1.一种W-Se-Zr/ZrSiN软硬复合梯度涂层刀具，刀具基体材料为陶瓷或硬质合金，其特征在于：刀具表面涂层从上到下依次为W-Se-Zr层、Zr过渡层、ZrSiN梯度层和Zr过渡层，ZrSiN梯度层中Si元素含量由内到外逐渐增加。
2.权利要求1所述的W-Se-Zr/ZrSiN软硬复合梯度涂层刀具的制备方法，其特征在于：首先使用电弧离子镀沉积Zr过渡层，然后使用电弧离子镀+中频磁控溅射沉积ZrSiN梯度涂层，最后使用电弧离子镀+中频磁控溅射沉积W-Se-Zr涂层，沉积过程中使用1个Zr靶，2个WSe2中频靶，2个Si中频靶。其具体制备工艺步骤如下：
(1)前处理：将刀具基体表面研磨并抛光至镜面，去除表面污染物，依次放入酒精和丙酮中，超声清洗各20min，去除表面油污和其他污染物，并充分干燥后迅速放入镀膜机真空室，真空室本底真空为6.0×10-3Pa，加热至100-200℃，保温30-60min；
(2)离子清洗：通入Ar气，气压为1.5Pa，开启脉冲偏压电源，电压为800V，占空比为0.2，辉光清洗15-20min，偏压降至300-400V，气压降至0.5Pa，开启离子源，开启电弧源Zr靶，电流调至60-65A，离子清洗2-3min；
(3)沉积Zr过渡层：降低偏压至150-200V，Zr靶电流调至70-75A，电弧镀Zr 5-7min；
(4)沉积ZrSiN梯度层：调整工作气压为0.4-0.6Pa，偏压为50-100V，开启Zr靶，靶电流为60-80A，开启Ar气，调整Ar气流量为39sccm，开启N2，调整N2流量在20-65sccm范围内，调节N2分压RN2在40-60％范围内，开启Si靶，Si靶电流为0A，每隔20-25min中依次增加Si靶电流0.4-0.6A，最终Si靶电流为3.2-4.8A，沉积ZrSiN梯度层160-200min；
(5)更换WSe2中频靶：关闭Zr靶，关闭Si中频靶，关闭离子源及气体源，关闭脉冲偏压，待温度降至28-50℃，破真空，拆卸2个Si中频靶，并更换为2个WSe2中频靶，抽真空，真空室本底真空为6.0×10-3Pa，加热至100-200℃，保温30-60min；
(6)离子清洗：通入Ar气，气压为1.5Pa，开启脉冲偏压电源，电压为800V，占空比为0.2，辉光清洗15-20min，偏压降至300-400V，气压降至0.5Pa，开启离子源，开启电弧源Zr靶，电流调至60-65A，离子清洗2-3min；
(7)沉积Zr过渡层：降低偏压至150-200V，Zr靶电流调至70-75A，电弧镀Zr 5-7min；
(8)沉积W-Se-Zr层：开启Ar气，调整工作气压为0.4-0.6Pa，偏压为50-100V，开启Zr靶，靶电流为60-80A，开启WSe2靶，WSe2靶电流为1-2A，工作台旋转，沉积W-Se-Zr层150-240min；
(9)后处理：关闭Zr靶，关闭WSe2中频靶，关闭离子源及气体源，关闭脉冲偏压，沉积涂层结束。