光束整形和可调节光束能量密度的系统及激光热处理工艺的制作方法

文档序号:37151839发布日期:2024-02-26 17:07阅读:来源:国知局

技术特征:

1.光束整形和可调节光束能量密度的系统,包括激光源(1)、准直镜(2)、空间光调制器(3)、x向偏转反射镜(5)、聚焦组件(6)和y向偏转反射镜(10),其特征在于:所述空间光调制器(3)包括依次设置的二元光栅(31)和几何掩膜(4),所述激光源(1)发射出的激光束依次通过所述准直镜(2)、所述空间光调制器(3)、所述x向偏转反射镜(5)、所述聚焦组件(6)和所述y向偏转反射镜(10),通过改变所述二元光栅(31)的衍射周期对激光束进行整形,调节所述几何掩膜(4)的光栅密度来改变激光束的能量密度分布,所述x向偏转反射镜(5)和y向偏转反射镜(10)用于激光束的动态扫描移动。

2.根据权利要求1所述的光束整形和可调节光束能量密度的系统,其特征在于:

3.根据权利要求2所述的光束整形和可调节光束能量密度的系统,其特征在于:

4.根据权利要求2所述的光束整形和可调节光束能量密度的系统,其特征在于:

5.根据权利要求1所述的光束整形和可调节光束能量密度的系统,其特征在于:

6.一种激光热处理工艺,其特征在于,由权利要求1-5任一项所述光束整形和可调节光束能量密度的系统实现,包括以下步骤:

7.根据权利要求6所述的激光热处理工艺,其特征在于:

8.根据权利要求7所述的激光热处理工艺,其特征在于:

9.根据权利要求6所述的激光热处理工艺,其特征在于:

10.根据权利要求6-9任一项所述的激光热处理工艺,其特征在于:


技术总结
本发明公开了一种光束整形和可调节光束能量密度的系统及激光热处理工艺,属于材料的激光热处理技术领域,包括激光源、准直镜、空间光调制器、X向偏转反射镜、聚焦组件和Y向偏转反射镜,所述空间光调制器包括依次设置的二元光栅和几何掩膜,所述激光源发射出的激光束依次通过所述准直镜、所述空间光调制器、所述X向偏转反射镜、所述聚焦组件和所述Y向偏转反射镜,通过改变所述二元光栅的衍射周期对激光束进行整形,调节所述几何掩膜的光栅密度来改变激光束的能量密度分布,所述X向偏转反射镜和Y向偏转反射镜用于激光束的动态扫描移动,可以在工件表面一定深度进行均匀的加热,再由冷却得到结构一致的硬化层结构,热效率高且适合处理复杂曲面。

技术研发人员:杜斌,李若涛,常勇
受保护的技术使用者:广东宏石激光技术股份有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/2/25
当前第2页1 2 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1