阴极涂层没有有害的影响。
依照本发明，内为真空的CRT玻壳包含在一端与面屏封接的玻锥。在面屏的内表面上涂有荧光屏。在玻壳内靠近屏处配置有固定在框架上的色选择电极。内磁屏蔽罩扣牢在色选择电极的框架上，与玻锥相隔开，并沿着至少一部分玻锥伸展。磁屏蔽罩有内和外表面以及若干穿孔。可蒸散吸气剂位于玻壳内邻近磁屏蔽罩外表面处。该磁屏蔽罩通过具有与穿孔有关系的装置而加以改进，用于限制吸气剂膜只沉积在屏蔽罩的外表面上。
附图中
图1是依照本发明制造的彩色CRT的平面图，部分为轴向剖面；图2是依照本发明制造的磁屏蔽罩的长侧面的示意图，表示长侧面上开口的一组可能位置；图3是图2的磁屏蔽罩的短侧面和转角的示意图，表示在短侧面和转角上开口的一组可能的位置；图4是依照本发明的另一选择方法制造的磁屏蔽罩的长侧面的一部分的示意图，从局部视图表示开口的位置和有关的隔叶；图5是罩在其上已加工好隔叶和开口以后，沿图4的线5-5所取的放大剖面图；图6是依照本发明的第二实施例的彩色CRT的平面图，部分为轴向剖面。
图1表示彩色CRT10，它包括通过玻膏13相密封的玻锥11和基本为矩形的玻璃面屏12。在玻锥11的内表面上涂有导电膜14。在面屏的内表面上涂有荧光屏15。荧光屏15由三基色荧光粉元构成，每一荧光粉元在受到三个电子束中之一撞击时，发射三基色(红，绿，蓝)中一种基色的光。最好，荧光屏是线状屏，荧光粉线基本沿垂直于CRT的高频扫描光栅线的方向伸展(垂直于图1的平面)。或者，荧光屏可以是点状屏。最好为铝层的薄导电层16复盖在屏15上和提供在其上施加均匀电位的装置。例如为聚焦荫罩或传统荫罩的色选择电极17固定在或某种方式扣牢在框架18的一面19上。色选择电极¨以传统方式扣住在面屏12内，贴近于屏15，用于导向三个电子束使之打在荧光粉元上，以发射相应的基色光。色选择电极17的孔口与荧光粉元的形状相一致。例如，假如屏为线状屏，色选择电极17是荫罩，那末荫罩中孔口是矩形缝，而假如屏是点状屏，荫罩开孔是圆形孔。电子枪20位于玻锥11的管颈21中，发射和导向三个电子束，打向屏15以扫描屏上荧光粉元。
电子束中电子是带电粒子。因此，电子束会因为地磁场的影响受到偏转。运用依附在框架19的另一面23上的内磁屏蔽罩(IMS)22，使地磁场的影响减至最小。屏蔽罩22有内表面24和外表面26，外表面26与锥11相隔开，并沿着其至少一部分伸展。色选择电极17，框架19和IMS22由例如冷轧AK钢，低碳钢或镍铁合金的铁磁材料组成，这些铁磁材料具有比其它指名的材料有更低的热膨胀系数。这些铁磁材料使电子束周围的地球磁场磁力线弯曲和变化方向，使当电子束在屏蔽罩22内经过并穿过电极17的孔时对电子束的影响减至最小。这是一个重要的特点，因为由于地球磁场的影响电子束的弯折可能引起特定的电子束打在错误的发光荧光粉元上，这样造成着屏不准，因而降低图象显示的质量。
至少一个，和最好为二个或以上的可蒸散的吸气剂装置28位于玻壳11内，邻近罩22的外表面26，以提供吸气材料的薄膜或沉积层30，其厚度在图1中是故意放大的。吸气剂膜30吸收管内剩余气体分子，有效地维持CRT10内的低气压。玻壳内这种低气压对于CRT10的充分的寿命是至关重要的。为了确保30能为CRT10内的剩余气体分子容易地触及，在屏22的外表面26和内表面24之间加工有若干开口32。通过在图2和3所示的若干位置切开罩22主体形成开口32，开口32具有“H形”缝34，将缝34的横向部的以上和以下的屏蔽罩材料弯曲在罩平面之外从而形成突舌36和38。如图1所示，突舌36和38挡住吸气剂28蒸散材料的路径，通过挡住吸气剂28和罩内部之间的视线路径，防止吸气剂膜30沉积在罩22内。这是通过将突舌36向外弯向吸气剂28和突舌38向内弯离吸气剂来实现的。这样吸气剂膜30被限制在罩22的外表面上，而开口32使管内气体分子易于触及吸气剂膜。
图2和3表示最佳实施例的缝的位置和尺寸。图2表示罩22的一个长侧面，图3表示罩的一个短侧面和相邻的转角。没有画出的罩的相对侧与图示的相同。图2也表示在罩22的长侧面上吸气剂28的突出处28′。图中所示的缝的侧面和位置仅为示范，为满足本罩结构的缝的任一数量，尺寸和/或位置的任何变化均在本发明的范围内。参阅图2，罩22的长侧面上缝的尺寸和位置列于表I中，表I中所有尺寸单位为毫米。
表I符号 尺寸a50b100c120d85e20f50g85h60i75j50k20l110m30n130参阅图3，罩22的短侧面和转角上的缝的尺寸和位置列于表II中。所有尺寸单位为毫米。
表II符号尺寸A 50B 90C 45D 15E 30F 20G 60H 100I 60J 30K 10L 40在图1的实施例中，开口32的总面积大约在罩22的总面积的5％至25％的范围。
图4和5表示图1开口32的另一可选择的制造方法。在图4中有穿过罩22的若干缝64。在缝64的上面和下面的虚线所框的区域中罩体被弯出罩平面之外，形成向外指向的隔叶66和向内指向的隔叶68，如图5所示。在图4中还示有吸气剂28的突出处28′，这在图5中以局部剖面表示。再参阅图5，隔叶66和隔叶68与突舌36和38不同之处在于隔叶在端部是渐缩的，并与罩22主体融和。
图6所示为本发明的第二实施例。第二实施例中与图1中对应元件相同的那些结构元件标以相同标号，并不再叙述。再参阅图6，用于限制吸气剂膜30使其不能沉积在或者色选择电极17或者屏15的内表面的装置包括第一磁屏蔽罩122和第二磁屏蔽罩222，第一磁屏蔽罩122固定在框架19的面23上，第二磁屏蔽罩222位于第一磁屏蔽罩122之内。第一屏蔽罩122上加工有若干开口132。虽然图示开口132为圆形孔，但任何形状均在本发明的范围内。所示的第二屏蔽罩固定在框架19的面23上，然而，第二屏蔽罩也可以固定在第一屏蔽罩122上。第二屏蔽罩222具有若干穿透的孔232。孔232的位置使得它们与第一屏蔽罩122上孔132相错开。孔132和232的错开确保吸气剂膜30分别限制在罩122和222的外表面126和226上，不能进入第二罩222的内部，被沉积在或是电极17内表面上或是屏15上。
在图6的实施例中，孔132和232中每孔的面积大约为1.25至4平方厘米，和孔的总面积大约在罩122和222的总面积的5％至25％范围。
权利要求
1.具有内为真空的玻壳的一种彩色阴极射线管(10)，包括玻锥(1)，在其一端与内表面涂有荧光屏(15)的面屏(12)相封接；色选择电极(17)，固定在框架(19)上，框架(19)位于所述玻壳内，色选择电极(17)贴近所述屏；磁屏蔽罩(22，122，222)，扣牢在所述色选择电极的所述框架上，所述磁屏蔽罩与所述玻锥相隔开，并沿着所述玻锥的至少一部分伸展，所述磁屏蔽罩有内表面(24)和外表面(26，126，226)，以及若干孔(32，132，232)；和位于所述玻壳内的可蒸散的吸气剂装置(28)，所述可蒸散吸气剂装置位于邻近所述磁屏蔽罩的所述外表面；其特征在于所述磁屏蔽罩(22，122，222)包括限制装置(36，38，66，68)，阻挡所述吸气剂装置的蒸散材料通过所述孔(32，132，232)，用于限制吸气剂材料膜(30)只沉积在所述罩的所述外表面(26，126，226)。
2.依照权利要求1所述的管子(10)，其特征在于限制装置包括若干伸展部分(36，38，66，68)，每个伸展部分从所述罩(22)加工形成，邻近于所述孔(32)之一，用于阻挡吸气材料，因而防止所述吸气材料通过所述孔。
3.依照权利要求2所述的管子(10)，其特征在于所述伸展部分包括突舌(36，38)。
4.依照权利要求2所述的管子(10)，其特征在于所述伸展部分包括隔叶(66，68)。
5.依照权利要求2所述的管子(10)，其特征在于所述孔(32)的总面积大约是所述罩(22)的总面积的5％至25％。
6.依照权利要求1所述的管子(10)，其特征在于所述限制装置包括位于第一磁屏蔽罩(122)之内的第二磁屏蔽罩(222)，每罩有若干孔(132，133)穿过，所述两罩上所述孔是互相错开的，因而限制所述吸气剂膜(30)只沉积在所述第一和所述第二磁屏蔽罩的所述外表面(126，226)上。
7.依照权利要求6所述的管子(10)，其特征在于所述孔(132，232)的总面积大约是所述第一和第二罩(122，222)的总面积的5％至25％。
全文摘要
CRT(10)具有内为真空的玻壳，玻壳包括在其一端与内表面涂有荧光屏(15)的面屏(12)相封接的玻锥(11)。固定在框架(19)上的色选择电极(16)位于玻壳内贴近屏处。内磁屏蔽罩(22)扣牢在色选择电极的框架上，与玻锥相分隔，沿着玻锥的至少一部分伸展。磁屏蔽罩有若干孔(32)穿过。可蒸散吸气剂(28)位于玻壳内邻近罩的外表面(26)。通过具有与孔(36，38)有关的突舌(36，38)，对磁屏蔽罩加以改进，用于限制吸气剂材料膜(30)只沉积在罩的外表面上。
文档编号H01J29/06GK1126881SQ9511968
公开日1996年7月17日 申请日期1995年11月15日 优先权日1994年11月16日
发明者S·T·奥普雷斯科, 小·R·拉帕罗塔, R·E·罗兰 申请人:汤姆森消费电子有限公司