本实用新型涉及一种旋转铬硅靶材，是用来生产功能薄膜的产品，属于功能材料领域。
背景技术：
磁控溅射靶材是制作多种功能薄膜的重要材料，在很多领域有着非常重要的应用，并且应用的行业越来越广泛。旋转靶材的材料利用率能达到80%，是平面靶材利用率的2-3倍，并且溅射效率高，得到了越来越普遍的应用。旋转靶材的安装方式与平面靶材不同，要求更苛刻，这就要求旋转靶材的端口需要设计更可靠，才能够安装到真空磁控溅射镀膜设备上，满足溅射工艺苛严格的要求。并且，更换大型旋转靶材会耗费大量的时间和人工，增加的生产成本。
目前，铬硅靶材通常用等离子喷涂的生产工艺来制作，用铬和硅的粉末经过混合，经等离子火焰加热到熔化或半熔融状态，以一定的速度撞击的基体表面，逐渐沉积成一定的厚度，制成靶材。这种方法成本较低，生产效率高，但是，其密度低，氧氮含量高，导致真空磁控溅射时容易出现起弧、掉渣等现象，严重影响了镀膜的质量，导致膜层较软，易受到腐蚀和氧化变色，甚至膜层中有很多黑色颗粒，制约了其使用范围。
技术实现要素：
本实用新型旨在解决上述问题，提供一种旋转铬硅靶材，其安装方便省时，与设备连接的可靠性高，在长时间的工作过程中，能够稳定的旋转，均匀的溅射，不会产生起弧现象，并且杜绝了气孔和积瘤的产生。
按照本实用新型提供的技术方案，所述旋转铬硅靶材，包括背管，背管外设有钎焊层，钎焊层外设有铬硅合金管；背管的一端设有内密封面和卡槽，背管的另一端设有定位槽和法兰。
进一步的，所述背管内壁的两端设有导向斜面。
进一步的，所述铬硅合金管的两端设有防裂倒角和溅射过渡区。
进一步的，所述铬硅合金管中部的厚度为3-15毫米。
进一步的，所述钎焊层为铟层。
进一步的，所述背管为304不锈钢背管。
与现有技术相比，本实用新型的优点在于：背管的一端设有内密封面和卡槽，另一端设置有定位槽和法兰，装卸方便，与设备连接的可靠性高；采用的是内密封方式，背管受力很小，几乎不会产生变形，避免了背管变形导致的靶材开裂现象；背管两端设置有导向斜面，密封圈能很容易的进入到内密封区域；铬硅合金管用铟层绑定在不锈钢背管的外部，导热性好，可靠性高；密度高，氧氮含量低，铬硅合金管两端还设置有防裂倒角和溅射过渡区，溅射过程稳定，膜层均匀，不会产生起弧现象，并且杜绝了气孔和积瘤的产生，耐腐蚀性强；使用寿命长，减少了停机更换靶材的次数，降低了企业的成本，提高了其生产效率。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图2为图1中A处结构放大图。
图3为图1中B处结构放大图。
附图标记说明：1-背管、2-内密封面、3-卡槽、4-防裂倒角、5-铬硅合金管、6-钎焊层、7-定位槽、8-法兰、9-溅射过渡区、10-导向斜面。
具体实施方式
下面结合具体实施例和附图对本实用新型作进一步说明。
如图所示：一种旋转铬硅靶材，包括背管1，背管1外设有钎焊层6，钎焊层6外设有铬硅合金管5，钎焊层6可以为铟层。背管1的一端设有内密封面2和卡槽3，背管1的另一端设有定位槽7和法兰8，以便和生产设备连接。背管1内壁的两端设有导向斜面10，密封圈能很容易的进入到内密封区域。铬硅合金管5的两端设有防裂倒角4和溅射过渡区9。铬硅合金管5中部的厚度为3-15毫米，其采用铬和硅的粉混合均匀，其中铬含量为30%-70%，硅含量为30%-70%，之后采用热等静压的方法压制成坯料，再经机加工制成符合尺寸要求的和金管。背管1为304不锈钢背管，其可靠性高，能重复利用，也没有磁性，不会影响到使用时放置在内部的磁铁的磁场强度。
本实用新型安装方便省时，与设备连接的可靠性高，在长时间的工作过程中，能够稳定的旋转，均匀的溅射，不会产生起弧现象，并且杜绝了气孔和积瘤的产生；由于此靶材采用的是内密封方式，背管受力很小，几乎不会产生变形，避免了背管变形导致的靶材开裂现象。