1.一种冶金用的连续式真空蒸馏炉，其特征在于：包括进料斗、蒸馏盘、保温罩和冷凝罩；
所述保温罩设置于所述蒸馏盘与冷凝罩之间；
所述冷凝罩顶部设置有冷凝罩盖板，所述冷凝罩盖板设置有第一套接孔；
所述蒸馏盘顶部设置有蒸馏盘盖板，所述蒸馏盘盖板设置有第二套接孔；
所述进料斗底部设置有凸台和接触端面；所述凸台的外径小于所述接触端面的外径；所述凸台设置于所述接触端面中央；所述进料斗的出料通道向下贯穿所述凸台两端；所述凸台分别与所述冷凝罩的第一套接孔和蒸馏盘的第二套接孔相套接；所述接触端面与所述冷凝罩盖板的上板面相贴合；
所述接触端面设置有第一密封凸环，所述第一密封凸环的内径大于所述凸台的外径；
所述冷凝罩盖板的上板面对应所述第一密封凸环设置有第一密封凹槽，所述第一密封凹槽与所述第一密封凸环相嵌套连接。
2.根据权利要求1所述的冶金用的连续式真空蒸馏炉，其特征在于：所述凸台与所述第二套接孔之间的间隙大于所述凸台与所述第一套接孔之间的间隙；所述凸台与所述第二套接孔之间的间隙中涂抹有软黄泥以进行密封。
3.根据权利要求2所述的冶金用的连续式真空蒸馏炉，其特征在于：所述凸台包括相连接的顶部凸台和底部凸台；所述顶部凸台的外径大于所述底部凸台的外径；所述顶部凸台与所述冷凝罩盖板的第一套接孔相套接，所述底部凸台与所述蒸馏盘盖板的第二套接孔相套接。
4.根据权利要求3所述的冶金用的连续式真空蒸馏炉，其特征在于：所述底部凸台的底部端面设置有第二密封凸环，所述蒸馏盘盖板的顶部板面对应设置有第二密封凹槽，所述第二密封凸环与所述第二密封凹槽相抵接。
5.根据权利要求1或2或3或4所述的冶金用的连续式真空蒸馏炉，其特征在于：所述第一密封凸环设置有两个或者两个以上，所述第一密封凹槽对应设置有两个或者两个以上。