技术总结
本实用新型公开了一种湿法面接触柔性高效抛光机，包括机架，所述机架设有：磨抛模块，其包括环流磨机构及加水机构，所述环流磨机构包括：磨头支架；主轴；公转盘；公转电机；磨具模组，其包括磨具中轴、磨具基座、虚实结合弹性体和水磨碟；所述加水机构将外设的水源引至所述出水口往公转盘下方注出；所述机架上还设有输送模块。通过合理配置磨抛生产线上的各个机构，从而实现陶瓷石材的湿法面接触柔性高效抛光工序，使得磨块与工件表面一直保持面接触状态，有效提高加工效率，避免形成波纹面，相应地，减少加工单位时间也起到了节约用水的效果。磨抛生产线上的输送皮带稳定、不走偏，依托免修正耐磨底板能够贴合工件表面，降低损件率。
技术研发人员：龙其瑞;黄军;龙伍洋
受保护的技术使用者：广东工科机电有限公司
文档号码：201720196475
技术研发日：2017.03.01
技术公布日：2017.10.20