专利名称：非常规特殊球面光学透镜磨砂保护结构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种光学透镜的磨砂保护结构。
技术背景
光学球面透镜的制造过程是均匀磨削过程，整个球面加工过程都是 利用标准模具添加磨料对被加工光学镜片表面进行均匀磨削，最终成为 表面光滑透明、达到规定面形精度和表面光洁度要求的光学零件。但要 在一个规则的球面表面、在整体曲率半径和面形精度不变得情况下，要 求抛光面和磨砂面同存的光学透镜的制造，而且必须保证抛光面和砂面 界限分明、保证抛光面达到光洁度要求及砂面粒度分布均匀，采用常规 的装置是无法达到的。 '
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种结构合理，工作效果好的非常规特 殊球面光学透镜磨砂保护结构。
本实用新型的技术解决方案是
一种非常规特殊球面光学透镜磨砂保护结构，其特征是包括整体 抛光处理后的光学透镜，在光学透镜的需磨砂部位以外的部位，设置有 保护胶层。
本实用新型结构合理，形成的抛光面和砂面界限分明、抛光面达到 光洁度要求，砂面粒度分布均匀。
以下结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。 图1是本实用新型一个实施例的结构示图。
具体实施方式
一种非常规特殊球面光学透镜磨砂保护结构，包括整体抛光处理后 的光学透镜l，在光学透镜的需磨砂部位以外的部位，设置有保护胶层
权利要求1、一种非常规特殊球面光学透镜磨砂保护结构，其特征是包括整体抛光处理后的光学透镜，在光学透镜的需磨砂部位以外的部位，设置有保护胶层。
专利摘要本实用新型公开了一种非常规特殊球面光学透镜磨砂保护结构，包括整体抛光处理后的光学透镜，在光学透镜的需磨砂部位以外的部位，设置有保护胶层。本实用新型结构合理，形成的抛光面和砂面界限分明、抛光面达到光洁度要求，砂面粒度分布均匀。
文档编号B24B13/01GK201419348SQ20092004652
公开日2010年3月10日 申请日期2009年6月11日 优先权日2009年6月11日
发明者康贻兵, 王小群, 芳 金, 钱亚琴 申请人:江苏宇迪光学股份有限公司