1.一种气相沉积设备，其特征在于：包括驱动装置、腔体(1)和设置在所述腔体(1)内部的基座(2)、喷淋头(4)和至少三个顶杆(5)；所述腔体(1)的底部设置有穿孔，所述驱动装置穿过所述穿孔与所述基座(2)传动连接；所述喷淋头(4)设置在所述基座(2)的上方，所述基座(2)上设置有与所述顶杆(5)的数量相匹配的通孔，所述顶杆(5)的底端穿过所述通孔并竖直的设置在所述腔体(1)的底面，所述顶杆(5)的顶端设置有石墨涂层。
2.根据权利要求1所述的一种气相沉积设备，其特征在于：所述顶杆(5)上套设有套管(6)，且所述套管(6)的顶端与所述基座(2)的底面连接；所述套管(6)的上部的圆周侧壁上均匀的设置有至少两个第一贯通口(71)，所述套管(6)的下部的圆周侧壁上均匀的设置有至少两个第二贯通口(72)，且所有的所述第一贯通口(71)与所述第二贯通口(72)内均转动设置有滑辊(8)，所述滑辊(8)与所述顶杆(5)的圆周侧壁相切，且所述滑辊(8)沿所述顶杆(5)的长度方向滚动。
3.根据权利要求2所述的一种气相沉积设备，其特征在于：所述第一贯通口(71)的数量为四个。
4.根据权利要求3所述的一种气相沉积设备，其特征在于：所述第二贯通口(72)的数量为四个。
5.根据权利要求4所述的一种气相沉积设备，其特征在于：所述通孔包括连通的上通孔(91)和下通孔(92)，所述上通孔(91)的尺寸与所述顶杆(5)的尺寸相匹配，所述下通孔(92)的尺寸与所述套管(6)的尺寸相匹配。
6.根据权利要求5所述的一种气相沉积设备，其特征在于：所述套管(6)的顶部设置有环形的凸台(10)，且所述下通孔(92)的顶部设置与所述凸台(10)相匹配的凹槽。
7.根据权利要求6所述的一种气相沉积设备，其特征在于：所述套管(6)通过连接件固定在所述基座(2)上。
8.根据权利要求1-7中任一项所述的一种气相沉积设备，其特征在于：所述驱动装置包括电机(32)、传动机构和驱动杆(31)，且所述电机(32)输出端通过所述传动机构与所述驱动杆(31)输入端传动连接，所述驱动杆的输出端与所述基座(2)连接。
9.根据权利要求1所述的一种气相沉积设备，其特征在于：所述顶杆(5)的顶部设置有垫块(11)，所述垫块(11)由碳化硅制成，且所述垫块(11)的外表面设置有石墨涂层。
10.根据权利要求9所述的一种气相沉积设备，其特征在于：所述基座(2)的顶面设置有与所述垫块(11)相匹配的沉槽(12)。