1.一种研磨垫，其特征在于，包括：
研磨层，其中所述研磨层包括中心区域、边缘区域以及位于所述中心区域以及所述边缘区域之间的主要研磨区域；
至少一环状沟槽，位于所述研磨层的所述主要研磨区域中；
边缘沟槽，位于所述研磨层的所述边缘区域中，且所述边缘沟槽包括格状沟槽；以及
至少一径向延伸沟槽，位于所述研磨层的所述主要研磨区域，且所述径向延伸沟槽与所述至少一环状沟槽相连接。
2.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述研磨层具有旋转中心，所述旋转中心位于所述研磨层的中心位置，且所述至少一环状沟槽以所述旋转中心为中心呈现同心排列。
3.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述边缘沟槽的所述格状沟槽的形状为正方格、长方格、菱形格、梯形格、三角形格、多角形格、或其组合。
4.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述径向延伸沟槽延伸至所述边缘区域，且所述径向延伸沟槽与所述边缘沟槽相连接。
5.根据权利要求4所述的研磨垫，其特征在于，所述径向延伸沟槽为所述边缘沟槽的所述格状沟槽一部分的延伸。
6.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，还包括中心沟槽，位于所述研磨层的所述中心区域中，且所述中心沟槽包括格状沟槽。
7.根据权利要求6所述的研磨垫，其特征在于，所述中心沟槽的所述格状沟槽的形状为正方格、长方格、菱形格、梯形格、三角形格、多角形格、或其组合。
8.根据权利要求6所述的研磨垫，其特征在于，所述径向延伸沟槽延伸至所述中心区域，且所述径向延伸沟槽与所述中心沟槽相连接。
9.根据权利要求6所述的研磨垫，其特征在于，所述径向延伸沟槽为所述中心沟槽的所述格状沟槽一部分的延伸。
10.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，在所述研磨层半径方向上，所述中心区域具有第一宽度，所述主要研磨区域具有第二宽度，所述 边缘区域具有第三宽度。
11.根据权利要求10所述的研磨垫，其特征在于，
所述第一宽度为所述研磨层半径的5％～25％，
所述第二宽度为所述研磨层半径的50％～90％，且
所述第三宽度为所述研磨层半径的5％～25％。
12.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述边缘沟槽中不与所述径向延伸沟槽连接的每一沟槽具有：
第一端点，位于所述主要研磨区域的外侧处，其中所述第一端点具有一端面；以及
第二端点，位于所述边缘区域的外侧处，且不具有端面。
13.一种研磨系统，其特征在于，包括：
研磨垫，包括：
研磨层，其中所述研磨层包括中心区域、边缘区域以及位于所述中心区域以及所述边缘区域之间的主要研磨区域；
至少一环状沟槽，位于所述研磨层的所述主要研磨区域中；
边缘沟槽，位于所述研磨层的所述边缘区域中，且所述边缘沟槽包括一格状沟槽；以及
至少一径向延伸沟槽，位于所述研磨层的所述主要研磨区域，且所述径向延伸沟槽与所述至少一环状沟槽相连接；以及
研磨物件，位于所述研磨垫上，其中所述研磨物件具有中央区域以及包围所述中央区域的周边区域，
其中，在进行研磨程序中，所述研磨物件的所述中央区域与所述研磨层的所述至少一环状沟槽以及所述径向延伸沟槽接触，且所述研磨物件的所述周边区域与所述研磨层的所述至少一环状沟槽、所述边缘沟槽以及所述径向延伸沟槽接触。
14.根据权利要求13所述的研磨系统，其特征在于，所述研磨层具有旋转中心位于所述研磨层的中心位置，且所述至少一环状沟槽以所述旋转中心为中心呈现同心排列。
15.根据权利要求13所述的研磨系统，其特征在于，所述边缘沟槽的所述格状沟槽的形状为正方格、长方格、菱形格、梯形格、三角形格、多角形 格、或其组合。
16.根据权利要求13所述的研磨系统，其特征在于，所述径向延伸沟槽延伸至所述边缘区域，且所述径向延伸沟槽与所述边缘沟槽相连接。
17.根据权利要求16所述的研磨系统，其特征在于，所述径向延伸沟槽为所述边缘沟槽的所述格状沟槽一部分的延伸。
18.根据权利要求13所述的研磨系统，其特征在于，还包括中心沟槽，位于所述研磨层的所述中心区域中，且所述中心沟槽包括格状沟槽。
19.根据权利要求18所述的研磨系统，其特征在于，所述中心沟槽的所述格状沟槽的形状为正方格、长方格、菱形格、梯形格、三角形格、多角形格、或其组合。
20.根据权利要求18所述的研磨系统，其特征在于，所述径向延伸沟槽延伸至所述中心区域，且所述径向延伸沟槽与所述中心沟槽相连接。
21.根据权利要求18所述的研磨系统，其特征在于，所述径向延伸沟槽为所述中心沟槽的所述格状沟槽一部分的延伸。
22.根据权利要求13所述的研磨系统，其特征在于，在所述研磨层半径方向上，所述中心区域具有第一宽度，所述主要研磨区域具有第二宽度，所述边缘区域具有第三宽度。
23.根据权利要求22所述的研磨系统，其特征在于，
所述第一宽度为所述研磨层半径的5％～25％，
所述第二宽度为所述研磨层半径的50％～90％，且
所述第三宽度为所述研磨层半径的5％～25％。