一种金属板材加工用的抛光装置及其用抛光液的制备方法与流程

文档序号:14232324阅读:163来源:国知局
一种金属板材加工用的抛光装置及其用抛光液的制备方法与流程

本发明涉及金属加工技术领域,具体为一种金属板材加工用的抛光装置及其用抛光液的制备方法。



背景技术:

随着科学技术发展突飞猛进,各种新技术、新发明层出不穷,并被迅速应用并服务于社会,大大促进了经济的发展,目前,国内使用的金属板材抛光机的构造是:由调速电机带动夹送胶辊将金属板材送到工作台面上,同时,磨头架被升降机下压,磨头架下端安装8个磨头,每2个磨头由一台3千瓦电机通过皮带、传动轴带动旋转,这种方式处理的金属板材易出现表面不均匀、光洁度不够的问题,然而,化学抛光对金属板材处理效果不好,而且化学抛光时产生的化学气体污染环境。

抛光通常用抛光轮作为工具,抛光轮一般用多层帆布、毛毡或皮革叠制而成,两侧用金属圆板夹紧,其轮缘涂覆由微粉磨料和油脂等均匀混合而成的抛光液。

目前市售上常用的抛光液产品在使用时往往是间歇式手段操作,劳动强度大,单位产量低,对精细结构表面处理不够完全。因此许多研发学者热衷于对抛光液的研究,这是由于抛光液能够快速的清理金属表面,且无死角,但现有的抛光液产品存在返锈快、可使用金属种类窄以及清洗不够彻底等问题,而且许多抛光液中含有含氟化合物或含磷化合物,对环境不好。因此,如何克服现有技术的不足是目前金属表面处理技术领域亟需解决的问题。



技术实现要素:

本发明解决的技术问题在于克服现有技术的金属板材易出现表面不均匀、光洁度不够和抛光液中含有含氟化合物或含磷化合物,对环境不好缺陷,提供一种金属板材加工用的抛光装置及其用抛光液的制备方法。所述金属板材加工用的抛光装置具有节约成本、省时省力、表面抛光均匀和光洁度高等特点。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种金属板材加工用的抛光装置,包括机体、金属板材和抛光部,所述机体包括底座和上支撑架,所述底座的顶部两端通过紧固螺钉固定安装有下支撑架,所述上支撑架的顶部固定安装有半圆桶形罩盖,所述底座的顶部和半圆桶形罩盖的内部顶部分别相互对称安装有第一变频电机和第二变频电机;所述抛光部包括上抛光板和下抛光板,所述上抛光板和下抛光板之间设有中部抛光体,所述中部抛光体的内部一端对称设有两组第一旋转盘,且中部抛光体的内部另一端对称设有两组第二旋转盘,所述第一旋转盘的相对应面固定安装有第一抛光布,所述第二旋转盘的相对应面固定安装有第二抛光布,所述第一变频电机的输出端均通过第一旋转轴贯穿于抛光部的外部与第一旋转盘的一端传动连接,所述第二变频电机的输出端均通过第二旋转轴贯穿于抛光部的外部与第二旋转盘的一端传动连接,所述抛光部的两端分别设有进板空心口和出板空心口,所述进板空心口和出板空心口的中段均固定安装于下支撑架和上支撑架之间。

优选的,所述第一抛光布采用有聚氨脂和二氧化铈的稀土材料涂布于高强耐磨布基表面而制成,所述第二抛光布采用精密研磨微粉涂布于高强耐磨布基表面而制成。

优选的,所述第一旋转盘的一端和第二旋转盘的一端外部均设有波浪线端面。

优选的,所述上抛光板和下抛光板的四角均设有相互对称的螺栓,所述螺栓之间均通过拉伸弹簧连接。

优选的,所述上抛光板和下抛光板的内壁与波浪形端面构成抛光通道,位于抛光通道内的两组第一抛光布和第二抛光布之间形成一个对金属板材进行全方位抛光的抛光区。

本发明还提供一种金属板材加工用的抛光装置用金属抛光液的制备方法,所述制备方法包括如下步骤,

s1、称取20~30g硅藻土、10~15g金刚石微粉和15~20g氧化铝,加入到球磨机中球磨1~2h,得到混合粉末并加入到烧杯中,再加入200~300ml去离子水和2~4g十二烷基苯磺酸钠,搅拌混合3~5min,得到混合料;

s2、待冷却后缓慢加入10~20g盐酸并搅拌均匀,搅拌8~12min;

s3、待完全冷却后缓慢加入计算量的氢氟酸充分搅拌均匀;

s4、加入配好的冰醋酸、柠檬酸饱和液、磷酸氢二钠饱和液混合溶液,边搅拌边加入抛光部中;

s5、加入500~800ml去离子水达到所需标准,搅拌均匀,即可进行抛光。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:

1、本发明是对金属板材进行全方位抛光来提高抛光质量的金属板材抛光装置,因为变频电机通过旋转轴带动旋转盘围绕金属板材的表面抛光,使得抛光部内包裹金属板材的两块抛光布也同时围绕金属板材表面旋转抛光,同时相邻两组变频电机的旋转方向相反,从而可以带动金属板材向前运动,节约成本,省时省力,提高一定的安全性;

2、旋转盘的一端外部均设有波浪线端面,使得抛光布与金属板材紧密接触;

本发明制备的金属抛光液抛光效果好,能迅速除去金属表面的锈蚀物质,提高金属表面的光亮度,能在金属表面形成一层保护膜,覆盖力强,极大的提高了金属的抗氧化和抗腐蚀性能。

附图说明

图1为本发明的结构示意图;

图2为本发明的中部抛光体部分剖视放大图;

图3为本发明局部结构立体图。

图中标号:1机体、2抛光部、3下支撑架、4上支撑架、5半圆桶形罩盖、6紧固螺钉、7中部抛光体、8第一抛光布、9第一旋转盘、10波浪线端面、11第一旋转轴、12第一变频电机、13第二变频电机、14第二旋转轴、15第二旋转盘、16第二抛光布、17进板空心口、18出板空心口、19上抛光板、20下抛光板、21金属板材、22螺栓、23拉伸弹簧、24底座。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

请参阅图1-3,本发明提供一种技术方案:一种金属板材加工用的抛光装置,包括机体1、金属板材21和抛光部2,所述机体1包括底座24和上支撑架4,所述底座24的顶部两端通过紧固螺钉6固定安装有下支撑架3,所述上支撑架4的顶部固定安装有半圆桶形罩盖5,所述底座24的顶部和半圆桶形罩盖5的内部顶部分别相互对称安装有第一变频电机12和第二变频电机13;所述抛光部2包括上抛光板19和下抛光板20,所述上抛光板19和下抛光板20之间设有中部抛光体7,所述中部抛光体7的内部一端对称设有两组第一旋转盘9,且中部抛光体7的内部另一端对称设有两组第二旋转盘15,所述第一旋转盘9的相对应面固定安装有第一抛光布8,所述第二旋转盘15的相对应面固定安装有第二抛光布16,所述第一变频电机12的输出端均通过第一旋转轴11贯穿于抛光部2的外部与第一旋转盘9的一端传动连接,所述第二变频电机13的输出端均通过第二旋转轴14贯穿于抛光部2的外部与第二旋转盘15的一端传动连接,所述抛光部2的两端分别设有进板空心口17和出板空心口18,所述进板空心口17和出板空心口18的中段均固定安装于下支撑架3和上支撑架4之间。

具体的,所述第一抛光布8采用有聚氨脂和二氧化铈的稀土材料涂布于高强耐磨布基表面而制成,硬度达到90度以上,在高速抛光金属板材21的过程中,有效的保护了金属板材21不易踏边导角等问题,并且耐用,效率高;所述第二抛光布16采用精密研磨微粉涂布于高强耐磨布基表面而制成,且清洁处理效果显著,其中磨料种类可有氧化铝、氢氧化铝、氧化铈、金刚石、碳酸钙和碳化硅。

具体的,所述第一旋转盘9的一端和第二旋转盘15的一端外部均设有波浪线端面10,使得抛光布与金属板材21紧密接触。

具体的,所述上抛光板19和下抛光板20的四角均设有相互对称的螺栓22,所述螺栓22之间均通过拉伸弹簧23连接,提高上抛光板19和下抛光板20稳定性。

具体的,所述上抛光板19和下抛光板20的内壁与波浪形端面10,构成抛光通道,位于抛光通道内的两组第一抛光布8和第二抛光布16之间形成一个对金属板材21进行全方位抛光的抛光区。

本发明还提供一种金属板材加工用的抛光装置用金属抛光液的制备方法,所述制备方法包括如下步骤,

s1、称取20~30g硅藻土、10~15g金刚石微粉和15~20g氧化铝,加入到球磨机中球磨1~2h,得到混合粉末并加入到烧杯中,再加入200~300ml去离子水和2~4g十二烷基苯磺酸钠,搅拌混合3~5min,得到混合料;

s2、待冷却后缓慢加入10~20g盐酸并搅拌均匀,搅拌8~12min;

s3、待完全冷却后缓慢加入计算量的氢氟酸充分搅拌均匀;

s4、加入配好的冰醋酸、柠檬酸饱和液、磷酸氢二钠饱和液混合溶液,边搅拌边加入抛光部中;

s5、加入500~800ml去离子水达到所需标准,搅拌均匀,即可进行抛光。

对于本发明而言,工作原理为:通过将金属板材21的一端从进板空心口17的开口处插入到机体1的内部,使得金属板材21到达抛光部2的内部,然后将抛光液加入到抛光区的内部,相邻两组第一变频电机12和相邻两组二变频电机13的旋转方向相反,第一抛光布8采用有聚氨脂和二氧化铈的稀土材料涂布于高强耐磨布基表面而制成,第二抛光布16采用精密研磨微粉涂布于高强耐磨布基表面而制成,启动第一变频电机12,带动第一旋转轴11和第一旋转盘9的转动,从而使得第一抛光布8对金属板材21的表面进行粗制抛光,由于相邻两组第一变频电机12的旋转方向相反,从而可以带动金属板材21向前运动,使得金属板材21到达第二抛光布16之间,启动二变频电机13,带动第二旋转轴14和第二旋转盘15的转动,从而使得第二抛光布16对金属板材21的表面进行精制抛光,由于相邻两组第二变频电机13的旋转方向相反,从而可以带动金属板材21向前运动,最后从出板空心口18推出,完成整个抛光。为了精简本公开并帮助理解各个发明方面中的一个或多个,在上面对本发明的示例性实施例的描述中,本发明的各个特征有时被一起分组到单个实施例或者对其的描述中。然而,并不应将该公开的方法解释成反映如下:即所要求保护的本发明要求比在每个权利要求中所明确记载的特征更多特征。更确切地说,如下面的权利要求书所反映的那样,发明方面在于少于前面公开的单个实施例的所有特征。因此,遵循具体实施方式的权利要求书由此明确地并入该具体实施方式,其中每个权利要求本身都作为本发明的单独实施例。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

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