1.一种抛光机构的软质载物层，用以与磨盘配合对放置在软质载物层上的待加工玻璃盖板抛光处理，其特征在于：所述软质载物层包括第一区域及第二区域，所述第一区域环绕所述第二区域，所述第二区域平行于所述磨盘，所述第一区域与所述第二区域所在平面呈一夹角，所述夹角小于90°。
2.如权利要求1所述的抛光机构的软质载物层，其特征在于：所述第一区域相对于所述磨盘的高度逐步变化，且靠近第二区域一侧相对于所述磨盘的最小高度比远离第二区域一侧的最大高度低0-10mm。
3.如权利要求2所述的抛光机构的软质载物层，其特征在于：所述第一区域与所述第二区域所在平面的夹角为0.1-5.5°。
4.如权利要求3所述的抛光机构的软质载物层，其特征在于：所述软质载物层进一步包括工件放置区，所述工件放置区设置于所述第一区域和/或所述第二区域与所述磨盘相对设置的表面上；或所述工件放置区内嵌于所述第一区域和/或所述第二区域与所述磨盘相对设置的表面上。
5.如权利要求4所述的抛光机构的软质载物层，其特征在于：所述工件放置区开设凹槽，所述凹槽包括中心开口区域和四周开口区域两部分，且中心开口区域与四周开口区域连通，所述中心开口区域选用方形或圆形，所述四周开口区域选用“山”字形、“田”字形、“回”字形或圆环形。
6.如权利要求5所述的抛光机构的软质载物层，其特征在于：所述凹槽的深度为所述工件放置区的厚度。
7.如权利要求6所述的抛光机构的软质载物层，其特征在于：所述软质载物层开设孔隙，所述孔隙贯穿整个软质载物层。
8.一种抛光机构，其特征在于：其包括磨盘和与磨盘相对设置的用于承载待加工玻璃盖板的软质载物层，所述软质载物层包括第一区域及第二区域，所述第一区域环绕所述第二区域，所述第二区域平行于所述磨盘，所述第一区域与所述第二区域所在平面呈一夹角，所述夹角小于90°。
9.如权利要求8所述的抛光机构，其特征在于：所述第一区域相对于所述磨盘的高度逐步变化，且靠近第二区域一侧相对于所述磨盘的最小高度比远离第二区域一侧的最大高度低0-10mm。
10.如权利要求8所述的抛光机构，其特征在于：所述抛光机构还包括吸附托盘，所述软质载物层开设有凹槽，所述吸附托盘开设有跟凹槽连通的吸附孔。