专利名称：利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法
技术领域：
本发明涉及一种利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法，特别是涉及一种不用拆卸工程间内部部件就可以对电极进行清洗，从而缩短停机时间的利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法。
图1为已有技术的等离子体连续蒸镀装置纵向剖视图。如图1所示，工程间1的内部设有上部电极2和下部电极3，上部电极2和下部电极3之间保持一定间距；工程间1的一侧设有开卷机5，开卷机5将带状材料4连续提供给工程间1；工程间1的另一侧设有卷绕机6，卷绕机6用于卷取提供给工程间1内上部电极2和下部电极3之间经过蒸镀的带状材料4。开卷机5设置在开卷间7内，而卷绕机6则设置在卷绕间8内，开卷机5和卷绕机6的附近设有可引导带状材料4的引导轮9。另外，工程间1的下部一侧设有进气管10，而另一侧设有排气管11。当施加电源时，开卷机5开始旋转，并将带状材料4提供给工程间1的内部；提供给工程间1内部的带状材料4经过上部电极2和下部电极3之间后由卷绕机6连续卷绕。在此状态下，将工作气体通过进气管10提供给工程间1的内部，而后利用图中未示出的泵通过排气管11进行排气而使工程间1的内部保持在一定压力下，在上部电极2和下部电极3以及带状材料4上施加直流电源以便在上部电极2、下部电极3和带状材料4之间形成等离子体，从而在移动的带状材料4表面蒸镀上高分子聚合膜。但是具有这种结构的利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置经过长时间连续作业后会在电极上附着上碳化物，因而必须定期对电极进行清洗。清洗时必须停止作业，将电极拆卸下来并利用刷洗或砂磨等物理手段进行清洗，然后重新将电极进行组装，这样无疑会导致停机时间过长。
为了达到上述目的，本发明提供的利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法包括向工程间内部注入发泡六甲基二硅氧烷的阶段；向设置在工程间内部的上部电极、下部电极以及材料上施加直流电源的阶段；和剥离附着在上部电极、下部电极表面上碳化物的阶段。
本发明的利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法是利用向工程间内部提供发泡六甲基二硅氧烷的方法来剥离附着在上部电极、下部电极表面上的碳化物而无需将电极进行拆卸，这样不仅可节省清洗时间，而且清洗过程比较简单，并且提高了生产效率。
图1为已有技术的等离子体连续蒸镀装置纵向剖视图。
图2为本发明利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置结构图。
气体载体一般采用氩气、氢气、氧气、氦气、氮气等非反应气体。气体载体输送到贮槽123后可使储藏在其内部的六甲基二硅氧烷122进行发泡，然后提供给工程间1。供气管125上设有流量调节器126和阀门127，流量调节器126可调节气体的流量，而阀门127则可控制供气管125的开闭。另外，为给上部电极2、下部电极3提供直流电压而设置了图中未示出的直流电源和可使开卷机105和卷绕机107旋转的电机。当接通电源时，通过图中未示出电机的驱动可使开卷机105和卷绕机107均按照逆时针方向旋转。缠绕在开卷机105上的带状材料4经过设置在工程间1内部的上部电极2和下部电极3之间，然后连续缠绕在卷绕机107上。在此状态下，通过进气管110注入工作气体，并利用泵112从排气管111向外排气，这样可使工程间1的内部保持在一定压力之下。将直流电源电压施加到上部电极2、下部电极3和带状材料4上，这时可在上部电极2、下部电极3和带状材料4之间产生等离子体，工作气体被激发并在带状材料4的表面蒸镀形成高分子膜。经过一段时间的使用，上部电极2和下部电极3的表面就会附着上碳化物，这时应停下开卷机105和卷绕机107，并切断进气管110以防止工作气体流入工程间1内部。然后打开供气管125上的阀门127以将储气罐124内的气体载体提供给贮槽123，这时储藏在贮槽123内的六甲基二硅氧烷122就会被发泡，并通过连接管121流入到工程间1的内部。同时，在上部电极2、下部电极3和带状材料4上施加直流电源，则在上部电极2、下部电极3和带状材料4之间产生等离子体，这时，附着在上部电极2和下部电极3表面的碳化物就会被剥离。在泵112的作用下，被剥离的碳化物通过排气管111向外部排出。经过一定时间的清洗作业之后，重新旋转开卷机105和卷绕机107，将带状材料4供应到工程间1的内部而继续对带状材料4进行等离子体蒸镀作业。
权利要求
1.一种利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法，其特征在于所述的利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法包括向工程间(1)内部注入发泡六甲基二硅氧烷(122)的阶段；向设置在工程间(1)内部的上部电极(2)、下部电极(3)以及材料(4)上施加直流电源的阶段；和剥离附着在上部电极(2)、下部电极(3)表面上碳化物的阶段。
2.根据权利要求1所述的利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法，其特征在于所述的六甲基二硅氧烷(122)是通过气体载体以发泡状态提供给工程间(1)。
3.根据权利要求2所述的利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法，其特征在于所述的气体载体是氩气、氢气、氧气、氦气和氮气等非反应气体中的一种。
全文摘要
本发明公开了一种利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法。其包括向工程间内部注入发泡六甲基二硅氧烷的阶段；向设置在工程间内部的上部电极、下部电极以及材料上施加直流电源的阶段；和剥离附着在上部电极、下部电极表面上碳化物的阶段。本发明的利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法是利用向工程间内部提供发泡六甲基二硅氧烷的方法来剥离附着在上部电极、下部电极表面上的碳化物而无需将电极进行拆卸，这样不仅可节省清洗时间，而且清洗过程比较简单，并且提高了生产效率。
文档编号C23C16/50GK1473954SQ0212915
公开日2004年2月11日 申请日期2002年8月19日 优先权日2002年8月19日
发明者吴定根, 曹川寿, 尹东植 申请人:乐金电子(天津)电器有限公司