专利名称：一种溅镀设备镀膜进气均匀性提升装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及镀膜设备内部装置，此装置可广泛应用于任何需要于真空溅镀下进行加工的制程，例如太阳能硅片镀膜加工。
背景技术：
传统真空镀膜设备的进气装置为圆形不锈钢管，气体从不锈钢管的一端进入，从不锈钢管上均匀开的多个小孔流出进入真空室，由于从进气端到末端气体被小孔流出形成压强渐小，小孔流出的气体也逐渐減少，形成不均匀送气；对于靶长度较短的溅镀系统，此现象可以忽略，但随着靶长度増加，例如五代玻璃镀膜的尺寸，靶长度约为I. 3^1. 6m，此现象会形成镀膜厚度随长度呈梯度的不均匀，因为送气呈现压力梯度现象，会造成等离子体随压カ梯度呈现不同的密度，而使溅设的厚度不均匀，因此对于进气装置有进ー步改进的需求，以降低镀膜厚度的不均匀性。
发明内容本实用新型主要目的系提供一种溅镀设备镀膜进气均匀性提升装置，来改善现有的不均匀送气装置造成溅镀厚度的不均匀的问题。为了达成上述实用新型目的ー种溅镀设备镀膜进气均匀性提升装置包含一方形主进气管；一圓形进气管；于方形主进气管面对靶面上设置22个气体喷淋嘴；主进气管上方设置3个吊挂片，用以固定整个进气装置。
图I系为本实用新型结构上视图。图2系为本实用新型气体喷淋嘴示意图。图3系为本实用新型吊挂片图。主要组件符号说明。100...方形主进气管。101...圆形进气管。200...气体喷淋嘴。201...气体喷淋嘴固定螺帽。202...喷林ロ。300...吊挂片。
具体实施方式
为使方简捷了解本发明之其他特征内容与优点及其所达成之功效能够为显现，兹将本实用新型配合附图，详细明如下请阅图1，本实用新型之主要目的系提供一种溅镀设备镀膜进气均匀性提升装置，其包括方形主进气管100、圆形进气管101、22个气体喷淋嘴200、3个吊挂片300所组成。请阅图2，每个气体喷淋嘴200上设置有固定螺帽201，以固定气体喷淋嘴，每个气体喷淋嘴200上设置有喷林ロ 202，喷林ロ 202使气体以扇形面积喷出，每个喷林ロ 202的扇形面积会互相重叠，形成一长形面积覆盖于靶面上方，形成均匀的等离子体，请參阅图3，吊挂片300，用以固定进气装置于腔室上方，使装置平行于靶面，兹将动作步骤说明，外部进气经由圆形气管101流入腔室，由圆形气管101将进气分为三路进气，使沿靶面长度都能得到均匀的进气压力，气体流入方形主进气管100后，在经由气体喷淋嘴200流入腔室，使靶面充满均匀的等离子体以进行溅镀制程。综上所述，本实用新型在突破先前之技术结构下，确实已达到所欲增进之功效，且也非熟悉该项技艺者所于思及，其所具之进步性、实用性，显已符合实用新型之 申请要件，惟上详细明系针对本实用新型之一可实施之具体明，该实施并非用以限制本实用新型之专范围，而凡未脱本实用新型技艺所为之等效实施或变，均应包含于本案之专范围中。
权利要求1.一种溅镀设备镀膜进气均匀性提升装置包含一方形主进气管；一圆形进气管；于方形主进气管面对靶面上设置22个气体喷淋嘴；主进气管上方设置3个吊挂片。
2.根据权利要求I所述之一种溅镀设备镀膜进气均匀性提升装置，其中该方形主进气管宽度30mm,长度1520mm。
3.根据权利要求第I项所叙述之一种溅镀设备镀膜进气均匀性提升装置，其中该圆形进气管直径为3/8寸。
4.根据权利要求第2项所叙述之主进气管，其中该主进气管上设置22个气体喷淋嘴。
5.根据权利要求第2项所叙述之主进气管，其中该主进气管上设置3个吊挂片。
专利摘要本实用新型目的提供一种溅镀设备镀膜进气均匀性提升装置，为了达成上述实用新型目的一种溅镀设备镀膜进气均匀性提升装置包含一方形主进气管；一圆形进气管；于方形主进气管面对靶面上设置22个气体喷淋嘴；主进气管上方设置3个吊挂片，用以固定整个进气装置。来改善现有的不均匀送气装置造成溅镀厚度的不均匀的问题。
文档编号C23C14/34GK202558927SQ20122024004
公开日2012年11月28日 申请日期2012年5月26日 优先权日2012年5月26日
发明者周文彬, 刘幼海, 刘吉人 申请人:吉富新能源科技(上海)有限公司