n-型In6Se7基热电半导体的制备工艺的制作方法

文档序号:16169332发布日期:2018-12-07 21:49阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种n-型In6Se7基热电半导体的制备工艺,其特征在于在In6Se7半导体中采用S元素等摩尔替换Se元素,构成三元热电半导体,该三元热电半导体的化学式为In6S0.5Se6.5;其制备工艺是根据化学式In6S0.5Se6.5将In、S、Se三种元素放置在石英管内真空熔炼合成,熔炼合成温度为1050~1150℃,合成时间35~45小时,然后将真空石英管内的三元化合物随炉冷却至700~800℃后立即在水中淬火,将淬火后的铸锭粉碎、球磨,球磨时间10小时,球磨干燥后的粉末经放电等离子烧结制备,烧结温度为500~600℃,烧结压力55~65MPa,烧结时间35~45分钟,制备得到In6S0.5Se6.5热电半导体。

2.根据权利要求1所述的n-型In6Se7基热电半导体的制备工艺,其特征在于所述In6S0.5Se6.5热电材料的合成温度为1100℃,烧结温度为550℃,烧结压力60MPa,在烧结温度下保温40分钟。

3.根据权利要求1所述的n-型In6Se7基热电半导体的制备工艺,其特征在于将所述三种元素先在高真空手套箱中配料,后直接放置在石英管中用石蜡封口,取出后迅速真空封装。

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