专利名称：等离子体连续镀膜装备的防止气体堵塞装置的制作方法
技术领域：
本发明是关于利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装备的气体堵塞防止装置方面的发明，使气体喷射更加顺畅。
利用等离子体在金属材料表面上蒸镀高分子材料方法简单说明如下在工作间内部配置2个电极，使金属材料位于2个电极之间。将材料连结在电源供应装置上，利用真空泵将工作间内部维持真空状态的同时，利用电源供应装置对电极进行供电，通过放电产生等离子体。通过上述等离子体打开气体的分子键，在材料的表面上蒸镀高分子膜。
但是，等离子体蒸镀需要将一定大小的材料放入工作间内，才能够进行蒸镀，不能连续作业不适合连续生产。将薄板状金属材料缠绕在轮子上，通过开卷机将材料连续送入工作间，在工作间内进行蒸镀。然后，在工作间的另一端将蒸镀后的材料缠绕在卷绕机上，于是可以进行连续作业。
如
图1、2所示，工作间1的内部设置有上部电极2和下部电极3，上部电极2和下部电极3之间保持一定间距，工作间1的一侧设置有开卷机5，开卷机5将带状金属材料4连续供应给工作间1；工作间1的另一侧设置有卷绕机6，卷绕机6用于卷绕供应到工作间1内的上部电极2和下部电极3之间被蒸镀的带状金属材料4。
开卷机5设置在开卷间7内，卷绕机6设置在卷绕间8内，在开卷机5和卷绕机6上分别设置有引导带状材料4的引导轮9。
工作间1的一侧下部设置有进气体管10，另外一侧设置有排出管11。工作间1的内部入口侧设置有四角框形状的气体喷射管12，气体喷射管12的一侧面上形成有多个喷射孔12a，喷射孔12a用于喷射气体。
下面对上述结构利用等离子体的连续蒸镀装置的工作过程进行详细说明。首先接通电源，则上述开卷机5旋转，将带状材料4供应到工作间1的内部；供应到工作间1内部的带状材料4经过上部电极2和下部电极3之间之后被卷绕机6连续卷绕。工程气体通过进气管10供应到工作间1的内部，工程气体通过气体喷射管12被均匀地喷射到工作间1的内部；同时通过排出管11，利用泵(图纸中没有表示出)进行排出，使工作间1的内部维持一定压力的状态下，向上部电极2和下部电极3以及带状材料4接通直流电源，则上部电极2、下部电极3和带状材料4之间形成等离子体，在移动的带状材料4的表面蒸镀高分子聚合膜。
但是上述结构利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置经过长时间连续作业时，用于蒸镀在材料上的蒸镀物质附着在气体喷射管的喷射孔上，导致不能向工作间的内部进行均匀的气体喷射，最终导致不能完成均匀的蒸镀。
为了达到上述目的，本发明的技术解决方案是提供一种等离子体连续镀膜装备的防止气体堵塞装置，其主要结构包括有镀膜工作间、工作间的入口侧设置有四角框形状的气体喷射管，沿着带有喷射孔气体喷射管的一侧固定设置有保护盖；保护盖的端面呈半圆形。
本发明的效果是通过在四角框形状的气体喷射管一侧固定设置保护盖，在上部电极和下部电极之间产生等离子体的区域内，保护盖阻断了蒸镀物质向气体喷射管接近，防止了蒸镀物质蒸镀在气体喷射管上的喷射孔上，于是即使连续进行蒸镀作业，也能够从气体喷射管均匀喷射出气体，能够确保均匀的蒸镀。
图中1工作间2上部电极3下部电极 4材料5开卷机6卷绕机12气体喷射管 12a喷射孔122保护盖如图3、4、5所示，本发明的等离子体连续镀膜装备的防止气体堵塞装置，其主要结构包括有镀膜工作间、工程间的入口侧设置有四角框形状的气体喷射管，沿着带有喷射孔12a气体喷射管10的一侧固定设置有保护盖122；保护盖122的端面呈半圆形。
本发明的等离子体连续镀膜装备的防止气体堵塞装置是这样实现的如图3所示，在工作间的内部固定有上部电极和下部电极，工作间的一侧设置有向上部电极和下部电极之间供应带状材料的开卷机，工作间的另一侧设置有卷绕机，卷绕机将经过上部电极和下部电极之间被蒸镀的带状材料进行卷绕。工作间的入口侧设置有四角框形状的气体喷射管，为了能够使气体喷射管沿着材料移动方向喷射工作气体，在气体喷射管上保持一定间隔设置多个喷射孔。如图4所示，沿着带有喷射孔12a气体喷射管10的一侧固定设置有保护盖122；保护盖的端面如图5所示是包围气体喷射管的半圆形。
箱体式工作间1内部的上侧固定有上部电极2，上部电极2的下侧固定有下部电极3。在工作间101的前端设置有开卷间7，在开卷间7内设置有开卷机5，开卷机5向工作间1内部供应带状铝材4。在工作间1的后端设置有卷绕间8，在卷绕间108内设置有卷绕机6，卷绕机6卷绕从工作间1出来的材料4。开卷间7的出口部和卷绕间8的入口部设置有引导材料4移动的一对导向轮9。在工作间1的底部一边设置有进气管10，进气管10向工作间1内部注入工作气体。其另一边设置有排气管11，排气管11将反应后的气体排出，排气管11上设置有调节工作间1内部压力的泵112。在工作间101的内部入口侧设置有四角框形状的气体喷射管12，气体喷射管12上按照一定间隔形成有多个喷射孔12a，喷射孔12a用于将工作气体通过进气管10注入的工作气体喷射到工作间1的内部。为了防止在气体喷射管12一侧的喷射孔12a蒸镀有蒸镀物质，沿着气体喷射管12的长度方向设置半圆形的保护盖122。
为了向上部电极2、下部电极3提供直流电压，设置有直流电源供应机构(图中未示)；同时还设置使开卷机5和卷绕机6旋转的电机(图中未示)。
下面对等离子体蒸镀装置中进行等离子体蒸镀过程和气体堵塞防止装置的工作过程进行详细说明。
接通电源，通过电机的驱动，使开卷机5按照逆时针方向旋转，使卷绕机6按照顺时针方向旋转。缠绕在开卷机5上的带状材料4经过设置在工作间1内部的上部电极2和下部电极3之间，然后连续缠绕在卷绕机6上。通过进气管10注入工作气体，然后通过设置在工程间1内部的气体喷射管12的喷射孔12a沿着带状材料4的移动方向喷射工作气体，利用泵112进行循环，使得工作间1内部维持一定压力。直流电源供应机构向上部电极2、下部电极3和带状材料4通直流电源，则在上部电极2、下部电极3和带状材料4之间产生等离子体，工作气体被激发在带状材料4的表面蒸镀形成高分子膜。保护盖设置在向工作间1内部喷射工作气体的气体喷射管12上喷射孔12a的一侧，在上部电极2和下部电极3之间产生等离子体的区域内，保护盖122阻断了蒸镀物质向气体喷射管12接近。防止了蒸镀物质蒸镀在气体喷射管12上的喷射孔12a上，于是即使连续进行蒸镀作业，也能够从气体喷射管12均匀喷射出气体，能够确保均匀的蒸镀。
权利要求
1.一种等离子体连续镀膜装备的防止气体堵塞装置，其主要结构包括有镀膜工作间、工程间的入口侧设置有四角框形状的气体喷射管，其特征是沿着带有喷射孔(12a)气体喷射管(10)的一侧固定设置有保护盖(122)。
2.根据权利要求1所述的等离子体连续镀膜装备的防止气体堵塞装置，其特征是所述保护盖(122)的端面呈半圆形。
全文摘要
本发明是提供一种等离子体连续镀膜装备的防止气体堵塞装置，其主要结构包括有镀膜工作间、工作间的入口侧设置有四角框形状的气体喷射管，沿着带有喷射孔气体喷射管的一侧固定设置有保护盖；保护盖的端面呈半圆形。本发明的效果是通过在四角框形状的气体喷射管一侧固定设置保护盖，在上部电极和下部电极之间产生等离子体的区域内，保护盖阻断了蒸镀物质向气体喷射管接近，防止了蒸镀物质蒸镀在气体喷射管上的喷射孔上，于是即使连续进行蒸镀作业，也能够从气体喷射管均匀喷射出气体，能够确保均匀的蒸镀。
文档编号C23C16/50GK1473957SQ0212916
公开日2004年2月11日 申请日期2002年8月19日 优先权日2002年8月19日
发明者曺川寿, 尹东植, 李铉旭, 川寿 申请人:乐金电子(天津)电器有限公司