专利名称：光学镀膜装置的制作方法
技术领域：
本实用新型是关于一种光学镀膜装置，特别是关于一种具折叠式挡流板的光学镀膜装置。
背景技术：
目前，光学薄膜广泛应用在光学仪器，如传感器、半导体雷射、干涉仪、眼镜及光纤通讯元件等很多领域。光学薄膜通常是利用干涉作用而达到其预期效果，是指在光学组件或独立基板上镀上一层或多层介电质膜或金属膜来改变光波传送特性。
目前，光学薄膜制作通常以物理蒸镀法为主(Physics VaporDeposition，简称PVD)，该方法为将薄膜材料由固态转化为气态或离子态，气态或离子态的材料，由蒸发源穿越空间，抵达基板表面，材料抵达基板表面后，将沉积而逐渐形成薄膜。通常，为了制作高纯度的薄膜，镀膜制程须在高真空环境下完成。由此延伸出真空镀膜，一般做法为将基片以超声波洗净机洗净，洗净后排上夹具，送入镀膜机，进行加热和抽真空。达到高真空后，开始镀膜。镀膜时，以电子枪或电阻式加热，将薄膜材料变成离子态，镀膜时间则视层数及程序不同而有长短。镀膜完毕后，待温度冷却后取出。
但是现有的光学镀膜设备中，为控制镀膜的厚度分布，通常利用特殊几何形状的挡流板隔离离子流以适当调整空间离子流的分布，使镀膜厚度得到控制。如公开于2003年12月3日的中国发明专利第1459517号，其揭示一镀膜装置及镀膜方法，请参阅图4，该镀膜装置包括一转盘11、一遮板12及一镀材源13。其中，转盘11能规律旋转；遮板12依照镀膜层3的特定厚度而设置，设置在靠近基板2的位置；镀材源13与转盘11相对而设，而使该遮板12设置在两者之间。遮板12的形状是依照镀膜层3的特定厚度而设计，具体而言，遮板12的形状是由多个同心圆弧所构成。但是上述方案中遮板12固定不动，因此对不同要求的待镀基片，需要更换不同几何形状的挡流板，且遮板12形状也比较复杂，需经反复修正方可达到要求，因此该方案的镀膜成本较高。
针对上述问题，有必要提供一种降低镀膜成本、容易实现镀膜均匀性的光学镀膜装置。
实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种降低镀膜成本、容易实现镀膜均匀性的光学镀膜装置。
为了实现上述目的，该光学镀膜装置包括一镀膜室、一承载架、一挡流板及一蒸镀源，该挡流板位于该承载架与该蒸镀源之间，该挡流板可折叠。
本实用新型光学镀膜装置系利用折叠式挡流机制，且挡流板可折叠成不同几何形状，因此，可以通过变化挡流板的折叠状态，来改变其挡流效果。相较现有技术，本实用新型光学镀膜装置由于对于不同的镀膜工作，不需要更换不同的挡流板，而仅需要改变挡流板的折叠状态，因此降低镀膜成本、镀膜程序简单、容易实现镀膜均匀性。
图1是本实用新型第一实施例的光学镀膜装置剖视图；图2是本实用新型光学镀膜装置的挡流板；图3是适用在本实用新型光学镀膜装置的另一形状挡流板；图4是现有镀膜装置结构示意图。
具体实施方式请参阅图1，本实用新型光学镀膜装置10包括一镀膜室20、一承载架30、一挡流板40及一蒸镀源50。
该光学镀膜装置10还包括一旋转马达301及连接轴302，该连接轴302的一端与旋转马达301连接，其另一端与承载架30相连。本实施例中，该承载架30为圆盘形，其上可固定多个待镀基片(图未示)。
该光学镀膜装置10还包括一支撑柱41，该支撑柱41上连接有挡流板40。
一并参阅图2，该挡流板40为折扇形，挡流板40包括扇区401、定扇杆402A及动扇杆402B，该定扇杆402A及动扇杆402B的一端设置有通孔405。上述挡流板40通过该通孔405与支撑柱41连接。
蒸镀源50位于承载架30下适当距离处，且正对该承载架30的几何中心，其加热方式可为电阻式蒸镀法或电子束蒸镀法。
装配时，光学镀膜装置10的顶部附近配置旋转马达301，承载架30通过连接轴302与旋转马达301相连，并悬挂在镀膜室20的顶棚正中央。蒸镀源50设置在镀膜室20的底板正中央。支撑柱41固设在镀膜室20内的适当位置，并在该支撑柱41上连接挡流板40，该挡流板40位于承载架30与蒸镀源50之间，并且可挡住蒸镀源50的蒸气而展开成一定角度。
镀膜时，首先按不同的镀膜要求设置好挡流板40的展开角度。通过连接轴302与旋转马达301相连的承载架30按一定转速旋转，同时，在蒸镀源50上施加电流，使其散发蒸气。在此，用户按不同的需求，可以轻易改变挡流板40的展开角度，使其等效几何形状改变，进而适当调整空间离子流的分布，以满足具有不同需求的待镀基板的镀膜要求。
请参阅图3，本实用新型的光学镀膜装置也可使用如图所示的圆盘形挡流板。该挡流板包括扇区403、定扇杆404A及动扇杆404B。该挡流板的扇区403为圆盘形，其可展开成360℃。该挡流板的定扇杆402A的一端设置有通孔406，挡流板通过该通孔406与支撑柱41连接。动扇杆404B与定扇杆404A系摩擦配合，因此，当动扇杆404B相对定扇杆404A按一定角度展开时，可停留在任意位置。
如上所述，本实用新型的实施例中，连接上述挡流板的支撑柱固设在镀膜室的底板上，可是本实用新型中主要使挡流板位在承载架与蒸镀源之间、并通过改变其展开角度而改变其等效几何形状即可，因此其支撑柱可固设在镀膜室的顶棚上，或者不需要支撑柱而在镀膜室的侧壁的适当位置上设置有固定突起，并将上述挡流板与该固定突起相连也可以。
可以理解，本实用新型光学镀膜装置10的镀膜室20的形状也可为其它形状如长方体、正方体、球体或圆柱体。另，该承载架30也可为其它具支撑作用的框架或组件，如其可为一半球状或为一延伸四连杆的承载架或二于其中间交错连接的二承载杆。
权利要求1.一种光学镀膜装置，其包括镀膜室、承载架、挡流板及蒸镀源，其特征在于，该承载架、挡流板及蒸镀源皆设在镀膜室内，其中，该挡流板位于承载架与蒸镀源之间，其可根据要求按任一角度展开。
2.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于，该镀膜室是一种真空镀膜室。
3.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于，该装置还包括一连接轴，该承载架通过连轴器与旋转马达连接。
4.如权利要求3所述的光学镀膜装置，其特征在于，该承载架上设置有多个夹板装置。
5.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于，该挡流板为扇形，其包括扇区、定扇杆及动扇杆，其中，该定扇杆及动扇杆的一端设置有通孔，并且该动扇杆相对该定扇杆展开成一定角度。
6.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于，该挡流板为扇形，其包括扇区、定扇杆及动扇杆，其中，该定扇杆的一端设置有通孔，该动扇杆与该定扇杆摩擦配合，该动扇杆相对该定扇杆展开成一定角度并保持停留。
7.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于，该支撑柱固设在镀膜室的底面或顶棚上，上述挡流板与该支撑柱相连。
8.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于，该镀膜室的侧壁上设置有固定突起，上述挡流板与该固定突起相连。
9.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于，其中该镀膜室的形状可为长方体、正方体、球体或圆柱体。
10.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于，该蒸镀源利用电阻加热或电子束加热。
专利摘要一种光学镀膜装置，其包括一镀膜室、一承载架、一挡流板及一蒸镀源，该挡流板位于该承载架与该蒸镀源之间，该挡流板可伸展，且该挡流板的展开角度可调节。本实用新型的光学镀膜装置由于不需要直接修正挡流板的几何形状，因此降低镀膜成本、镀膜程序简单、容易实现镀膜均匀性。
文档编号C23C14/00GK2750327SQ200420095699
公开日2006年1月4日 申请日期2004年11月20日 优先权日2004年11月20日
发明者林志泉 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司