1.一种航天器用金属件表面的热控处理方法，其特征在于，包含以下步骤：
步骤1）样件准备：将待处理金属件打磨抛光后，置于真空室内的样品台上，将样品台的高度调节至孪生靶垂直线相交的位置，金属件接高压脉冲电源的高压脉冲输出端；
步骤2）抽真空：首先打开机械泵和旁抽阀，当真空度抽至9-11Pa，打开闸板阀及分子泵，关闭旁抽阀，提高抽气速率进入高真空；真空度达到3×10-3Pa以下时，开始通入高纯度的Ar2和O2；
步骤3）溅射清洗：首先打开射频电源，控制功率在150～400W，以在真空室内形成射频气体等离子体，同时打开偏压电源，以实现零件表面的离子溅射清洗，去除表面的残余氧化物等杂质；
步骤4）离子注入：同时打开高功率脉冲磁控溅射电源与高压脉冲电源，将离子加速到10keV以上的能量而注入到零件表面，以在金属件的近表面形成一层Al离子注入层，从而增强表面层的结合力；
步骤5）薄膜沉积：同时打开高功率脉冲磁控溅射电源与偏压电源，在样件表面进行Al2O3薄膜沉积。
2.根据权利要求1所述的一种航天器用金属件表面的热控处理方法，其特征在于，所述步骤2）中的Ar2流量控制在20～80sccm，O2流量控制在5～50sccm之间。
3. 根据权利要求1所述的一种航天器用金属件表面的热控处理方法，其特征在于，所述步骤3）中偏压电源的偏压频率为50～150 HZ，偏压脉宽为5～40μs，偏压幅值为4～10 kV，时间为90～200 min。
4. 根据权利要求1所述的一种航天器用金属件表面的热控处理方法，其特征在于，所述步骤4）中调节高功率溅射频率为100～300 Hz，高功率溅射脉宽为5～40 μs，高功率溅射延时为0～10μs，高功率溅射功率为400～800W；调节高压脉冲为40～100 μs，高压延时为5～50 μs，高压幅值为10～50 kV，时间为300～500 min。
5. 根据权利要求1所述的一种航天器用金属件表面的热控处理方法，其特征在于，所述步骤5）中调节高功率溅射频率为1500～3000 Hz，高功率溅射脉宽为10～60 μs，高功率溅射延时为80～120μs，高功率溅射功率为300～600W；调节偏压脉冲为20～70 μs，偏压延时为5～30 μs，高压幅值为80～150 V，时间为1000～1600 min。