专利名称：用于磁控溅射平面靶镀膜设备的可调靶基距装置的制作方法
技术领域：
本发明属于磁控溅射镀膜设备领域，特别是一种用于磁控溅射平面靶镀膜设备的可调靶基距装置。
背景技术：
在磁控溅射镀膜设备领域里，影响镀膜工艺流程因素诸多，比如温度，镀膜气压， 镀膜时间，以及靶面与基片距离(又称靶基距)等。靶基距的大小将影响膜层的沉积速率，膜层均勻性，膜层的质量，以及基片沉积温度等。在有些磁控溅射设备有可调靶基距装置，但存在着很大的弊端，对与磁控溅射设备来说，为抽到全真空需要花费很长时间，所以在设备操作基本原则上，尽量减少真空室暴露空气当中，而传统调节靶基距方法是在破空的情况下进行的，同时也不是线形调节，这样的情况下就很难找到最佳的靶基距，从而影响膜层质量和镀膜效率。在很多的磁控溅射设备没有可调靶基距装置，即使有传统需破空状态下操作的， 其整个过程复杂，难以寻求最佳工作距离，因此急需一种可调靶基距装置。
发明内容
本发明就是针对技术的不足，提出用于磁控溅射平面靶镀膜设备的可调靶基距装置，该装置避免真空室暴露大气，影响抽真空时间，实现在真空状态下调节，同时解决传统的垫块式调节的不连续性及膜层的纵向不均勻性的问题。本发明所述用于磁控溅射平面靶镀膜设备的可调靶基距装置由可调节密封连接装置、门板及靶体三部分组成；所述的可调节密封连接装置由轴、月牙螺母、绝缘套固定块、 密封装置及弹簧组成，其中所述的密封装置包括上轴封压块、下轴封压块、支撑轴套、轴封及螺钉组成，上轴封压和下轴封压块通过螺钉固定在门板两侧，上轴封压块与下轴封压块之间分别依次设置有支撑轴套和轴封；所述的可调节密封连接装置的轴穿过门板和靶体， 轴的一端安装有水管接头，轴通过螺纹与月牙螺母连接，月牙螺母和密封装置之间设置有绝缘套固定块；所述的弹簧套装在轴上，并置于下轴封压块与靶体之间；所述的弹簧固定在靶体和下轴封压块上；弹簧与靶体接触点位置处的轴焊接在靶体上。进一步的，所述的轴为中空，并在中空轴中通入冷水。进一步的，所述的月牙螺母上设置有一电极引入固定孔。进一步的，所述的月牙螺母和绝缘套固定块被绝缘套包裹。进一步的，所述靶体放置弹簧的位置成凸起状，且凸起部分和下轴封压块上均有一与弹簧直径相适应的凹槽。本发明的有益效果在于通过把可调靶基距装置固定在门板和靶体上，利用弹簧的伸缩性，调整时不要将基体置于空气中，使调试出最佳的靶基距的时间短，且可以在靶体两端调整，使得镀膜层的均勻性得到较大的提高。
图1为用于磁控溅射平面靶镀膜设备的可调靶基距装置的整体结构示意图； 图2为用于磁控溅射平面靶镀膜设备的可调靶基装置结构图中1基片、2轴、3弹簧、4轴封、5支撑轴套、6绝缘套固定块、7螺钉、8水管接头、9绝缘套、10上轴封压块、11可调靶基距装置、12门板、13靶体、14电极引入固定孔、15、下轴封压块、16月牙螺母。
具体实施例方式如图1和图2所示，本发明所述用于磁控溅射镀膜设备的可调靶基距装置由可调节密封连接装置11、门板12及靶体13三部分组成；所述的可调节密封连接11装置由轴2、 月牙螺母16、绝缘套固定块6、密封装置及弹簧3组成，其中所述的密封装置包括上轴封压块10、下轴封压块15、支撑轴套5、轴封4及螺钉7组成，上轴封压块10通过螺钉7固定在门板12上面，下轴封压块15通过螺钉7固定在门板12下面，上轴封压块10与下轴封压块 15之间分别依次设置有支撑轴套5和轴封4 ；所述的可调节密封连接装置11的轴2穿过门板12和靶体13，轴2的一端安装有水管接头8，轴2通过螺纹与月牙螺母16连接，月牙螺母16和密封装置之间设置有绝缘套固定块6 ；所述的弹簧3套装在轴2上，并置于下轴封压块15与靶体13之间；所述的弹簧3固定在靶体13和下轴封压块15上；弹簧3与靶体13 接触点位置处的轴2焊接在靶体13上。进一步的，所述的轴2为中空，并在中空轴中通入冷水。进一步的，所述的月牙螺母16上设置有一电极引入固定孔14。进一步的，所述的月牙螺母16和绝缘套固定块6被绝缘套9包裹。进一步的，所述靶体13放置弹簧3的位置成凸起状，且凸起部分和下轴封压块15 上均有一与弹簧3直径相适应的凹槽。本发明所述的用于磁控溅射平面靶镀膜设备的可调靶基距装置的工作原理为 基片和门板之间的距离固定不变，调节距离时，通过旋转月牙螺母16，使月牙螺母
16的受力通过绝缘套固定块6及轴封装置传导到弹簧3上，通过弹簧3的弹力调整门板12 与靶体13之间的距离，实现密封调节。
权利要求
1.用于磁控溅射平面靶镀膜设备的可调靶基距装置由可调节密封连接装置、门板及靶体三部分组成；所述的可调节密封连接装置由轴、月牙螺母、绝缘套固定块、密封装置及弹簧组成，其中所述的密封装置包括上轴封压块、下轴封压块、支撑轴套、轴封及螺钉组成，上轴封压和下轴封压块通过螺钉固定在门板两侧，上轴封压块与下轴封压块之间分别依次设置有支撑轴套和轴封；所述的可调节密封连接装置的轴穿过门板和靶体，轴的一端安装有水管接头，轴通过螺纹与月牙螺母连接，月牙螺母和密封装置之间设置有绝缘套固定块；所述的弹簧套装在轴上，并置于下轴封压块与靶体之间；所述的弹簧固定在靶体和下轴封压块上；弹簧与靶体接触点位置处的轴焊接在靶体上。
2.如权利要求1所述的用于磁控溅射平面靶镀膜设备的可调靶基距装置，其特征在于，所述的轴为中空，并在中空轴中通入冷水。
3.如权利要求1所述的用于磁控溅射平面靶镀膜设备的可调靶基距装置，其特征在于，所述的月牙螺母上设置有一电极引入固定孔。
4.如权利要求1所述的用于磁控溅射平面靶镀膜设备的可调靶基距装置，其特征在于，所述的月牙螺母和绝缘套固定块被绝缘套包裹。
5.所述靶体放置弹簧的位置成凸起状，且凸起部分和下轴封压块上均有一与弹簧直径相适应的凹槽。
全文摘要
本发明所述的用于磁控溅射平面靶镀膜设备的可调靶基距装置由可调节密封连接装置、门板及靶体三部分组成；所述的可调节密封连接装置由轴、月牙螺母、绝缘套固定块、密封装置及弹簧组成，其中所述的密封装置包括上轴封压块、下轴封压块、支撑轴套、轴封及螺钉组成。本发明所述的装置避免真空室暴露大气，影响抽真空时间，实现在真空状态下调节，同时解决传统的垫块式调节的不连续性及膜层的纵向不均匀性的问题。
文档编号C23C14/35GK102517556SQ20121000998
公开日2012年6月27日 申请日期2012年1月13日 优先权日2012年1月13日
发明者刘高水, 周志文, 李民英 申请人:广东志成冠军集团有限公司