专利名称：抗污薄膜的常压蒸镀方法、常压蒸镀装置与制作设备的制作方法
技术领域：
本发明是有关于一种薄膜的制造方法，且特别是有关于一种抗污薄膜(Anti-smudge Film)的常压蒸镀(Atmospheric Evaporation)方法、常压蒸镀装置与制作设备。
背景技术：
随着可携式电子装置的普及，为了维持其外观，对于这类可携式电子装置的外层表面的保护需求也日益提高。目前，为了保护这些电子装置的外层表面，最常见的作法是在电子装置的外层表面上涂布抗污薄膜，例如抗指纹薄膜。举例而言，现在相当流行的触控式电子装置的触控屏幕表面通常披覆有一层抗指纹膜，以使屏幕表面在历经使用者的多次碰 触摩擦后，仍保有良好的显示质量与操作敏感度。一般而言，抗污薄膜的表面大都具有良好的抗污性、可防止指纹沾黏、触感平滑、可防水排油与透明等特性。此外，抗污薄膜对其所覆盖的装置的外层表面需具有高附着力，以延长抗污薄膜的使用寿命。目前，涂布抗污薄膜的方式主要有四种。第一种方式是真空蒸镀方式，其是在真空腔室内，于基材的下方加热装载有抗污涂料溶液的容器，使其内的抗污涂料气化而上升附着在基材的下表面上，进而在基材的下表面上形成一层抗污薄膜。然而，此种涂布方式需对蒸镀反应室抽真空，因此不仅设备造价昂贵、制程时间长，而导致产能不佳，且此种方式也不适宜在连续性的待蒸镀基材表面上进行。第二种方式是浸润涂布(dipping coating)方式，其是将待处理基材浸入抗污涂料溶液中，再将待处理基材自抗污涂料溶液中取出，借此使抗污涂料涂覆在待处理基材的表面上。然而，针对连续性待处理基材的涂布，此种方式所需的设备体积相当庞大，因此也不适宜应用在连续性待处理基材上。第三种方式为喷雾式涂布(spray coating)方式，其是以喷雾装置直接朝待处理基材的表面喷射抗污涂料，借以在待处理基材的表面上形成抗污薄膜。然而，喷雾装置所喷出的涂料大都在尚未气化前便已接触到待处理基材的表面，因而喷雾装置所喷出的雾滴会滴在基材的待涂布的表面上，故所形成的抗污薄膜的均匀性不佳。第四种方式为刷涂(brush coating)法，其是以刷子直接将抗污涂料涂设在待处理基材的表面上。然而，这样的涂布方式常会在相邻的二涂刷区域的相邻处上产生重复涂布的现象，因此所形成的抗污薄膜的均匀性差。故，目前亟需一种制作抗污薄膜的方法与设备，可大量快速且均匀地将抗污涂料涂布到待处理基材的表面上。
发明内容
因此，本发明的一方面就是在提供一种抗污薄膜的常压蒸镀方法，其采用常压蒸镀方式来进行抗污薄膜的涂布，因此可大幅增加抗污薄膜的产能。
本发明的另一方面是在提供一种抗污薄膜的常压蒸镀方法，其可有效率地进行连续性待处理基材的抗污薄膜的涂布。本发明的又一方面是在提供一种抗污薄膜的常压蒸镀方法，其可大量快速并有效地将抗污涂料均匀地涂布在待处理基材的表面上。本发明的再一方面就是在提供一种抗污薄膜的常压蒸镀装置与制作设备，其可在常压环境下进行抗污薄膜的涂布，故可快速地进行待处理基材的抗污薄膜的涂布。本发明的再一方面是在提供一种抗污薄膜的常压蒸镀装置与制作设备，其可同时进行大量基材的抗污薄膜的涂布，因此可大幅提高抗污薄膜的产 量。本发明的再一方面是在提供一种抗污薄膜的常压蒸镀装置与制作设备，其可有效率地且均匀地进行连续性基材的抗污薄膜的涂布。根据本发明的上述目的，提出一种抗污薄膜的常压蒸镀方法，其包含下列步骤。提供一基材。对一抗污涂料溶液进行一气化步骤，以形成多个抗污蒸气分子。沉积这些抗污蒸气分子于前述基材的一表面上，以形成抗污薄膜。依据本发明的一实施例，上述的抗污涂料溶液包含一抗污涂料与一溶剂，且此溶剂包含一高挥发性液体及/或水。依据本发明的另一实施例，上述的抗污涂料的材料包含氟碳硅烃类化合物、全氟碳硅烃类化合物、氟碳硅烷烃类化合物、全氟硅烷烃类化合物、或全氟硅烷烃醚类化合物。依据本发明的又一实施例，上述的高挥发性液体在常温下的蒸气压比水的蒸气压大,且此高挥发性液体是选自于由醇类、醚类、烷类、酮类、苯类、含氟基醇类、含氟基醚类、含氟基烷类、含氟基酮类、含氟基苯类所组成的一族群。依据本发明的再一实施例，上述气化步骤包含利用一雾化组件。依据本发明的再一实施例，上述抗污薄膜的常压蒸镀方法于气化步骤前，还包含利用一等离子在上述基材的表面进行清洁及处理，借以在基材的表面上形成多个官能基，这些官能基可包含多个氢氧官能基、多个氮氢官能基、及/或多个空悬键。依据本发明的再一实施例，上述抗污薄膜的常压蒸镀方法于气化步骤前，还包含利用一保护罩罩覆住基材，且气化步骤是在此保护罩中进行。依据本发明的再一实施例，上述抗污薄膜的常压蒸镀方法于沉积抗污蒸气分子的步骤前，还包含使这些抗污蒸气分子在保护罩内对流。根据本发明的上述目的，另提出一种抗污薄膜的常压蒸镀装置。此抗污薄膜的常压蒸镀装置包含一传输装置与雾化装置。雾化装置包含至少一涂料承接装置、以及至少一雾化组件。传输装置适用以传送至少一基材。前述的至少一涂料承接装置用以装载一抗污涂料溶液。前述的至少一雾化组件设于前述至少一涂料承接装置上，用以使抗污涂料溶液气化成多个抗污涂料蒸气分子而沉积在前述至少一基材的一表面上。依据本发明的一实施例，上述的至少一雾化组件包含一超音波雾化震片、一加热蒸镀雾化组件、一高压气体喷射组件、或一喷嘴雾化组件。依据本发明的另一实施例，上述的至少一雾化组件设于上述至少一涂料承接装置的上部上，且雾化装置还包含至少一涂料传导构件，适用以将抗污涂料溶液传送至前述的至少一雾化组件。依据本发明的又一实施例，上述的抗污薄膜的蒸镀装置还包含一保护罩，适用以罩覆住上述的至少一基材、至少一涂料承接装置、与至少一雾化组件。依据本发明的再一实施例，上述的至少一涂料承接装置包含多个涂料承接装置，且至少一雾化组件包含单一雾化组件设置在这些涂料承接装置上。依据本发明的再一实施例，上述的至少一涂料承接装置包含单一涂料承接装置，且上述的至少一雾化组件包含多个雾化组件设置在此一涂料承接装置上。根据本发明的上述目的，还提出一种抗污薄膜的制作设备。此抗污薄膜的制作设备包含一传输装置、一等离子装置以及一常压蒸镀装置。此传输装置适用以传送至少一基材。等离子装置设于传输装置上方，且适用以对前述至少一基材的一表面进行一表面活化处理。常压蒸镀装置则邻设于等离子装置旁。常压蒸镀装置包含一雾化装置，且此雾化装置包含至少一涂料承接装置以及至少一雾化组件。此至少一涂料承接装置用以装载一抗污涂料溶液。前述的至少一雾化组件设于至少一涂料承接装置上，用以使抗污涂料溶液气化成多个抗污涂料蒸气分子，而使这些抗污涂料蒸气分子沉积在前述经表面活化处理后的至 少一基材的表面上，借以形成一抗污薄膜。依据本发明的一实施例，上述的等离子装置是一大气等离子装置、一低压等离子装置或电磁耦合式等离子装置。依据本发明的另一实施例，上述的常压蒸镀装置还包含一涂料容量传感器，适用以感测上述至少一涂料承接装置内所装载的抗污涂料溶液的量。由上述本发明的实施方式可知，本发明的一优点为本发明是采用常压蒸镀方式来进行抗污薄膜的涂布，因此省略降压抽真空的程序，进而可大幅降低设备成本及增加产能。由上述本发明的实施方式可知，本发明的另一优点就是因为本发明是采用常压蒸镀方式来涂布抗污薄膜，因此可极有效率地进行连续性待处理基材的抗污薄膜的涂布。由上述本发明的实施方式可知，本发明的又一优点就是因为本发明是在大气环境下，进行抗污涂料溶液的雾化、气化，因此可大量快速并有效地将抗污涂料均匀地涂布在待处理基材的单一或多个表面上。由上述本发明的实施方式可知，本发明的再一优点就是因为本发明的抗污薄膜的常压蒸镀装置与制作设备可在常压环境下进行抗污薄膜的涂布，因此可快速地进行待处理基材的抗污薄膜的涂布。由上述本发明的实施方式可知，本发明的再一优点就是因为本发明的抗污薄膜的常压蒸镀装置与制作设备可同时进行大量基材的抗污薄膜的涂布，因此可大幅提高抗污薄
膜的产量。由上述本发明的实施方式可知，本发明的再一优点为本发明的抗污薄膜的常压蒸镀装置与制作设备可有效率地且均匀地进行连续性基材的抗污薄膜的涂布。
为让本发明的上述和其它目的、特征、优点与实施例能更明显易懂，所附附图的说明如下图I是绘示依照本发明一实施方式的一种抗污薄膜的常压蒸镀装置的雾化装置的不意图；图2是绘示图I的抗污薄膜的常压蒸镀装置的装设示意图3是绘示依照本发明的一实施方式的一种抗污薄膜的制作设备的示意图；图4是绘示依照本发明一实施方式的一种抗污薄膜的常压蒸镀方法的流程图；图5是绘示依照本发明一实施方式的一种抗污薄膜常压蒸镀于基材上的示意图。主要组件符号说明100 :常压蒸镀装置102 :传输装置102a :传输装置104 :承载构件104a :承载构件106 :涂料承接装置108 :雾化组件110:涂料传导构件 112:抗污涂料溶液114:涂料供应槽116:传送管118:保护罩120 :基材122 :滚轮124 :雾化装置126 :涂料容量传感器128 :对流装置130 :加热器132 :反应腔室134 :开孔136 :等离子装置138 :制作设备140 :抗污涂料雾气142 :抗污涂料蒸气分子144 :等离子146 :表面148 :支撑装置150 :抗污薄膜152 :侧面154 :表面200 :方法202 :步骤204:步骤206 :步骤208 :步骤
具体实施例方式请参照图I与图2，其中图I是绘示依照本发明的一实施方式的一种抗污薄膜的常压蒸镀装置的雾化装置的示意图，图2是绘示图I的抗污薄膜的常压蒸镀装置的装设示意图。在本实施方式中，如图2所示，抗污薄膜的常压蒸镀装置100主要包含传输装置102与雾化装置124。在一实施例中，如图I所示，雾化装置124包含一或多个涂料承接装置106、以及一或多个雾化组件108。传输装置102是用以传送一或多个待处理的基材120，如图2所示。在图2所示的实施例中，传输装置102可包含承载构件104，而待处理的基材120可放置在承载构件104上，并藉由传输装置102来传送。其中，基材120可例如为保护玻璃、塑料基材、强化玻璃或金属基材。在另一实施例中，如图3所示，传输装置102a包含承载构件104a与数个滚轮122，其中这些滚轮122设置在承载构件104a下，并可带动承载构件104a。在又一些实施例中，基材可为连续性基材，且传输装置可为带动此连续性基材的传送装置，例如在雾化装置124前后二侧支撑且带动连续性基材前进的二滚轮，此时基材无需透过输送带来承载。请再次参照图1，每个涂料承接装置106可装载抗污涂料溶液112。而且，如图2所示，涂料承接装置106设置于基材120的上方。抗污涂料溶液112可包含抗污涂料与溶齐IJ。在一实施例中，抗污涂料的材料可包含氟碳硅烃类化合物、全氟碳硅烃类化合物、氟碳硅烷烃类化合物、全氟硅烷烃类化合物、或全氟硅烷烃醚类化合物。此外，抗污涂料溶液112的溶剂可例如包含高挥发性液体、水、或高挥发性液体与水所混合而成的液体。高挥发性溶剂的性质为常温下液体状态、具有稳定的化学结构、具有高挥发性、低沸点、透明无色、以及对生物无明显伤害性的液体。在一较佳实施例中，高挥发性液体在常温下的蒸气压比水的蒸气压大，且此高挥发性液体可选自于由醇类、醚类、烷类、酮类、苯类、含氟基醇类、含氟基醚类、含氟基烷类、含氟基酮类与含氟基苯类所组成的一族群。雾化组件108设置在涂料承接装置106的一侧的上部上，以利在基材120上方雾化抗污涂料溶液112。经雾化组件108的处理后，抗污涂料溶液112可被雾化成抗污涂料雾气，随后因雾化溶液中的溶剂快速挥发而气化成抗污涂料蒸气分子。雾化组件108可例如为超音波雾化震片、加热蒸镀雾化组件、高压气体喷射组件、或喷嘴雾化组件。在本实施方式中，如图I与图2所示，雾化组件108为超音波雾化震片。
在图I与图2所示的实施例中，雾化装置124还包含至少一涂料传导构件110。此涂料传导构件110连接在涂料承接装置106中的抗污涂料溶液112与雾化组件108之间，而可将抗污涂料溶液112从涂料承接装置106内传送至雾化组件108。涂料传导构件110可例如为棉条或传导管。在另一实施例中，雾化组件108可直接放在抗污涂料溶液112的液面上，此时雾化装置122可无需包含涂料传导构件110。在图I与图2的实施例中，雾化装置124包含多个涂料承接装置106、多个雾化组件108与多个涂料传导构件110。在雾化装置124中，每个涂料承接装置106对应配置有一个雾化组件108与一个涂料传导构件110。然而，在另一实施例中，雾化装置可包含多个涂料承接装置与单一个雾化组件，此雾化组件设置在这些涂料承接装置上。这些涂料承接装置所装载的抗污涂料溶液可分别通过涂料传导构件，而传送至此雾化组件。此时，透过此一雾化组件，即可对所有涂料承接装置所装载的抗污涂料溶液进行雾化处理。在又一实施例中，雾化装置可包含单一个涂料承接装置与多个雾化组件，其中这些雾化组件设置在此一涂料承接装置上。此涂料承接装置所装载的抗污涂料溶液可通过一或多个涂料传导构件，而分别传送至所有的雾化组件。此时，透过这些雾化组件，即可对此一涂料承接装置所装载的抗污涂料溶液进行雾化处理。请再次参照图1，雾化装置124还可根据运作需求而包含涂料供应槽114，以透过连通所有涂料承接装置106的传送管116，来供应抗污涂料溶液112给所有的涂料承接装置106。此外，在雾化装置124中，由于连通管原理，因此所有的涂料承接装置106内的抗污涂料溶液112的液面高度大致上相等。故，在另一实施例中，常压蒸镀装置100还可根据实际需求，而在其中一涂料承接装置106中设置涂料容量传感器126，以感测涂料承接装置106内所装载的抗污涂料溶液122的量，如图I所示。涂料容量传感器126所监测到的抗污涂料溶液122数量的信息，可直接显示于常压蒸镀装置100的一外表面的显示组件上，或者可利用传输线路将而传送到涂布的监控系统中，以供在线工作人员监控涂料承接装置106内的抗污涂料溶液122的量。在本实施方式中，可利用由多个雾化装置124，来同时对传输装置102上的多个基材120，例如排列成行、成列或成阵列式的多个基材，进行抗污薄膜的蒸镀。此外，由于本发明是在常压下进行抗污薄膜的涂布，因此可大量快速且有效地将抗污涂料均匀地涂布在基材120表面上。请再次参照图2，在此实施例中，常压蒸镀装置100还可包含保护罩118。保护罩118罩覆住部分的传输装置102，且可与传输装置102的承载构件104定义出反应腔室132。此外，保护罩118罩覆住此部分的传输装置102上的基材120，以及雾化装置124的涂料承接装置106、雾化组件108、与涂料传导构件110。值得注意的是，当基材为连续性基材时，保护罩可直接与其所罩覆的基材定义出反应腔室。如图2所示，保护罩118的一侧壁可具有一开孔134。保护罩118的开孔134的面积可约略大于涂料承接装置106的侧面的面积，如此雾化装置124可从保护罩118的开孔134而进入保护罩118内部的反应腔室132中。如图3所示，尚可在反应腔室132内设置支撑装置148，借以承托雾化装置124。 在一实施例中，雾化装置124还可包含加热器130。加热器130较佳是设置在反应腔室132中，例如反应腔室132内部的保护罩118上或传输装置102上。加热器130可加热雾化组件108所产生的抗污涂料雾气，借此将抗污涂料雾气加速转化成抗污涂料蒸气分子。举例而言，当抗污涂料溶液112的溶剂为水等非高挥发性液体时，即可利用加热器130来帮助抗污涂料雾气，使其顺利转化成抗污涂料蒸气分子。在又一实施例中，根据制程需求，雾化装置124可进一步包含对流装置128。其中，对流装置128同样可设置在反应腔室132中，例如反应腔室132内部的保护罩118上或传输装置102上。对流装置128可在抗污涂料蒸气分子沉积在基材120上之前，先使分布在反应腔室132内的抗污涂料蒸气分子更均匀地散布于反应腔室132中。藉由对流装置128的设置，不仅可使所形成的抗污薄膜更为均匀，亦使得常压蒸镀装置100可顺利进行立体结构的各表面的抗污薄膜涂布。本实施方式的常压蒸镀装置可搭配等离子装置来进行抗污薄膜的涂布。请参照图3，其是绘示依照本发明的一实施方式的一种抗污薄膜的制作设备的示意图。抗污薄膜的制作设备138除了包含常压蒸镀装置100外，还包含等离子装置136。在一较佳实施例中，常压蒸镀装置100与等离子装置136可共享传输装置102a。然而，在另一实施例中，常压蒸镀装置100与等离子装置136亦可利用不同传输装置来传送待处理的基材。其中，常压蒸镀装置100与等离子装置136均设置在传输装置102a上方。常压蒸镀装置100较佳是邻设于等离子装置136，以在基材120经等离子装置136处理后，随即进行抗污薄膜的常压蒸镀。等离子装置136是用以产生等离子144，并利用等离子144来对基材120表面进行清洁与表面改质处理，借以活化基材120的表面。在一实施例中，基材120表面经等离子144活化后，可在基材120表面上形成数个官能基。在一例子中，等离子装置136可利用氮气、氩气、氧气或空气等工作气体，来产生等离子144。经等离子144表面处理后，基材120表面上所广生的官能基可例如包含氧氧官能基及/或氣氧官能基。在一实施例中，基材120的表面146上所产生的官能基还包含空悬键，其中这些空悬键可以与抗污蒸气分子142形成键结。在一实施例中，等离子装置136可例如为大气等离子装置、低压等离子装置或电磁耦合式等离子装置等，以产生大气等离子或低压等离子，来对基材120表面进行清洁与改质处理。其中，大气等离子可例如为常压喷射等离子(plasma jet或plasma torch)或宽巾畐常压等离子(dielectric barrier discharge ;DBD 或 atmospheric glow discharge)等，而低压等离子则可例如为真空等离子。然，值得注意的一点是，配合后续的常压蒸镀的作业一贯性，本实施方式较佳是采用大气等离子来进行基材120表面的清洁与活化处理，以缩短制程时间。请参照图4，是绘示依照本发明一实施方式的一种抗污薄膜的常压蒸镀方法的流程图。在本实施方式中，常压蒸镀抗污薄膜时可在上述图3所示的实施方式的制作设备138中进行。如图4所示，在本实施方式中，抗污薄膜的常压蒸镀方法200，可先如步骤202所述，提供基材120。在一实施例中，进行步骤202以提供基材120时，可将一或多个基材120设置在传输装置102a。在图3所示的实施例中，基材120是排列在传输装置102a的承载构件104a上。在另一些实施例中，当基材为连续性基材时，基材可由带动此连续性基材的传送装置(例如滚轮)来运送，此时无需透过承载构件104a来承载。
在本实施方式中，进行抗污薄膜150(请先参照图5)的涂布时，可根据制程需求，而如图4的步骤204所述，先选择性地利用等离子装置136来产生等离子144，并利用等离子144对基材120的表面146进行清洁与表面改质处理，借以活化基材120的表面146。在一实施例中，基材120的表面146经等离子144活化后，可在基材120的表面146上形成数
个官能基。完成基材120的表面处理步骤204后，随即进行步骤206。在一实施例中，进行步骤206时，可先将雾化装置124设置在基材120的表面146上方，并利用保护罩118罩覆住基材120，借以使保护罩118与传输装置102a的承载构件定义出反应腔室132。接着，如图3所示，在大气环境下，利用雾化装置124于反应腔室132内部的基材120的表面146上方雾化抗污涂料溶液112，以在基材120的表面146上方形成抗污涂料雾气140。利用雾化装置124的雾化组件108进行雾化时，通过高挥化性溶剂可带动分子较大的抗污涂料，如此一来有利于将抗污涂料溶液112雾化转化成抗污涂料雾气140。随后，因抗污涂料雾气140成分中的溶剂快速挥发而气化成抗污涂料蒸气分子142。在另一些实施例中，还可利用如图2所示的加热器130，来加热雾化装置124所形成的抗污涂料雾气140，以加速抗污涂料雾气140转化成抗污涂料蒸气分子142。举例而言，当抗污涂料溶液112的溶剂为水等非高挥发性液体时，即可利用加热器130来帮助抗污涂料雾气140转化成抗污涂料蒸气分子142。抗污涂料溶液112在反应腔室132经雾化或气化后，所形成的抗污涂料雾气140散布在反应腔室132中。如图4的步骤208所述，由于抗污涂料雾气140中的溶剂易挥发，而抗污涂料的分子较重，因此散布在反应腔室132内的抗污涂料雾气140在溶剂挥发后便会气化成抗污涂料蒸气分子142，且向下降落而沉积在基材120的表面146上，进而在基材120的表面146上形成抗污薄膜150,如图5所示。在本发明的较佳实施例中，由于基材120的表面146经活化后产生有官能基，因此抗污涂料雾气140中的抗污涂料分子会以非等向性的方式附着于基材120的表面146，并与基材120表面146上的官能基产生缩合反应(CondensationReaction)。故,所形成的抗污薄膜150对基材120的表面146具有极强的附着力。在本发明的另一实施方式中，还可根据制程需求，而于抗污涂料蒸气分子142沉积前，先选择性地将对流装置128设置在反应腔室132中，并利用对流装置128来使抗污涂料蒸气分子142更均匀地散布于反应腔室132中。此时，若基材120的表面154及/或侧面152并非完全贴设于承载构件104a时，抗污涂料蒸气分子142可同时沉积在基材120的表面146、表面154及/或侧面152上，进而使抗污薄膜150涂布在基材120的表面146、表面154及/或侧面152。藉由涂布抗污薄膜150，可使基材120的表面146、表面154及/或侧面152具有疏水、疏油及抗油污的功能。在本实施方式中，可利用由多个雾化装置124所组成的蒸镀设备，来同时对多个基材120，例如排列成行、成列或阵列式基材，进行抗污薄膜的蒸镀。此外，由于本发明是在常压下进行抗污薄膜150的涂布，因此可大量快速且有效地将抗污涂料均匀地涂布在基材120的表面146上。另外，本发明的实施方式的一特征在于，抗污涂料溶液的雾化是在待处理基材上方进行，因此抗污涂料溶液经雾化后的喷雾方向并非直接朝向待处理基材。如此一来，抗污涂料溶液可在气化更为明确后，才接触到待处理基材表面上。因此，可避免在基材表面上产 生雾滴现象，进而可提高抗污薄膜的涂布均匀性。在本发明的另一些实施方式中，抗污涂料溶液的雾化亦可在其它区域进行，而可不在待处理的基材的上方进行。举例而言，可在待处理基材的下方进行抗污涂料溶液的雾化，再利用导管来进行抗污涂料雾气的导引。藉由导管，可将传导过程中由抗污涂料雾气转化成的抗污涂料蒸气分子导引到基材所需涂布抗污薄膜的区域，进而在基材所需区域形成抗污薄膜。由上述本发明的实施方式可知，本发明的一优点为本发明是采用常压蒸镀方式来进行抗污薄膜的涂布，因此省略降压抽真空的程序，进而可大幅降低设备成本及增加产能。由上述本发明的实施方式可知，本发明的另一优点就是因为本发明是采用常压蒸镀方式来涂布抗污薄膜，因此可极有效率地进行连续性待处理基材的抗污薄膜的涂布。由上述本发明的实施方式可知，本发明的又一优点就是因为本发明是在大气环境下，进行抗污涂料溶液的雾化、气化，因此可大量快速并有效地将抗污涂料均匀地涂布在待处理基材的单一或多个表面上。由上述本发明的实施方式可知，本发明的再一优点就是因为本发明的抗污薄膜的常压蒸镀装置与制作设备可在常压环境下进行抗污薄膜的涂布，因此可快速地进行待处理基材的抗污薄膜的涂布。由上述本发明的实施方式可知，本发明的再一优点就是因为本发明的抗污薄膜的常压蒸镀装置与制作设备可同时进行大量基材的抗污薄膜的涂布，因此可大幅提高抗污薄
膜的产量。由上述本发明的实施方式可知，本发明的再一优点为本发明的抗污薄膜的常压蒸镀装置与制作设备可有效率地且均匀地进行连续性基材的抗污薄膜的涂布。虽然本发明已以实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何在此技术领域中具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作各种的更动与润饰，因此本发明的保护范围当视所附的权利要求书所界定的范围为准。
权利要求
1.一种抗污薄膜的常压蒸镀方法，其特征在于，包含 提供一基材； 对一抗污涂料溶液进行一气化步骤，以形成多个抗污蒸气分子；以及 沉积该些抗污蒸气分子于该基材的一表面上，以形成该抗污薄膜。
2.根据权利要求I所述的抗污薄膜的常压蒸镀方法，其特征在于，该抗污涂料溶液包含一抗污涂料与一溶剂，且该溶剂包含一高挥发性液体及/或水。
3.根据权利要求2所述的抗污薄膜的常压蒸镀方法，其特征在于，该抗污涂料的材料包含氟碳硅烃类化合物、全氟碳硅烃类化合物、氟碳硅烷烃类化合物、全氟硅烷烃类化合物、或全氟硅烷烃醚类化合物。
4.根据权利要求2所述的抗污薄膜的常压蒸镀方法，其特征在于，该高挥发性液体在常温下的蒸气压比水的蒸气压大，且该高挥发性液体是选自于由醇类、醚类、烷类、酮类、苯类、含氟基醇类、含氟基醚类、含氟基烷类、含氟基酮类与含氟基苯类所组成的一族群。
5.根据权利要求I所述的抗污薄膜的常压蒸镀方法，其特征在于，该气化步骤包含利用一雾化组件，该雾化组件包含一超音波雾化组件、一加热蒸镀雾化组件、一高压气体喷射组件、或一喷嘴雾化组件。
6.根据权利要求I所述的抗污薄膜的常压蒸镀方法，其特征在于，于该气化步骤前，还包含利用一等离子于该基材的该表面进行清洁及处理，借以在该基材的该表面上形成多个官能基，该些官能基包含多个氢氧官能基、多个氮氢官能基、及/或多个空悬键。
7.根据权利要求I所述的抗污薄膜的常压蒸镀方法，其特征在于，于该气化步骤前，还包含利用一保护罩罩覆住该基材，且该气化步骤是在该保护罩中进行。
8.根据权利要求7所述的抗污薄膜的常压蒸镀方法，其特征在于，于沉积该些抗污蒸气分子的步骤前，还包含使该些抗污蒸气分子在该保护罩内对流。
9.一种抗污薄膜的常压蒸镀装置，其特征在于，包含 一传输装置，适用以传送至少一基材；以及 一雾化装置，包含 至少一涂料承接装置，用以装载一抗污涂料溶液；以及 至少一雾化组件，设于该至少一涂料承接装置上，用以使该抗污涂料溶液气化成多个抗污涂料蒸气分子而沉积在该至少一基材的一表面上。
10.根据权利要求9所述的抗污薄膜的常压蒸镀装置，其特征在于，该至少一雾化组件包含一超音波雾化震片、一加热蒸镀雾化组件、一高压气体喷射组件、或一喷嘴雾化组件。
11.根据权利要求9所述的抗污薄膜的常压蒸镀装置，其特征在于，该至少一雾化组件设于该至少一涂料承接装置的上部上，且该雾化装置还包含至少一涂料传导构件，适用以将该抗污涂料溶液传送至该至少一雾化组件。
12.根据权利要求9所述的抗污薄膜的常压蒸镀装置，其特征在于，还包含一保护罩，适用以罩覆住该至少一基材、该至少一涂料承接装置、与该至少一雾化组件。
13.根据权利要求9所述的抗污薄膜的常压蒸镀装置，其特征在于，该至少一涂料承接装置包含多个涂料承接装置，且该至少一雾化组件包含单一雾化组件设置在该些涂料承接装置上。
14.根据权利要求9所述的抗污薄膜的常压蒸镀装置，其特征在于，该至少一涂料承接装置包含单一涂料承接装置，且该至少一雾化组件包含多个雾化组件设置在该涂料承接装置上。
15.一种抗污薄膜的制作设备，其特征在于，包含 一传输装置，适用以传送至少一基材； 一等离子装置，设于该传输装置上方，且适用以对该至少一基材的一表面进行一表面活化处理；以及 一常压蒸镀装置，邻设于该等离子装 置旁，其中该常压蒸镀装置包含一雾化装置，且该雾化装置包含 至少一涂料承接装置，用以装载一抗污涂料溶液；以及 至少一雾化组件，设于该至少一涂料承接装置上，用以使该抗污涂料溶液气化成多个涂料蒸气分子，而使该些涂料蒸气分子沉积在经该表面活化处理后的该至少一基材的该表面上，借以形成一抗污薄膜。
16.根据权利要求15所述的抗污薄膜的制作设备，其特征在于，该等离子装置是一大气等离子装置、一低压等离子装置或电磁耦合式等离子装置。
17.根据权利要求15所述的抗污薄膜的制作设备，其特征在于，该至少一雾化组件包含一超音波雾化震片、一加热蒸镀雾化组件、一高压气体喷射组件、或一喷嘴雾化组件。
18.根据权利要求15所述的抗污薄膜的制作设备，其特征在于，该至少一涂料承接装置包含多个涂料承接装置，且该至少一雾化组件包含单一雾化组件设置在该些涂料承接装置上。
19.根据权利要求15所述的抗污薄膜的制作设备，其特征在于，该至少一涂料承接装置包含单一涂料承接装置，且该至少一雾化组件包含多个雾化组件设置在该涂料承接装置上。
20.根据权利要求15所述的抗污薄膜的制作设备，其特征在于，该常压蒸镀装置还包含一涂料容量传感器，适用以感测该至少一涂料承接装置内所装载的该抗污涂料溶液的量。
全文摘要
本发明涉及一种抗污薄膜的常压蒸镀方法、常压蒸镀装置与制作设备。此抗污薄膜的常压蒸镀方法包含下列步骤。提供一基材。对一抗污涂料溶液进行一气化步骤，以形成多个抗污蒸气分子。沉积这些抗污蒸气分子于基材的一表面上，以形成抗污薄膜。
文档编号C23C14/24GK102747327SQ20111016230
公开日2012年10月24日 申请日期2011年6月13日 优先权日2011年4月21日
发明者叶俊嘉, 徐逸明, 陈姵菱, 陈彦政, 黄世明 申请人:馗鼎奈米科技股份有限公司